ПАТЕНТНЫЙ ПОИСК В РФ
НОВЫЕ ПАТЕНТЫ, ЗАЯВКИ НА ПАТЕНТ
БИБЛИОТЕКА ПАТЕНТОВ НА ИЗОБРЕТЕНИЯ

Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей – G03F

Раздел G ФИЗИКА
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 1/00 Подготовка оригиналов для фотомеханического изготовления рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком
фотомеханические процессы вообще  7/00
G03F 3/00 Цветоделение изображения; исправление тональности негативов или позитивов
устройства для фотопечатания  G 03B
G03F 5/00 Растровые процессы; растры
G03F 7/00 Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
использующие фоторезистные структуры для специальных процессов см. соответствующие подклассы, например  B 44CH 01L, а также рубрики, например  H 01L 21/00H 05K
G03F 9/00 Фиксация или размещение оригиналов, масок, растров, фотографических листов или рельефных или текстурированных поверхностей, например автоматически
 7/22 имеет преимущество, подготовка фотографических масок  1/00; внутри фотопечатающих устройств для изготовления копий  G 03B 27/00

Патенты в данной категории

СПОСОБ ЭЛЕКТРОХИМИЧЕСКОЙ РЕНТГЕНОВСКОЙ БЕСКОНТАКТНОЙ ЛИТОГРАФИИ

Изобретение относится к области нанотехнологии, описывает способ электрохимического структурирования поверхности материалов и может быть использовано при изготовлении элементов микроэлектроники, однослойных и многослойных печатных плат, оптических элементов, а также других тонкопленочных структур. Сущность изобретения заключается в проведении гальванической обработки материала при одновременном облучении поверхности рабочего электрода рентгеновским излучением. Технический результат - возможность локального (с точностью до 10 нм) ускорения/замедления процессов, протекающих на интерфейсе электрод/электролит. 8 з.п. ф-лы, 5 ил.

2529592
выдан:
опубликован: 27.09.2014
СВЕТОЧУВСТВИТЕЛЬНАЯ ПОЛИМЕРНАЯ КОМПОЗИЦИЯ, СПОСОБЫ ПОЛУЧЕНИЯ СТРУКТУРЫ И ГОЛОВКА ДЛЯ ПОДАЧИ ЖИДКОСТИ

Изобретение относится к светочувствительной полимерной композиции, пригодной для получения различных микроустройств для микроэлектромеханических систем и других систем, а также к способу получения структуры и к головке для подачи жидкости. Полимерная композиция содержит следующие компоненты: (a) эпоксидную смолу, которая может полимеризоваться в присутствии кислоты; (b) агент, генерирующий фотокислоту, содержащий ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (b1), и структуру анионной части, представленную формулой (b2),

2526258
выдан:
опубликован: 20.08.2014
РАСТВОРИТЕЛЬ ДЛЯ ВЫМЫВАНИЯ ПОЛИМЕРА И ЕГО ПРИМЕНЕНИЕ ДЛЯ ОБРАБОТКИ ФЛЕКСОГРАФИЧЕСКОЙ ПЕЧАТНОЙ ФОРМЫ

Изобретение относится к растворителю для вымывания полимера и его использованию для обработки флексографической печатной формы. Растворитель включает 10-25 мас.% сложноэфирного углеводородного компонента, 50-75 мас.% простоэфирного углеводородного компонента и 10-25 мас.% спиртового углеводородного компонента. Растворитель применяют для обработки флексографической печатной формы на стадии промывки. Растворитель обладает менее опасными свойствами, чем известные растворители. Использование растворителя позволяет сократить время вымывания неотвержденного полимера из формы, при этом фактически никакого набухания формы после промывки не происходит, а также сократить время высушивания формы. 2 н. и 14 з.п. ф-лы, 1 табл., 1 пр.

2523810
выдан:
опубликован: 27.07.2014
АНТИОТРАЖАЮЩЕЕ ОПТИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО И СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ЭТАЛОННОЙ ФОРМЫ

Устройство содержит основание и множество выпуклых или вогнутых структурных элементов, расположенных на поверхности основания с шагом, равным или меньше, чем длина волны видимого света. Структурные элементы формируют множество линий дорожек и формируют структуру четырехугольной или квазичетырехугольной решетки. В одном варианте каждый структурный элемент имеет форму эллиптического или усеченного эллиптического конуса, длинная ось которого параллельна линии дорожки. В другом варианте отношение ((2r/P1)×100) диаметра 2r к шагу P1 размещения составляет 127% или больше, где P1 - шаг размещения структурных элементов на одной и той же дорожке, и 2r - диаметр нижней поверхности структурного элемента в направлении дорожки. При осуществлении способа формируют слой резиста на периферийной поверхности эталонной формы, имеющей вид колонны или цилиндра, формируют скрытые изображения путем прерывистого облучения лазерным лучом слоя резиста при вращении эталонной формы с относительным перемещением пятна лазерного луча параллельно ее центральной оси, формируют структуру резиста путем его проявления и формируют структурные элементы травлением, используя структуру резиста в качестве маски. Технический результат - улучшение антиотражающей характеристики. 7 н. и 5 з.п. ф-лы, 6 табл., 67 ил.

