Химическое нанесение покрытия путем разложения газообразных соединений, причем продукты реакции материала поверхности не остаются в покрытии, т.е. способы химического осаждения паров (ХОП): ...оксиды – C23C 16/40

Изобретение относится к нанесению покрытия на топливопроводящую деталь турбины, например на деталь газовой турбины. Покрытие наносят на поверхность детали из стали марки 16Мо3. Промежуточный слой нитрида титана наносят методом химического осаждения из газовой фазы при давлении от 20 мбар до 40 мбар в течение периода от 2 до 4 ч. Затем наносят верхний слой из -оксида алюминия при давлении от 80 мбар до 120 мбар в течение периода от 3 до 5 ч. Получается коррозионно-стойкое покрытие на поверхности детали газовой турбины. 3 н. и 8 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение относится к способу химического осаждения из паровой фазы для нанесения покрытия из оксида цинка, имеющего низкое удельное сопротивление, на прозрачное изделие и изделие с покрытием, изготовленное этим способом. Способ, в котором используют перемещаемую прозрачную основу с поверхностью, имеющей температуру не более 400°С, и подают смесь исходных веществ из газовой смесительной камеры. Смесь исходных веществ включает цинксодержащее соединение и одно или более кислородсодержащих соединений. Цинксодержащее соединение и соединения, являющиеся источником кислорода, перемешивают вместе в смесительной камере в течение промежутка времени менее 500 мс до выхода смеси исходных веществ из смесительной камеры и ее контакта с поверхностью подложки, так что на этой поверхности формируется покрытие из оксида цинка посредством химического осаждения из паровой фазы при атмосферном давлении и скорости осаждения по меньшей мере 5 нм/с. Получается покрытие, обладающее высоким коэффициентом пропускания излучения в видимой области спектра, низкой излучательной способностью и/или солнцезащитными свойствами, высокой электропроводностью или низким удельным поверхностным сопротивлением слоя. 2 н. и 15 з.п. ф-лы, 1 ил., 1 табл., 21 пр.

Изобретение относится к технологии получения нанокристаллических пленок рутила и может быть использовано при создании полупроводниковых приборов, а также при получении защитных и других функциональных покрытий. Способ включает формирование методом магнетронного распыления или электронно-лучевого испарения нанокристаллической пленки титана на оксидированной поверхности пластины из кремния и оксидирование пленки. Оксидирование осуществляют в окислительной газовой среде при импульсном облучении пленки титана фотонами с использованием импульсных ксеноновых ламп с диапазоном излучения 0,2-1,2 мкм в течение 1,6-1,8 с при длительности импульсов 10 ^-2 с и дозе поступающего на пленку излучения от 230 до 260 Дж·см^-2. Технический результат - увеличение скорости оксидирования, снижение термической нагрузки на подложку, повышение плотности получаемой пленки. 3 ил.

Изобретение относится к детали газотурбинного двигателя, термобарьерному покрытию (варианты) и способу защиты деталей от повреждений, связанных с воздействием песка. Термобарьерное покрытие состоит из чередующихся слоев окиси циркония, стабилизированной окисью иттрия, и слоев стойкого к воздействию расплавленных силикатов материала. Внешний слой, стойкий к воздействию расплавленных силикатов, может быть сформирован по меньшей мере из одной окиси, выбранной из группы, состоящей из окисей лантана, церия, празеодима, неодима, прометия, самария, европия, гадолиния, тербия, диспрозия, гольмия, эрбия, туллия, иттербия, лютеция, скандия, индия, циркония, гафния и титана, или может быть сформирован из окиси циркония, стабилизированной окисью гадолиния. Кроме того, между основой и системой термобарьерного покрытия может присутствовать металлическое связующее покрытие. 4 н. и 33 з.п. ф-лы, 2 ил.

Изобретение относится к химическому нанесению покрытий осаждением паров металлических соединений, используемых в микроэлектронике. Способ получения пленки диоксида кремния включает введение в реакционную зону тетраметоксисилана и кислорода в потоке инертного газа при объемном соотношении тетраметоксисилана к кислороду, равном 1:5-10. Разложение паров тетраметоксисилана в присутствии кислорода и осаждение пленки диоксида кремния на пластинах при температуре 380-500°С при атмосферном давлении в течение 10-30 минут. Осаждение проводят на кварцевых или кремниевых пластинах. Получается однородная пленка диоксида кремния, полученная с малыми затратами энергии и без применения токсичных веществ. 2 з.п. ф-лы.

Настоящее изобретение относится к подложкам, имеющим покрытие на основе оксида титана на, по меньшей мере, одной поверхности, и к способам для осаждения покрытий на основе оксида титана на поверхность подложки. Фотокаталитически активное покрытие, содержащее окись титана, химически осаждают из паровой фазы на стеклянную подложку. Стеклянная подложка контактирует с паром, содержащим тетраэтоксид титана или тетраизопропоксид титана, при температуре, которая является достаточно высокой для формирования покрытия на основе оксида титана. Пар дополнительно содержит сложный эфир карбоновой кислоты. Производят более тонкие покрытия на основе оксида титана, имеющие более низкое отражение, предпочтительно 12% или меньше, в то же время сохраняя фотоактивность и износостойкость. 5 н. и 18 з.п. ф-лы, 1 ил., 9 табл.

Изобретение относится к области радиоэлектроники и может быть использовано при изготовлении печатных плат, применяемых при конструировании радиоэлектронной техники. Предложенный способ включает нанесение диэлектрического оксидного покрытия на термостойкую пластину и получение методом фотолитографии рисунка электропроводящей схемы, причем после нанесения диэлектрического оксидного покрытия наносят металлическое покрытие с удельным сопротивлением 1 Ом·см толщиной 15-25 мкм, затем наносят защитное хорошо паяющееся металлорезистивное никелевое или кобальтовое покрытие толщиной 4-5 мкм, при этом в качестве диэлектрического оксидного покрытия используют оксидо-хромовое покрытие черного цвета толщиной не менее 8 мкм с удельным сопротивлением 1×10 ⁹ Ом·см. В частных случаях осуществления способа нанесение диэлектрического оксидного, затем металлического с удельным сопротивлением 1 Ом·см и защитного металлорезистивного хорошо паяющегося покрытий осуществляют на обе стороны термостойкой пластины и внутреннюю поверхность технологических отверстий; в качестве термостойкой пластины используют титановые или медные, или алюминиевые пластины; в качестве металлического покрытия с удельным сопротивлением 1 Ом·см осаждают медь или алюминий, или молибден. Техническим результатом изобретения является изготовление печатных плат с хорошо паяющейся элетропроводящей схемой, устойчивой к окислению, имеющей сопротивление 1 Ом·см. 3 з.п. ф-лы.