Приборы на твердом теле, специально предназначенные для выпрямления, усиления, генерирования или переключения, не имеющие потенциального барьера, на котором имеет место скачкообразное изменение потенциала, или поверхностного барьера, например диэлектрические триоды; приборы с эффектом Овшинского; способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки вышеуказанных приборов или их частей – H01L 45/00

МПКРаздел HH01H01LH01L 45/00
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H01 Основные элементы электрического оборудования
H01L Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам
H01L 45/00 Приборы на твердом теле, специально предназначенные для выпрямления, усиления, генерирования или переключения, не имеющие потенциального барьера, на котором имеет место скачкообразное изменение потенциала, или поверхностного барьера, например диэлектрические триоды; приборы с эффектом Овшинского; способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки вышеуказанных приборов или их частей

H01L 45/02 .приборы с бегущей волной

Патенты в данной категории

МЕМРИСТОР НА ОСНОВЕ СМЕШАННОГО ОКСИДА МЕТАЛЛОВ

Изобретение относится к устройствам микро- и наноэлектроники. Мемристорные устройства являются устройствами энергонезависимой памяти и могут быть использованы для создания компьютерных систем на основе архитектуры искусственных нейронных сетей. Данное устройство состоит из активного слоя, расположенного между двумя токопроводящими слоями, находящегося с ними в электрическом контакте. Активный слой обладает свойством резистивного переключения и представляет собой двухслойную оксидную структуру HfAlxOy /HfO2. Слой HfAlxOy имеет высокую растворимость и высокую равновесную концентрацию кислородных вакансий, а HfO2 является слоем с низкой растворимостью вакансий. Токопроводящие слои выполнены их нитрида титана или нитрида вольфрама. На границе раздела HfO2/TiN наносится сверхтонкий слой оксида рутения толщиной не менее 0.5 нм. Изобретение обеспечивает повышение стабильности режимов переключения сопротивления в низко- и высокоомное состояние, снижение напряжения переключения, высокую технологическую совместимость с существующими процессами производства кремниевых микросхем. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

2524415
выдан:
опубликован: 27.07.2014
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ СПИНОВЫХ ВОЛН

Изобретение относится к способам формирования квантовых коллективных возбуждений спиновой плотности и плотности намагниченности в графеновых пленках и может быть использовано в квантовой наноэлектронике, спинтронике, системах обработки и хранения информации терагерцового диапазона. Согласно изобретению, на предварительно выделенную рабочую область графеновой пленки линейным размером 2000 нм, разделенную на участки размером 50-100 нм, воздействуют импульсным переменным магнитным полем, частотой 3 терагерца, что соответствует переходу с основного энергетического уровня, соответствующего невозбужденному состоянию спиновой плотности, на четвертый рабочий энергетический уровень возбужденного состояния спиновой плотности. По краям рабочей области формируют пространственно локализованное внешнее магнитное поле, резонансно отражающее спиноны рабочей частоты 0.5-1 терагерц, соответствующей переходу с третьего рабочего на второй рабочий энергетический уровень возбужденного состояния спиновой плотности, при прохождении рабочей области вызывающие стимулированное вынужденное когерентное излучение спиновых волн рабочей частоты. Изобретение позволяет достичь увеличения времени жизни и длины распространения спиновых импульсов в графеновой пленке.

2477907
выдан:
опубликован: 20.03.2013
МЕМРИСТОР НА ОСНОВЕ СМЕШАННОГО ОКСИДА МЕТАЛЛОВ

Настоящее изобретение относится к устройствам микро- и наноэлектроники на основе перспективных материалов. Такие мемристорные устройства со стабильными и повторяемыми характеристиками могут быть использованы для создания компьютерных систем на основе аналоговой архитектуры искусственных нейронных сетей. Данное устройство состоит из активного слоя, расположенного между двумя токопроводящими слоями, находящегося с ними в электрическом контакте и представляющего собой оксид типа АВОх, где элемент В является титаном, или цирконием, или гафнием, а элемент А - трехвалентным металлом с ионным радиусом, равным 0,7-1,2 ионного радиуса титана, или циркония, или гафния. Если элемент В является титаном, то в качестве А выбирают алюминий или скандий, если элемент В является цирконием или гафнием, то в качестве А выбирают скандий, или иттрий, или лютеций. Повышение стабильности и повторяемости напряжения переключения, сопротивления в низко- и высокоомном состояниях является техническим результатом предложенного изобретения. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