2523764
выдан:
опубликован: 20.07.2014
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПРЕЦИЗИОННОГО ФОТОЛИТОГРАФИЧЕСКОГО РИСУНКА НА ЦИЛИНДРИЧЕСКУЮ ПОВЕРХНОСТЬ ОПТИЧЕСКОЙ ДЕТАЛИ И ПРИСПОСОБЛЕНИЕ ДЛЯ КОНТАКТНОГО ЭКСПОНИРОВАНИЯ ИЗОБРАЖЕНИЯ ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Изобретение относится к области оптико-электронного приборостроения и предназначено для нанесения фотолитографического рисунка на рабочую поверхность цилиндрических диафрагм оптико-механического блока в сканирующем устройстве для выработки кодового сигнала управления ориентацией по Солнцу космических аппаратов. Способ и устройство для реализации способа включает этапы нанесения хромового покрытия на подложку, имеющую заданный радиус кривизны R, из оптического стекла вакуумным напылением, нанесение капельным способом слоя позитивного фоторезиста на рабочую поверхность вращающейся подложки, размещенной в центрифуге, сушку и термообработку до полной полимеризации слоя фоторезиста и контактное экспонирование изображения с фотошаблона путем совмещения и фиксации его с рабочей поверхностью полученной заготовки и последующую засветку слоя фоторезиста от источника УФ-излучения.

Технический результат - обеспечение возможности равномерного нанесения слоя фоторезиста на рабочую поверхность подложки из оптического стекла с заданным радиусом кривизны, обеспечение точного совмещения и фиксации рабочей поверхности, полученной после нанесения фоторезиста заготовки оптической детали с последующей равномерной засветкой слоя фоторезиста источником УФ-излучения. 2 н. и 7 з.п. ф-лы, 6 ил.

2519872
выдан:
опубликован: 20.06.2014
ПОЛИУРЕТАНОВЫЙ СОСТАВ И ЕГО ПРИМЕНЕНИЕ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ГОЛОГРАФИЧЕСКИХ СРЕД

Настоящее изобретение относится к полиуретановому составу для получения голографических сред. Данный состав включает: A) полиизоцианатный компонент; B) изоцианат-реакционно-способный компонент, включающий, по меньшей мере, 50 вес.% в расчете на общую смесь B) полиэфирполиолов В1) со среднечисленными молекулярными весами больше 1000 г/моль, которые имеют показатель преломления nD 20<1,55 и содержат одно или несколько оксиалкильных звеньев формул (I)-(III):

-СН2-СН 2-О- (I)

-CH2-CH(R)-O- (II)

-СН2-СН2-СН2 О- (III),

при этом R является алкильным или арильным остатком, который может быть замещен или прерван гетероатомами; C) соединения, которые имеют показатель преломления nD 20>1,55 и содержат группы, реагирующие при действии актиничного излучения с этилен-ненасыщенными соединениями с полимеризацией (отверждаемые излучением группы), и сами не содержат NCO-групп; D) стабилизаторы радикалов; E) фотоинициаторы; F) при необходимости катализаторы; G) при необходимости вспомогательные вещества и добавки. Также описаны способ получения сред для записи визуальных голограмм, сама среда для записи визуальных голограмм, применение такой среды и способ записи голограммы. Технический результат заключается в получении полиуретанового состава, который без ущерба со стороны совместимостей матричного полимера и записывающего мономера обеспечивает лучшее соотношение контраста и улучшенную яркость голограмм. 5 н. и 6 з.п. ф-лы, 2 ил., 7 пр.

2518125
выдан:
опубликован: 10.06.2014
ФОРМИРОВАНИЕ РИСУНКА

Изобретение относится к способу формирования рисунка электронного или фотонного материала на подложке, применению фторполимера в приготовлении снабженного рисунком электронного или фотонного материала на подложке, способу изготовления электронного прибора на подложке, а также к электронному или фотонному прибору. Способ формировании рисунка электронного или фотонного материала на подложке включает: образование пленки упомянутого электронного или фотонного материала на упомянутой подложке и использование фторполимера для защиты областей упомянутого электронного или фотонного материала во время процесса формирования рисунка. Технический результат - разработка способа формирования рисунка высокого разрешения, который применяется для широкого круга обрабатываемых в растворах органических материалов и легко интегрируется во все обычные архитектуры тонкопленочных транзисторов (TFT) без нарушения рабочих характеристик приборов. 6 н. и 38 з.п.ф-лы, 18 ил.

