Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления резисторов: .предназначенные для термообработки – H01C 17/30

Изобретение относится к способу получения покрытий. Защитное лакокрасочное покрытие способно формировать бездефектную твердую пленку и может быть использовано для окраски электрорадиоизделий, в том числе резисторов цилиндрической формы с аксиальными выводами. Способ получения покрытия включает нанесение на электрорадиоизделие эмали ЭПИМАЛЬ^®-992П с введенным в нее дополнительным компонентом - изофороном количественным содержанием от 1,0 до 1,5 мас.% и сушку. Сушку нанесенной эмали осуществляют в течение 7 мин 30 с при температуре 140-160°С. Технический результат - высокое качество окраски и требуемая степень высыхания получаемого покрытия, а также снижение количества дефектных резисторов цилиндрической формы с аксиальными выводами. 1 табл.

Изобретение относится к способу окраски и сушки электрорадиоизделий, в том числе резисторов цилиндрической формы с аксиальными выводами, с получением защитного лакокрасочного покрытия. Предлагаемый способ заключается в том, что для окрашивания изделий готовят эпоксидную эмаль ЭПИМАЛЬ^®-9114 введением в нее 30%-ного раствора 2-метилимидазола в диэтиленгликоле в количестве 0,5-1,0% от массы эмали. Далее проводят сушку эмали в течение 16-22 мин при температуре 180-200°С с получением покрытия. Заявленный способ позволяет повысить качество покрытия и обеспечить требуемую степень высыхания. 1 табл.

Изобретение относится к области электротехники, в частности к изготовлению непроволочных цилиндрических резисторов с аксиальными выводами, которые перед использованием окрашивают эпоксидной эмалью и сушат. Сущность изобретения состоит в том, что в эпоксидную эмаль, перед нанесением на изделие, вводят катализатор - 30% раствор 2Метилимидазола в диэтиленгликоле, в объеме 3-7% от массы эмали «ЭПИМАЛЬ-992У», а сушку эмалевого покрытия производят за 1-2 мин при температуре 180±20°С. Способ окраски и сушки радиоэлементов обеспечивает повышение качества нанесения и сушки многослойного эмалевого покрытия, увеличение скорости формирования покрытия, что в конечном итоге повышает производительность и качество изготовления непроволочных цилиндрических резисторов. 1 табл.

Изобретение относится к технологии изготовления резисторов, в частности к стабилизации и подгонке тонкопленочных резисторов, и может быть использовано при производстве металлопленочных тензорезисторных датчиков давления, силы, деформации и гибридных интегральных схем в радиотехнической и приборостроительной промышленности. Способ стабилизации и подгонки тонкопленочных резисторов импульсами напряжения определенной амплитуды, длительности и скважности включает стабилизацию и подгонку в едином технологическом цикле при неизменной амплитуде, длительности и скважности импульсов напряжения. Стабилизацию проводят "пакетами" импульсов напряжения до нижнего не изменяющегося значения сопротивления, которое фиксируют контрольным "пакетом" импульсов напряжения, после чего осуществляют подгонку сопротивлений резисторов подачей на них "пакетов" импульсов напряжения, в которых количество импульсов увеличивают в несколько раз, а в промежутках между "пакетами" импульсов непрерывно контролируют изменение сопротивлений резисторов. Устройство для реализации указанного способа содержит источник питания постоянного тока, релейный блок управления устройством, формирователь импульсов с элементом, регулирующим амплитуду импульсов напряжения и блок управления измерением и структурированием, который содержит счетчик количества импульсов, переключатель диапазонов, счетчик времени индикации, логические элементы "ИЛИ-НЕ", "ИЛИ" и триггер, а также ключевую схему. Изобретение позволяет расширить функциональные возможности и проводить стабилизацию структуры резистивного слоя за счет исключения скрытых дефектов и подгонку тонкопленочных резисторов в одном технологическом цикле при неизменной амплитуде, длительности и скважности импульсов напряжения с постоянным контролем изменения величины сопротивления резисторов, а также упростить конструкцию устройства для осуществления процесса. 2 н. и 1 з.п. ф-лы, 5 ил.