Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей: ....изготовление электродов на полупроводниковых подложках с использованием способов или устройств, не предусмотренных в  ,21/36 – H01L 21/44

МПКРаздел HH01H01LH01L 21/00H01L 21/44
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H01 Основные элементы электрического оборудования
H01L Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам
H01L 21/00 Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей
H01L 21/44 ....изготовление электродов на полупроводниковых подложках с использованием способов или устройств, не предусмотренных в  21/36

Патенты в данной категории

СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ ДНК-ГИДРОЛИЗУЮЩЕЙ АКТИВНОСТИ МОЛЕКУЛ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Данное изобретение относится к области биохимии и физики. Предложен способ определения ДНК-гидролизующей активности молекул и устройство для его осуществления. Способ предусматривает адсорбирование реакционной смеси, содержащей ДНК и тестируемые вещества, на рабочем электроде, модифицированном углеродными наноматериалами. Затем регистрируют и сравнивают величины сигналов окисления ДНК в составе реакционной смеси до выдерживания реакционной смеси (контроль) и после выдерживания реакционной смеси (опыт). Увеличение сигнала окисления ДНК свидетельствует о наличии ДНК-гидролизующей активности у тестируемой молекулы. Изобретение позволяет упростить и сократить продолжительность определения ДНК-гидролизующей активности молекул, повысить избирательность и чувствительность анализа при уменьшении его стоимости. 2 н. и 6 з.п. ф-лы, 6 ил.

2413768
патент выдан:
опубликован: 10.03.2011
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВОГО ПРИБОРА

Использование: в технологии производства полупроводниковых приборов. Технический результат изобретения - повышение адгезии в полупроводниковых структурах, обеспечивающее технологичность, улучшение параметров, повышение надежности и увеличение процента выхода годных структур. Сущность изобретения: в способе изготовления полупроводникового прибора, включающем последовательное формирование активных областей полупроводникового прибора, диоксида кремния и нанесения алюминиевой пленки, сформированную полупроводниковую структуру обрабатывают фотонами с энергией 20-35 эВ с интенсивностью потока фотонов 1011-1012 см-2 c-1 с последующим термостабилизирующим отжимом при температуре 300-400°С в течение 30-50 с. 1 табл.

2372689
патент выдан:
опубликован: 10.11.2009
ДАТЧИК ПЕРЕМЕЩЕНИЯ ЖИДКОСТЕЙ И ГАЗОВ

Изобретение относится к области микроэлектронных и микромеханических устройств и может быть использовано в качестве датчиков расхода и изменения уровней жидкостей и газов. Сущность: в кристалле датчика выполнены дополнительные сквозные отверстия. На поверхности отверстий выполнен диэлектрический слой, на который нанесен металлический слой. На обратной стороне кристалла выполнены дополнительные контактные площадки для посадки кристалла эвтектикой, соединенные с основными контактными площадками через металлический слой в отверстиях. При этом металлический слой на основных и металлических контактных площадках и в сквозных отверстиях нанесен на обе поверхности рамки основания в едином цикле под углом 45°-60° к поверхности рамки-основания для исключения разрывов металлизации на границе отверстий. 2 ил.

2291447
патент выдан:
опубликован: 10.01.2007
БЕСФЛЮСОВАЯ СБОРКА ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ИЗДЕЛИЙ РАЗМЕРОМ С КРИСТАЛЛ

Использование: в электромонтажной сборке и герметизации полупроводниковых изделий. Сущность изобретения: способ сборки полупроводниковых изделий включает формирование пар контактных столбиков на соответствующих поверхностях кристалла и подложки с межсоединениями. Каждый контактный столбик в каждой паре содержит верхнюю часть, включающую по меньшей мере один компонент из электропроводящего эвтектического сплава. По меньшей мере на одном из контактных столбиков в каждой паре формируют острые вертикальные пики. Кристалл и подложку с силой прижимают друг к другу, а контактные столбики нагревают до тех пор, пока острые пики не проникнут через оксидные пленки, имеющиеся на соответствующих противолежащих контактных столбиках в каждой паре, и не войдут в контакт с верхней поверхностью другого контактного столбика, инициируя, таким образом, плавление контактных столбиков. Затем контактные столбики охлаждают, обеспечивая затвердевание расплавленных частей с формированием электропроводящего соединения между каждой соответствующей парой контактных столбиков и герметизацию корпуса по периферии. Техническим результатом изобретения является обеспечение припаивания полупроводникового кристалла к подложке с использованием сплавов, имеющих относительно низкую температуру плавления, высокую прочность соединения после затвердевания и не являющихся вредными для окружающей среды. 3 н. и 13 з.п. ф-лы, 10 ил., 1 табл.

2262153
патент выдан:
опубликован: 10.10.2005
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ВЫСОКОЧАСТОТНОГО ПРИБОРА НА ЭФФЕКТЕ ГАННА С КАТОДОМ С ОГРАНИЧЕННОЙ ИНЖЕКЦИЕЙ ТОКА

Использование: в электронной технике, в технологии производства полупроводниковых приборов, для производства высокоэффективных приборов на эффекте Ганна с катодом с ограниченной инжекцией тока. Сущность изобретения: матрицы окон формируют прямоугольной формы в защитном маскирующем слое, причем ось симметрии прямоугольного окна, параллельная большей стороне прямоугольника, совпадает с одним из кристаллографических направлений [011] подложки. Проводят нанесение на поверхность слоя N-типа проводимости с маскирующим слоем первого слоя композиции эвтектического состава толщиной формирование методом обратной литографии матрицы микроскопических областей из композиции AuGe. Используя полученные области в качестве маскирующего покрытия, формируют углубление меза-структуры в N-слое полупроводника. Проводят нанесение второго слоя композиции эвтектического состава второй толщины, равной тощине первого слоя, нанесение последовательно слоя протекторного материала и металла катода. Затем проводят термическую обработку сформированных слоев в защитной атмосфере для одновременного формирования областей, инжектирующих и ограничивающих инжекцию тока в прибор. В качестве протекторного выбран материал из ряда металлов Ti, V, Cr, Zr, Nb, Mo и (или) их нитридов, боридов. Соотношение большей стороны прямоугольного окна в маскирующем защитном слое и меньшей стороны выбирается в диапазоне (3 : 1,8) : 1. В качестве материала, ограничивающего инжекцию тока в прибор, может быть выбран окисел с диэлектрической проницаемостью, близкой или большей диэлектрической проницаемости полупроводникового материала. 4 з. п. ф-лы, 16 ил.
2061277
патент выдан:
опубликован: 27.05.1996
Наверх