2518084
выдан:
опубликован: 10.06.2014
ФОТОПОЛИМЕРНАЯ КОМПОЗИЦИЯ И ЕЕ ПРИМЕНЕНИЕ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГОЛОГРАФИЧЕСКИХ СРЕД

Настоящее изобретение относится к фотополимерной композиции для изготовления голографических сред, включающей трехмерно-сшитые органические полимеры A) или их предшественники в качестве матрицы, а также соединения B), содержащие группы, которые при действии актиничного излучения реагируют с ненасыщенными соединениями с этиленовыми фрагментами с образованием полимеров (радиационно-отверждаемые группы), и которые растворены в этой матрице или находятся в ней в распределенном состоянии, а также компонент C), представляющий собой, по меньшей мере, один фотоинициатор, при этом плотность полимерной сшивки органического полимера, выраженная через среднюю молекулярную массу MC двух сегментов, соединенных полимерными мостиками, составляет величину от 2685 г/моль до 55000 г/моль. Также описаны среда, подходящая для записи визуальных голограмм, применение такой среды и способ ее облучения. Технический результат заключается в разработке фотополимерных композиций для использования в качестве голографических сред, которые могут производится без последующей термической или мокрой химической обработки, и с применением которых могут получаться бесцветные после облучения голограммы с высокой дифракционной эффективностью и высокой яркостью. 4 н. и 9 з.п. ф-лы, 3 ил., 4 табл.

2515991
выдан:
опубликован: 20.05.2014
ПОЛИУРЕТАНОВАЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГОЛОГРАФИЧЕСКИХ СРЕД, ЕЕ ПРИМЕНЕНИЕ, СПОСОБ ЗАПИСИ ГОЛОГРАММ И НЕНАСЫЩЕННЫЕ УРЕТАНЫ

Настоящее изобретение относится к полиуретановой композиции для изготовления голографических сред, включающей компонент записывающего мономера a), содержащий в качестве записывающих мономеров, в пересчете на всю композицию, по меньшей мере, 10% масс. одного или нескольких ненасыщенных уретанов a) из группы соединений формул (I) и (III), а также полимерные соединения или соответствующие предшественники матрицы, образованные из изоцианатного компонента b), реакционноспособного по отношению к изоцианатам компонента c), а также одного или несколько фотоинициаторов d) в качестве матрицы для записывающих мономеров

2515977
выдан:
опубликован: 20.05.2014
ПОЛИУРЕТАНОВЫЕ КОМПОЗИЦИИ НА ОСНОВЕ ФОРПОЛИМЕРА ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГОЛОГРАФИЧЕСКИХ СРЕД

Настоящее изобретение относится к полиуретановой композиции для изготовления голографических сред. Композиция содержит: (A) полиизоцианатный компонент, содержащий по меньшей мере один полиуретановый форполимер с терминальными NCO-группами исключительно на основе олигомерных или полимерных дифункциональных соединений, реакционноспособных по отношению к изоцианатам, со среднечисленными молекулярными массами от 200 до 10000 г/моль, у которого NCO-группы являются связанными с первичными остатками, (B) полимеры, реакционноспособные по отношению к изоцианатам, (C) соединения, содержащие группы, которые при действии актиничного излучения реагируют с этиленненасыщенными соединениями с полимеризацией (радиационно отверждаемые группы), а сами не содержат NCO-групп, (D) стабилизаторы радикалов и (Е) фотоинициаторы, причем соединения, используемые в компоненте С), имеют показатель преломления n D 20>1,55. Также описаны способ изготовления среды для записи визуальных голограмм, применение такой среды и способ записи голограммы. Технический результат заключается в получении новой полиуретановой композиции, в которой обеспечивается хорошая совместимость полимерной матрицы с записывающим мономером и другими компонентами, содержащимися в композиции, что приводит к улучшению яркости голограмм. 4 н. и 8 з.п. ф-лы, 2 ил., 7 пр.

2515549
выдан:
опубликован: 10.05.2014
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ЭЛЕКТРОННОГО УСТРОЙСТВА

Изобретение относится к технологии полупроводниковых устройств. В способе формирования электронного устройства удаляют фоторезист с по меньшей мере одной поверхности проводящего слоя с использованием смеси реактивов, которая содержит первый материал самоорганизующегося монослоя и реактив для удаления фоторезиста, таким образом осаждают самоорганизующийся монослой на по меньшей мере одну поверхность указанного проводящего слоя и осаждают полупроводниковый материал на самоорганизующийся монослой, нанесенный на проводящий слой, без озонной очистки проводящего слоя. Техническим результатом изобретения является упрощение способа формирования электронного устройства. 2 н. и 13 з.п. ф-лы, 4 ил.