2472254
выдан:
опубликован: 10.01.2013
УСИЛИТЕЛЬ СВЧ МАГНИТОЭЛЕКТРИЧЕСКИЙ

Изобретение относится к области электроники. Усилитель СВЧ магнитоэлектрический согласно изобретению содержит микрополосковую диэлектрическую подложку с установленным на ней элементом преобразования энергии, в котором для усиления СВЧ сигнала в конструкции микрополоскового резонатора расположен магнитоэлектрический планарный элемент, работающий в области магнитоакустического резонанса, установленный в микрополосковую подложку и расположенный под микрополосковым резонатором с размером 1/2 длины волны усиливаемого сигнала и с двумя шлейфами 1/8 и 3/8 длины волны усиливаемого сигнала, соединенный с одной стороны через полосно-пропускающий фильтр частоты накачки с входом генератора накачки, а с другой стороны через полосно-пропускающий фильтр частоты усиливаемого сигнала и циркулятор - со входом и выходом СВЧ сигнала, постоянный магнит расположен около магнитоэлектрического элемента. Изобретение обеспечивает возможность усиления СВЧ сигналов наиболее простым и дешевым способом, а также уменьшить габариты изделия, улучшить технологичность. 4 ил.

2439751
выдан:
опубликован: 10.01.2012
ТРЕХЭЛЕКТРОДНЫЙ ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ПРИБОР

Изобретение относится к полупроводниковым приборам и может быть использовано в качестве переключающего элемента (ключа) или управляемого конденсатора в интегральных микросхемах, работающих, в том числе, на частотах выше 10 ГГц. Трехэлектродный высокочастотный полупроводниковый прибор включает полупроводниковый эпитаксиальный слой на подложке и размещенные на нем два контакта высокочастотного тракта и один управляющий контакт. Контакты в высокочастотном тракте выполнены в виде контактов Шоттки, а управляющий контакт выполнен омическим и расположен вне пространства между контактами в высокочастотном тракте. Изобретение значительно упрощает конструкцию и технологию изготовления прибора при одновременном обеспечении возможности работы в качестве управляемого конденсатора. 2 ил.

2354010
выдан:
опубликован: 27.04.2009
ЭЛЕКТРИЧЕСКИ СТИРАЕМАЯ ПАМЯТЬ

Использование: микроэлектроника. Сущность изобретения: электрически стираемая память с изменением фазы, применяющая стехиометрически сбалансированный материал. Одна из реализаций данного изобретения содержит воплощение этой памяти в интегральном исполнении в конфигурации с высокой бытовой плотностью, в которой стоимость изготовления существенно понижена, a параметры характеристик еще более улучшены. Техническим результатом изобретения является создание элемента электрически стираемой памяти с возможностью прямой перезаписи, который обладает более высокими скоростями переключения при меньших энергетических уровнях, чем в известных аналогах. 2 с. и 26 з.п. ф-лы, 9 ил., 1 табл.
2130217
выдан:
опубликован: 10.05.1999
ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЬ ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО НАПРЯЖЕНИЯ В ЧАСТОТУ

Применение: для измерения токов или напряжений с использованием их преобразования в частоту электрического сигнала и измерением этой частоты. Сущность изобретения: устройство выполнено в виде многослойной структуры, состоящей из полупроводниковой подложки 1, диэлектрического слоя 4, затворного 5 и земляного 7 металлических электродов. На полупроводниковой подложке 1 расположен высокоомный полупроводниковый слой с противоположным типом проводимости с толщиной не более диффузионной длины его неосновных носителей заряда. В высокоомном полупроводниковом слое 3 сформированы две низкоомные области 2 с тем же типом проводимости, находящиеся на расстоянии не более пяти диффузионных длин неосновных носителей заряда слоя. Затворный металлический электрод 5 размещен на диэлектрическом слое 4, расположенном на высокоомном полупроводниковом слое 3 между контактными металлическими электродами 6, находящимися на низкоомных областях 2. Высокоомный полупроводниковый слой 3 содержит мелкую и глубокую примеси противоположного знака, причем отношение концентрации неосновных и основных носителей заряда более отношения времен жизни коротко- и долгоживущих носителей заряда. 4 з.п. ф-лы, 1 ил.
2035808
выдан:
опубликован: 20.05.1995
Наверх