Химическое нанесение покрытия путем разложения газообразных соединений, причем продукты реакции материала поверхности не остаются в покрытии, т.е. способы химического осаждения паров (ХОП): ....с использованием внешних электродов, например в реакторах туннельного типа – C23C 16/507

Изобретение относится к установке и способу плазменного осаждения для изготовления солнечных элементов (варианты). Установка включает в себя конвейер, имеющий продольную ось для поддержания, по меньшей мере, одной подложки; по меньшей мере, два модуля, каждый имеющий, по меньшей мере, одну плазменную горелку для проведения осаждения слоя продукта реакции на, по меньшей мере, одной подложке, по меньшей мере, одна плазменная горелка, располагающаяся на расстоянии от, по меньшей мере, одной подложки; камеру для вмещения конвейера и, по меньшей мере, двух модулей; и систему выпуска отработавших газов. В другом варианте установка включает в себя устройство для поддержания подложки, устройство для подачи реагентов, устройство плазменной горелки для проведения осаждения продукта на подложке, устройство плазменной горелки, располагающееся на расстоянии от подложки и устройство для осуществления колебания устройства плазменной горелки относительно подложки. 7 н. и 60 з.п. ф-лы, 8 ил.