2515340
выдан:
опубликован: 10.05.2014
ПОЛИУРЕТАНОВЫЙ СОСТАВ И ЕГО ПРИМЕНЕНИЕ ДЛЯ ПОЛУЧЕНИЯ ГОЛОГРАФИЧЕСКИХ СРЕД

Настоящее изобретение относится к полиуретановому составу для получения голографических сред. Данный состав включает: A) полиизоцианатный компонент; B) изоцианатреакционноспособный компонент, включающий гидроксифункциональные мультиблочные сополимеры В1) типа Y(Xi-Н)n с i=от 1 до 10 и n=от 2 до 8 и среднечисленными молекулярными весами более 1000 г/моль, при этом сегменты Xi построены соответственно из алкиленоксидных звеньев формулы (I):

-CH2-CH(R)-O- формула (I), при этом R представляет собой водород, алкильный или арильный остаток, который может быть замещен или прерван гетероатомом (например, эфирными кислородами), Y лежащий в основе стартер и доля сегментов Хi относительно общего количества сегментов Xi и Y составляет, по меньшей мере, 50 вес.%; C) соединения, которые имеют показатель преломления nD 20>1,55 и содержат группы, реагирующие при действии актиничного излучения с этилен-ненасыщенными соединениями с полимеризацией (отверждаемые излучением группы) и сами не содержат NСО-групп; D) стабилизаторы радикалов; Е) фотоинициаторы; F) при необходимости, катализаторы; G) при необходимости, вспомогательные вещества и добавки. Также описаны способ получения сред для записи визуальных голограмм, среда для записи визуальных голограмм, применение такой среды и способ записи голограммы. Технический результат заключается в получении полиуретанового состава, который без ущерба со стороны совместимостей матричного полимера и записывающего мономера обеспечивает лучшее соотношение контраста и улучшенную яркость голограмм. 5 н. и 7 з.п. ф-лы, 2 ил., 5 пр.

2510666
выдан:
опубликован: 10.04.2014
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ФОТОРЕЗИСТА МЕТОДОМ ЦЕНТРИФУГИРОВАНИЯ

Изобретение относится к оборудованию для электронной промышленности, а именно к оборудованию для нанесения фоторезиста на подложки методом центрифугирования. Технический результат - уменьшение времени изготовления и увеличение выхода годных изделий - достигается тем, что устройство для нанесения фоторезиста содержит защитный корпус с крышкой, держатель подложек, гайки, вал центрифуги. Защитный корпус закреплен на валу центрифуги. Держатель подложек установлен на вал центрифуги и закреплен гайками. Держатель подложек содержит основание, крышку, ограничительные штифты и заливочные отверстия. На внутренних поверхностях основания и крышки держателя выполнены сквозные пазы со ступенчатой боковой поверхностью для установки подложек. На периферийных частях держателя подложек установлены ограничительные штифты. В крышке держателя подложек выполнены дозировочные отверстия. 1 з.п. ф-лы, 3 ил.

2509390
выдан:
опубликован: 10.03.2014
УСТРОЙСТВО ЭКСПОНИРОВАНИЯ, ЖИДКОКРИСТАЛЛИЧЕСКОЕ УСТРОЙСТВО ОТОБРАЖЕНИЯ И СПОСОБ ДЛЯ ПРОИЗВОДСТВА ЖИДКОКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО УСТРОЙСТВА ОТОБРАЖЕНИЯ

Изобретение относится к устройству экспонирования, жидкокристаллическому устройству отображения и способу для производства жидкокристаллического устройства отображения. Это изобретение является устройством экспонирования для экспонирования фотоориентирующей пленки, предоставленной на подложке. Устройство экспонирования включает в себя источник света и фотомаску и экспонирует фотоориентирующую пленку через фотомаску, сканируя при этом источник света или подложку. Когда направление, в котором сканируется источник света или подложка, выбирается в качестве направления сканирования, а направление, которое ортогонально направлению сканирования, выбирается в качестве вертикального направления, фотомаска включает в себя первую область и вторую область, которая граничит с первой областью в вертикальном направлении. Первая область включает в себя множество первых прозрачных частей внутри первой светозащитной части. Множество первых прозрачных частей размещается в вертикальном направлении. Вторая область включает в себя множество вторых прозрачных частей внутри второй светозащитной части. Множество вторых прозрачных частей меньше множества первых прозрачных частей. Множество вторых прозрачных частей размещается в вертикальном направлении и дискретно рассредоточено в направлении сканирования. Технический результат - предоставить устройство экспонирования, которое может препятствовать визуальному распознаванию неравномерности отображения на участке стыка, даже если сканирование временно останавливается во время сканирующего экспонирования. 3 н. и 25 з.п. ф-лы, 36 ил.

