ПАТЕНТНЫЙ ПОИСК В РФ
НОВЫЕ ПАТЕНТЫ, ЗАЯВКИ НА ПАТЕНТ
БИБЛИОТЕКА ПАТЕНТОВ НА ИЗОБРЕТЕНИЯ

Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления резисторов: .предназначенные для нанесения резистивного материала на основание – H01C 17/06

Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H01 Основные элементы электрического оборудования
H01C Резисторы
H01C 17/00 Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления резисторов
H01C 17/06 .предназначенные для нанесения резистивного материала на основание

Патенты в данной категории

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТОЛСТОПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТИВНЫХ ЭЛЕМЕНТОВ

Предлагаемое изобретение относится к электронной технике, в частности к технологическим процессам изготовления пленочных резисторов. Способ изготовления толстопленочных резистивных элементов включает последовательное нанесение методом трафаретной печати на изолирующую подложку проводникового и резистивного слоев с последующим вжиганием его в воздушной атмосфере. Улучшение качества поверхности резистивного слоя, а также радиотехнических характеристик устройств с таким пленочным резистором является техническим результатом изобретения. В предложенном способе чередуют нанесение проводникового слоя с вжиганием его на отдельные участки изолирующей подложки, при температуре 840-860°C в течение 55±5 минут, затем осуществляют нанесение резистивного слоя и вжигание его при температуре 805±2°C в течение 70±5 минут поэтапно, с последующим контролем номинала резистивных элементов, причем при завышенном номинале подгонку производят при температуре 820±10°C в течение 5-10 минут, а при заниженном номинале - при температуре 690±10°C в течение 5-10 минут, после чего производят лужение в расплавленном припое окунанием при температуре 250±10°C. 1 ил.

2497217
патент выдан:
опубликован: 27.10.2013
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПРЕЦИЗИОННЫХ ЧИП-РЕЗИСТОРОВ ПО ГИБРИДНОЙ ТЕХНОЛОГИИ

Изобретение относится к электронной технике, а именно к производству постоянных резисторов, и может быть использовано в электронной, радиотехнической и других смежных отраслях промышленности при изготовлении прецизионных чип-резисторов. Целью изобретения является повышение эксплуатационной надежности прецизионных чип-резисторов. Способ содержит следующие технологические операции: 1) нанесение на шлифованную (тыльную) поверхность изоляционной подложки методом трафаретной печати слоя серебряной или серебряно-палладиевой пасты с последующим ее вжиганием, образуя тем самым электродные контакты на тыльной стороне подложки; 2) напыление на полированную (лицевую) сторону изоляционной подложки методом вакуумной (тонкопленочной) технологии резистивного слоя; 3) формирование методом фотолитографии и ионного травления топологии резистивного слоя на подложке; 4) нанесение методом трафаретной печати на лицевой стороне подложки поверх резистивного слоя низкотемпературной серебряной пасты с последующим ее вжиганием, образуя тем самым электродные контакты на лицевой стороне; 5) подгонку методом лазерной подгонки величины сопротивления резисторов в номинал; 6) нанесение методом трафаретной печати на резистивный слой с последующим вжиганием слоя низкотемпературной защитной пасты, образуя защитный слой; 7) скрайбирование и ломку пластины изоляционной подложки на полосы; 8) напыление методом вакуумной (тонкопленочной) технологии из сплава никеля с хромом на торцы, соединяя тем самым между собой электродные контакты лицевой и тыльной сторон подложки; 9) ломку рядов пластины на чипы; 10) нанесение гальваническим методом поверх электродных контактов - торцевого, на лицевой и на тыльной сторонах - слоя никеля; 11) нанесение поверх слоя никеля гальваническим методом слоя припоя в виде сплава олова со свинцом. 1 ил.

