Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности, материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты, устройства, специально приспособленные для этих целей: ...соединения полидиазония, высокомолекулярные добавки, например связующие – G03F 7/021

МПКРаздел GG03G03FG03F 7/00G03F 7/021
Раздел G ФИЗИКА
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 7/00 Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 7/021 ...соединения полидиазония; высокомолекулярные добавки, например связующие

Патенты в данной категории

ПРОЯВЛЯЕМЫЕ В ПЕЧАТНОЙ МАШИНЕ ИК-ЧУВСТВИТЕЛЬНЫЕ ПЕЧАТНЫЕ ФОРМЫ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ СВЯЗУЮЩИХ СМОЛ С ПОЛИЭТИЛЕНОКСИДНЫМИ СЕГМЕНТАМИ

Изобретение относится к проявляемым в печатной машине негативным печатным формам, которые можно экспонировать УФ-, видимым или ИК-излучением. Описывается образующая покрытие композиция, которая включает (i) способное к полимеризации соединение и (ii) полимерное связующее, содержащее полиэтиленоксидные сегменты, где полимерное связующее выбирают из группы, состоящей из, по меньшей мере, одного привитого сополимера, содержащего полимер главной цепи и полиэтиленоксидные боковые цепи, блок-сополимера, содержащего, по меньшей мере, один полиэтиленоксидный блок и, по меньшей мере, один не-полиэтиленоксидный блок, и их сочетания. Описывается также элемент, в котором можно формировать изображение, включающий основу и способную к полимеризации покрывающую композицию. Предложенная композиция обеспечивает дифференциацию экспонированных и неэкспонированных электромагнитным излучением участков изображения, при котором облегчается проявление в водных проявителях неэкспонированных участков, повышается устойчивость к проявлению экспонированных участков и обеспечивается способность последних к окрашиванию в отсутствие стадии нагревания перед проявлением. 5 н. и 51 з.п. ф-лы, 3 ил., 2 табл.

2300792
патент выдан:
опубликован: 10.06.2007
Наверх