2509327
выдан:
опубликован: 10.03.2014
СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО КРЕМНИЯ ОРИЕНТАЦИИ (111)

Изобретение относится к области микроэлектроники, фотовольтаики, к не литографическим технологиям структурирования кремниевых подложек, в частности к способам структурирования поверхности монокристаллического кремния с помощью лазера. Способ согласно изобретению включает обработку поверхности монокристаллического кремния ориентации (111) с помощью импульсного излучения лазера, сфокусированного перпендикулярно поверхности обработки с длительностью импульса 15 нс, при этом предварительно монокристаллический кремний ориентации (111) помещают в ультразвуковую ванну и обрабатывают в спирте в течение 30 минут, а обработку лазером ведут импульсами с длиной волны 266 нм и частотой 6 Гц, при этом число импульсов составляет 5500-7000 с плотностью энергии на обрабатываемой поверхности 0,3 Дж/см2. Изобретение обеспечивает формирование периодических пирамидальных структур на поверхности монокристаллического кремния, имеющих монокристаллическую структуру и три кристаллографические грани ориентации (111). 1 табл., 5 ил.

2501057
выдан:
опубликован: 10.12.2013
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МНОГОСЛОЙНЫХ МЕТАЛЛИЧЕСКИХ ЭЛЕМЕНТОВ С ПОМОЩЬЮ ПРОЦЕССОВ, ИСПОЛЬЗУЮЩИХ УЛЬТРАФИОЛЕТОВОЕ ИЗЛУЧЕНИЕ

Изобретение относится к способу изготовления многослойной металлической структуры с помощью ультрафиолетовой литографии и гальванического осаждения. Согласно способу проводящую поверхность подложки покрывают первым слоем фоточувствительной смолы и обрабатывают с помощью излучения через маску, которая согласуется с требуемой фасонной выемкой. В результате проявления первого слоя получают первый уровень формы из смолы с отверстиями, которые открывают проводящую поверхность подложки. Далее осаждают новый слой фоточувствительной смолы сверху проявленного. Новый слой также обрабатывают с помощью излучения через маску, которая согласуется с требуемой фасонной выемкой. В результате проявления нового слоя получают многоуровневую форму из смолы с отверстиями, которые открывают проводящую поверхность подложки. В отверстия многоуровневой формы производят гальваническое осаждение металла или сплава. Подложку отделяют и удаляют слои смолы для открывания многослойной металлической структуры, образованной вышеуказанным металлом или сплавом, полученным посредством осаждения в отверстия. Технический результат - обеспечение оптимальной регуляции температуры и продолжительности термообработки. 8 з.п. ф-лы, 13 ил.

2496129
выдан:
опубликован: 20.10.2013
НЕГАТИВНАЯ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНАЯ ПОЛИМЕРНАЯ КОМПОЗИЦИЯ, СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ПАТТЕРНА И ГОЛОВКА ДЛЯ ВЫБРАСЫВАНИЯ ЖИДКОСТИ

Изобретение относится к фоточувствительной композиции смолы, используемой для получения головки для выбрасывания жидкости для генерирования капли жидкости, например капли краски, а также к способу формирования паттерна и к головке для выбрасывания жидкости. Фоточувствительная композиция включает катионно-полимеризуемое соединение, фотогенератор кислоты, имеющую анионную часть и катионную часть, а также соль, имеющую катионную часть, обладающую любой одной из четвертичной структурой аммония или четвертичной структурой фосфония, и анионную часть. При этом анионная часть соли замещена анионной частью первой кислоты, полученной из анионной части фотогенератора кислоты, для формирования второй кислоты, обладающей силой кислоты, меньшей, чем сила кислоты первой кислоты. Катионно-полимеризуемое соединение представляет собой эпоксидную смолу. Фотогенератор кислоты представляет собой, по меньшей мере, соединение, выбранное из группы, включающей соединение сульфоновой кислоты и другие производные сульфоновой кислоты, диазометановое соединение, соединение соли сульфония, соединение соли йодония, сульфонимидное соединение, дисульфоновое соединение, нитробензольное соединение, бензоинтозилатное соединение, ареновый комплекс железа, галогенсодержащее соединение триадина, производное соединение ацетофена, и содержащий цианогруппу сульфатоксим. Способ формирования паттерна заключается в том, что готовят подложку, на которой предоставлена фоточувствительная композиция. Затем проводят экспонирование участка композиции светом для отверждения экспонированной части. Далее отвержденную часть нагревают. Головка для выбрасывания жидкости включает часть с выпускным каналом для выбрасывания жидкости. Часть с выпускным каналом сформирована из отвержденного материала, выполненного из вышеуказанной композиции. Изобретение позволяет повысить термостойкость фоточувствительной композиции и повысить точность формирования паттерна. 3 н. и 10 з.п. ф-лы, 5 табл., 4 ил., 9 пр.

2495468
выдан:
опубликован: 10.10.2013
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТРЕХМЕРНЫХ ОБЪЕКТОВ

Способ относится к области формирования (синтеза) трехмерных объектов произвольной формы с использованием технологии интерференционной литографии. Способ получения трехмерных объектов произвольной формы методом интерференционной литографии включает осуществление предварительного расчета амплитуд и фаз интерферируемых когерентных волн по заданной форме объекта, освещение фоточувствительного материала последовательностью групп интерферирующих когерентных волн с получением трехмерного распределения плотности поглощенной световой энергии, проявление полученного фотоматериала и получение твердых трехмерных объектов. Технический результат заключается в обеспечении возможности синтеза трехмерных объектов произвольной формы с субволновым разрешением. 21 з.п. ф-лы, 9 ил.