2402088
патент выдан:
опубликован: 20.10.2010
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТОРОВ

Изобретение относится к технологии электронной техники и может быть использовано при изготовлении электрорадиоизделий, входящих в состав устройств приема, передачи и обработки сигналов, а также датчиков параметров внешней среды. Технический результат: повышение выхода годных за счет снижения электрической неоднородности пленок. Сущность изобретения: в способе изготовления пленочных резисторов, включающем нанесение на диэлектрическую подложку резистивной пленки, циклическую низкотемпературную обработку в жидком азоте и отжиг, отжиг производится в среде азота при давлении выше атмосферного путем пропускания через резистор импульсов электрического тока. 1 табл.
2183876
патент выдан:
опубликован: 20.06.2002
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТОРОВ

Изобретение относится к области микроэлектроники. Производят нанесение на диэлектрическую подложку резистивной пленки, а затем циклическую низкотемпературную обработку в течение 25 - 30 мин в жидком азоте, чередующуюся с выдержкой на воздухе в течение 30 - 60 с и отжиг, причем на каждом последующем цикле обработки увеличивают длительность выдержки в жидком азоте в соответствии с математическим выражением. 1 табл.
2109360
патент выдан:
опубликован: 20.04.1998
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ТОЛСТОПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТОРОВ

Способ изобретения: на изолирующую подложку наносят первый проводниковый слой, поверх него - резистивный слой, а затем - второй проводниковый слой - для образования конденсаторной структуры. Слои сушат и вжигают в воздушной атмосфере. В качестве материала проводниковых слоев используют проводниковую пасту, включающую агент-восстановитель /бор, алюминий/ или вещество, разлагающееся при вжигании с образованием такого восстановителя /борид никеля/. Паста для резистивного слоя содержит порошок стекла и органическое связующее. 1 табл.
2086027
патент выдан:
опубликован: 27.07.1997
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ РЕЗИСТИВНОГО МАТЕРИАЛА

Изобретение относится к электротехнике и может быть использовано для изготовления полимерных нагревательных элементов. Способ изготовления резистивного слоя заключается в том, что токопроводящий материал для электронагревателя с заданными сопротивлениями получают в процессе одного производственного цикла, нанося токопроводный слой на стеклоткань и одно- или многократно - послойно с одной стороны. Распределение токопроводящего слоя осуществляют с помощью пары валков, установленных с зазором, обеспечивающим заданную толщину слоя. При этом второй по ходу протягиваемой стеклоткани валок застопорен. Ванну с составом устанавливают над валками, а сушку и отверждение ведут в разных камерах. Зазор между валками при каждом следующем нанесении токопроводящего слоя увеличивают на определенную величину. Способ снижает энергоемкость процесса изготовления. 1 з.п. ф-лы, 1 ил., 2 табл.
2079209
патент выдан:
опубликован: 10.05.1997
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ПЛЕНОЧНЫХ РЕЗИСТОРОВ

Использование: в микроэлектронике, в частности при изготовлении радиодеталей с пленочными резистивными элементами. Сущность изобретения: на диэлектрическую подложку наносят резистивную пленку, производят низкотемпературную обработку циклически в течение 25 30 мин путем последовательного охлаждения резисторов в жидком азоте и выдержки на воздухе при комнатной температуре, при этом время проведения каждой операции выбирают равным 30 60 с. После циклической обработки осуществляют отжиг подложки. Указанная последовательность операций позволяет увеличить выход годных резисторов, снизить механические напряжения, а также повысить структурную стабильность и однородность резистивных пленок. 2 табл.
2046419
патент выдан:
опубликован: 20.10.1995
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ТОНКИХ РЕЗИСТИВНЫХ ПЛЕНОК НА ОСНОВЕ СПЛАВА ТАНТАЛ - АЛЮМИНИЙ

Использование: микроэлектроника, технология изготовления прецизионных тонкопленочных резисторов. Сущность изобретения: пленку (П) на основе сплава тантал - алюминий с содержанием тантала 40 - 60 ат.% осаждают методом катодного распыления мишеней тантала и алюминия в атмосфере кислорода. Парциальное давление кислорода поддерживают равным (6,65-7,98)10-2 , а осаждение П осуществляют со скоростью Далее проводят отжиг в вакууме при температуре (650 - 900)°С. Указанные технологические режимы обеспечивают получение П с удельным сопротивлением до 5000 мк Ом. см и температурным коэффициентом сопротивления не более 510-5град-1
2028682
патент выдан:
опубликован: 09.02.1995
Наверх