2491594
выдан:
опубликован: 27.08.2013
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГОЛОГРАФИЧЕСКИХ ИЗОБРАЖЕНИЙ РИСУНКА

Изобретение относится к оптике. Исходный рисунок преобразуют в растр в цифровой форме и записывают информацию об амплитуде и фазе, характеризующих каждую точку растра как протяженный или точечный излучатель. Рассчитывают параметры физической структуры проекционной маски, которые используют для последующего расчета оптимизированного электромагнитного поля. Моделируют в цифровом виде процесс создания полем изображения топологии на фоточувствительном материале и оценивают совпадение модели цифрового растра изображения топологии с цифровым растром исходного рисунка. При несовпадении более заданного вносят коррекцию в параметры физической структуры проекционной маски, повторяя процедуру несколько раз до достижения заданного совпадения. Полученную в результате цифровую форму электромагнитного поля используют в качестве исходной для расчета цифрового растра голограммы и используют в качестве сигнала модуляции пучка излучения, формирующего дифракционную структуру на носителе. Технический результат - уменьшение отклонений геометрии получаемого рисунка от заданного, повышение контраста получаемого рисунка и снижение уровня шума в засвечиваемых и незасвечиваемых областях рисунка. 9 з.п.ф-лы.

2486561
выдан:
опубликован: 27.06.2013
БЕЗМЕТАЛЬНЫЙ ПРОЯВИТЕЛЬ ПОЗИТИВНОГО ФОТОРЕЗИСТА

Настоящее изобретение относится к фотолитографическому процессу формирования рельефных покрытий на функциональных поверхностях подложек для интегральных схем с помощью фоторезиста и, в частности, к безметальному проявителю позитивного фоторезиста. Безметальный проявитель позитивного фоторезиста содержит 1,0-5,0% водный раствор тетраметиламмония гидроксида или триметил(2-гидроксиэтил) аммоний гидроксида и фторсодержащее поверхностно-активное вещество, при рН раствора не менее 11. В качестве ПАВ используют соединения формулы: RfZQA, где

при n=3; m=1-3;Z=SO2;

Концентрация данного ПАВ в растворе от 10 до 100 ppm. Техническим результатом настоящего изобретения является создание безметального проявителя для позитивного фоторезиста на основе водного раствора органических щелочей и фторорганического ПАВ, улучшающего качество проявления топологической структуры и однородность воспроизведения топологических размеров. 1 з.п. ф-лы, 1 табл., 3 ил.

2484512
выдан:
опубликован: 10.06.2013
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ МАСКИРУЮЩЕГО ИЗОБРАЖЕНИЯ В ПОЗИТИВНЫХ ЭЛЕКТРОННЫХ РЕЗИСТАХ

Способ формирования маскирующего изображения в позитивных электронных резистах состоит в прямом травлении резиста непосредственно в процессе экспонирования пучком электронов в вакууме. В качестве резистов используют полимеры, способные к цепной деполимеризации (например, полиалкилметакрилаты, полиметилизопропенилкетон, поли-альфа-метилстирол). Экспонирование проводят в области температуры стеклования исходного полимера или при более высоких температурах. Технический результат состоит в значительном снижении дозы экспонирования и устранении необходимости введения в систему дополнительных реагентов. 1 з.п. ф-лы, 5 ил., 1 табл.

2478226
выдан:
опубликован: 27.03.2013
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ШТАМПА ДЛЯ НАНОИМПРИНТ ЛИТОГРАФИИ

Изобретение относится к микроэлектронике, к способам изготовления штампов для наноимпринт литографии с субмикронными и нанометровыми проектными нормами для использования при изготовлении полупроводниковых устройств. Сущность изобретения: для уменьшения неровности края воспроизводимого субмикронного либо наноразмерного рисунка на штампе и уменьшения стоимости изготовления штампа для наноимпринт литографии, штампы изготавливают на специальных круглых пластинах, имеющих линейные размеры, соответствующие линейным размерам кремниевых пластин, применяемых при изготовлении интегральных схем с аналогичными изготавливаемому штампу топологическими размерами. При этом перенос необходимой топологии на такие пластины осуществляют с использованием изготовленного, с применением прецизионного электронно-лучевого либо ионно-лучевого генератора изображений, шаблона для проекционной литографии с увеличенными в N раз размерами элементов рисунка, по сравнению с рисунком на штампе, и установки для проекционной литографии, уменьшающей в N раз размеры переносимого рисунка и предназначенной для переноса топологии данного уровня на кремниевые пластины. 10 з.п. ф-лы.

2476917
выдан:
опубликован: 27.02.2013
ФОТОПОЛИМЕРИЗУЮЩАЯСЯ КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ ПЕЧАТИ ПО ТЕКСТИЛЬНЫМ МАТЕРИАЛАМ

Изобретение относится к химии и технологии фотополимеризующихся композиций, а именно окрашенных композиций, предназначенных для печати по текстильным материалам с последующей фиксацией УФ-излучением. Фотополимеризующаяся композиция для печати по текстильным материалам включает (мет)акриловый олигомер, фотополимеризующийся (мет)акриловый мономер с более чем одной (мет)акрильной группой, фотоинициатор, соинициатор, (мет)акриловый полимер, неионогенное поверхностно-активное вещество, пеногаситель и окрашивающий компонент. При этом окрашивающим компонентом является продукт нанесения смеси красителей - катионных, прямых, кислотных, активных или дисперсных, выбранных из одного или разных классов, на наноструктурированные частицы монтмориллонита, или модифицированного катионным поверхностно-активным веществом монтмориллонита, или гидроталькита.

Техническим результатом изобретения является получение окрашенного текстильного материала с повышенной устойчивостью к физико-химическим воздействиям, снижение времени облучения, необходимого для прочной фиксации материала, увеличение содержания красителей на наноструктурированных частицах, получение дополнительных колористических эффектов, а также изменение выпускной формы окрашенных наноструктурированных частиц, облегчающее их последующее диспергирование в олигомер/мономерной композиции. 2 табл., 44 пр.

2472197
выдан:
опубликован: 10.01.2013
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ФОТОШАБЛОНА ДЛЯ КОНТАКТНОЙ ФОТОЛИТОГРАФИИ С СУБМИКРОННЫМИ И НАНОМЕТРОВЫМИ ПРОЕКТНЫМИ НОРМАМИ

Изобретение относится к области микроэлектроники, а точнее к способам изготовления фотошаблонов для контактной фотолитографии с субмикронными и нанометровыми проектными нормами, и может быть использовано при изготовлении фотошаблонов для технологии изготовления акустоэлектронных устройств на поверхностных и объемных акустических волнах. Технический результат - к N раз уменьшение неровности края переносимого на фотошаблон для контактной фотолитографии изображения, по сравнению с неровностью края изображения на изготовленном рабочем фотошаблоне для проекционной фотолитографии, и сократить финансовые затраты на изготовление фотошаблона для контактной фотолитографии из-за формирования первичного изображения на рабочем фотошаблоне для проекционной фотолитографии в укрупненном в N раз масштабе и возможности многократного воспроизведения топологии рабочего фотошаблона на круглых пластинах, используемых в качестве фотошаблонных заготовок для контактной фотолитографии. Достигается тем, что в способе изготовления фотошаблонов для контактной фотолитографии с субмикронными и нанометровыми проектными нормами изготавливают фотошаблон для проекционной фотолитографии с увеличенными в N раз размерами по сравнению с размерами на изготавливаемом шаблоне для контактной фотолитографии и с использованием этого фотошаблона для проекционной фотолитографии и установок для проекционной фотолитографии, уменьшающих переносимый рисунок в N раз, переносят изображение на круглые пластины, изготовленные из прозрачного для ультрафиолетового излучения материала, имеющие линейные размеры, соответствующие линейным размерам кремниевых пластин, применяемых при изготовлении интегральных схем с использованием данных установок для проекционной фотолитографии, и на этих специальных круглых пластинах изготавливают фотошаблоны для контактной фотолитографии. 2 з.п. ф-лы, 1 пр.

2470336
выдан:
опубликован: 20.12.2012
РЕНТГЕНОЛИТОГРАФИЧЕСКИЙ ШАБЛОН И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Использование: для изготовления рентгенолитографических шаблонов. Сущность заключается в том, что при изготовлении рентгенолитографического шаблона осуществляют процессы формирования резистивной маски на рабочей поверхности исходной электропроводящей (или содержащей электропроводящие слои) подложки, процессы электроосаждения металлического рентгенопоглощающего слоя, при этом исходную подложку выполняют состоящей из двух деталей, выполненных из разных материалов: опорного кольца и внутреннего диска, который полностью удаляется селективным травлением на последних этапах изготовления шаблона. Технический результат: повышение контрастности и рентгенопрозрачности рентгенолитографического шаблона. 2 н. и 1 з.п. ф-лы, 3 ил.

2469369
выдан:
опубликован: 10.12.2012
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ РАСТРОВОГО КВАДРАТА С НЕРЕГУЛЯРНЫМ ЗАПОЛНЕНИЕМ ЯЧЕЕК ПЕЧАТНЫМИ ЭЛЕМЕНТАМИ

Изобретение относится к полиграфии и, в частности, к процессам преобразования полутонового оригинала в растровое изображение. Согласно способу в процессе формирования растрового изображения на носителе в качестве образца нерегулярного размещения печатных элементов по ячейкам растрового квадрата используют магический квадрат, извлекаемый из массива таких квадратов. Технический результат - повышение качества репродуцирования и исключение муара.

2466442
выдан:
опубликован: 10.11.2012
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПОДАЧИ ФОРМНЫХ ПЛАСТИН И ВЫПУСКА ПЕЧАТНЫХ ФОРМ, УСТРОЙСТВО ДЛЯ ФОРМИРОВАНИЯ ПЕЧАТНЫХ ФОРМ, ИСПОЛЬЗУЮЩЕЕ УПОМЯНУТОЕ УСТРОЙСТВО, И СТОЛ ДЛЯ ВЫПУСКА ПЕЧАТНЫХ ФОРМ

Изобретение относится к области полиграфии. Сущность изобретения заключается в том, что узел (4) подачи формных пластин и выпуска печатных форм, который подает формную пластину (Р1) в блок (3) рисования, принимает печатную форму (Р2), которая получена путем рисования изображения на формной пластине (Р1), из блока (3) рисования и выдает ее в устройство обработки. Узел (4) подачи формных пластин и выпуска печатных форм включает в себя стол (41) для подачи формных пластин, обеспечивающий плавучесть формной пластины (Р1) при атмосферном давлении, перемещает формную пластину (Р1) в состоянии, в котором обеспечивается ее плавучесть при атмосферном давлении, над столом (41) для подачи формных пластин и подает ее в блок (3) рисования. Технический результат - предотвращение повреждения формных пластин и печатных форм в устройстве для подачи формных пластин и выпуска печатных форм (устройстве для формирования печатных форм). 3 н. и 14 з.п. ф-лы, 30 ил.

2462743
выдан:
опубликован: 27.09.2012
ПОВТОРНОЕ ИСПОЛЬЗОВАНИЕ КРУПНОРАЗМЕРНОЙ ПОДЛОЖКИ ФОТОШАБЛОНА

Способ содержит следующие этапы. (i) Удаляют трафаретную экранирующую свет пленку с использованной крупноразмерной подложки фотошаблона для предоставления крупноразмерной формирующей фотошаблон заготовки стеклянной подложки, которая должна восстанавливаться. (ii) Повторно очищают поверхность заготовки стеклянной подложки с использованием технологического инструмента пескоструйной обработки. (iii) Повторно полируют подвергнутую повторной очистке поверхности заготовку стеклянной подложки для получения восстановленной заготовки стеклянной подложки. (iv) Накладывают экранирующую свет пленку на восстановленную заготовку стеклянной подложки для получения восстановленной крупноразмерной формирующей фотошаблон заготовки. (v) Обрабатывают экранирующую свет пленку этой заготовки в шаблон, соответствующий требуемому экспонированию маточного стекла, получая восстановленную подложку фотошаблона. Технический результат - улучшение точности экспонирования, особенно точности и разрешения совмещения. 5 з.п. ф-лы, 4 ил.

2458378
выдан:
опубликован: 10.08.2012
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МЕТАЛЛИЧЕСКОГО РИСУНКА В ПОВЕРХНОСТНОМ СЛОЕ СТЕКЛА

Изобретение относится к области производства интегральных схем, основанной на переносе изображения фотолитографическим способом с использованием фотошаблонов. Согласно способу на очищенную поверхность стекла наносят светочувствительный слой позитивного фоторезиста. В указанном слое с помощью фотолитографии формируют окна размерами 5-10 мкм. Поверхность просушивают и наносят второй слой металлсодержащего полимера с соотношением компонентов (%) ПММА - 5,0; хлороформ - 93,4; Cu(CF3COO)2 - 1,6. Производят термический отжиг в электропечи в течение 3 часов при Т=600°С и удаляют продукты сгорания. Технический результат - простота изготовления и повышенная износоустойчивость. 1 табл., 3 ил.

2456655
выдан:
опубликован: 20.07.2012
ИНДИКАТОРЫ ДОЗЫ УФ-ИЗЛУЧЕНИЯ

Изобретение относится к композиции, меняющей цвет в зависимости от дозы поглощенного излучения, и ее применению в качестве индикатора дозы УФ-излучения. Описывается композиция, меняющая цвет в зависимости от дозы поглощенного излучения. Композиция включает (а) чувствительный к воздействию кислоты краситель и (b) фотолатентную кислоту - сульфонилоксим формулы (IIа)

.

Описываются также способ определения дозы излучения и индикатор дозы УФ-излучения с использованием подложки с нанесенным покрытием указанной композицией. Изобретение обеспечивает эффективное определение дозы энергии на подложку, содержащую покрытие, и определение критических участков покрытия, для которых излучение недостаточно интенсивно для обеспечения достаточного отверждения. 3 н. и 8 з.п. ф-лы, 10 табл., 6 пр.

2453886
выдан:
опубликован: 20.06.2012
Наверх