Способы диффузии или легирования монокристаллов или гомогенного поликристаллического материала с определенной структурой; устройства для этих целей – C30B 31/00

МПКРаздел CC30C30BC30B 31/00
Раздел C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
C30 Выращивание кристаллов
C30B Выращивание монокристаллов; направленная кристаллизация эвтектик или направленное расслаивание эвтектоидов; очистка материалов зонной плавкой; получение гомогенного поликристаллического материала с определенной структурой; монокристаллы или гомогенный поликристаллический материал с определенной структурой; последующая обработка монокристаллов или гомогенного поликристаллического материала с определенной структурой; устройства для вышеуказанных целей
C30B 31/00 Способы диффузии или легирования монокристаллов или гомогенного поликристаллического материала с определенной структурой; устройства для этих целей

C30B 31/02 .контактированием с диффузионным материалом в твердом состоянии
C30B 31/04 .контактированием с диффузионным материалом в жидком состоянии
C30B 31/06 .контактированием с диффузионным материалом в газообразном состоянии
 31/18 имеет преимущество
C30B 31/08 ..с диффузионным материалом, являющимся соединением элементов, способным к диффузии
C30B 31/10 ..реакционные камеры; выбор материала для них
C30B 31/12 ..нагревание реакционной камеры
C30B 31/14 ..держатели или приемники подложек
C30B 31/16 ..средства для подачи или выпуска газов; изменение потока газов
C30B 31/18 ..управление или регулирование
управление или регулирование вообще  G 05
C30B 31/20 .легирование путем облучения электромагнитными волнами или облучения частицами
C30B 31/22 ..ионным внедрением

Патенты в данной категории

СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ НЕЙТРОННОГО ЛЕГИРОВАНИЯ ВЕЩЕСТВА

Изобретение относится к технологии нейтронно-трансмутационного легирования (НТЛ) кремния тепловыми нейтронами, широко применяемого в технологии изготовления приборов электронной и электротехнической промышленности. Способ нейтронного легирования вещества включает замедление быстрых нейтронов источника веществом замедлителя, формирование потока тепловых нейтронов в выделенную область и облучение тепловыми нейтронами легируемого вещества, при этом быстрые нейтроны источника в процессе замедления сепарируют по углам их распространения, выделяют их потоки, двигающиеся в выделенном структурой вещества замедлителя направлении, суммируют выделенные структурой потоки, формируют в виде узкой полосы и направляют на легируемое вещество, которое управляемо перемещают в области фокуса потоков нейтронов. Техническим результатом изобретения является рост производительности процесса легирования и формирование областей с повышенной степенью легирования в заданных участках легируемого вещества. 2 н. и 3 з.п.ф-лы, 3 ил., 3 пр.

2514943
выдан:
опубликован: 10.05.2014
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ АЛМАЗОВ С ПОЛУПРОВОДНИКОВЫМИ СВОЙСТВАМИ

Изобретение относится к области неорганической химии, а именно к получению синтетических алмазов, легированных бором, которые могут найти применение в электронной промышленности для изготовления полупроводниковых устройств. Способ включает разложение твердых карбонильных соединений платиновых металлов в газовой среде при повышенной температуре в герметичном контейнере с образованием алмазов и их легирование бором при температуре 150°С÷500°С в течение 2-5 часов в газовой среде, содержащей монооксид углерода СО и диборан B2H6 при весовом соотношении в газовой смеси бора к углероду, равном 1:100÷1000. Техническим результатом изобретения является получение монокристаллов алмаза с полупроводниковыми свойствами высокого качества. 1 табл., 5 пр.

2484189
выдан:
опубликован: 10.06.2013
СПОСОБ ИЗМЕНЕНИЯ ОБЫКНОВЕННОГО ПОКАЗАТЕЛЯ ПРЕЛОМЛЕНИЯ НЕЛИНЕЙНОГО КРИСТАЛЛА GaSe

Изобретение относится к технической физике и нелинейной оптике и может быть использовано при создании параметрических преобразователей частоты лазерного излучения в средний инфракрасный (ИК) и терагерцовый (ТГц) диапазоны спектра. Изменение обыкновенного показателя преломления нелинейного кристалла GaSe осуществляют легированием малоразмерным по отношению к химическому элементу Ga химическим элементом Al в концентрации 0,005-0,05 мас.%. Технический результат изобретения заключается в увеличении показателя преломления для волн обыкновенной поляризации в кристаллах GaSe при минимальных изменениях значения показателя преломления для волн необыкновенной поляризации. 1 табл.

2472876
выдан:
опубликован: 20.01.2013
ИДЕНТИФИКАЦИОННАЯ МЕТКА ДЛЯ МАРКИРОВКИ ЦЕННЫХ ИЗДЕЛИЙ И СПОСОБ ЕЕ ФОРМИРОВАНИЯ

Изобретение относится к средствам и способам маркировки ценных изделий, преимущественно драгоценных камней, в частности ограненных алмазов (бриллиантов), и может быть использовано для последующей идентификации данных изделий. Метка 1 выполнена в виде сформированного на полированной поверхности 3 изделия 2 оптически визуализируемого в дифракционно-отраженном свете изображения. Структура изображения организована посредством модифицированной области поверхностного слоя изделия 2 с измененными, относительно исходных, оптическими свойствами в упомянутой области, функционально являющейся изображением метки 1. Модифицированная область выполнена в виде микроштрихов 8, пространственно организованных по типу отражательной дифракционной решетки, функционально являющейся средством повышения контраста визуального восприятия изображения метки 1, по меньшей мере, в одном из цветовых тонов спектра падающего на нее излучения. Структура микроштрихов модифицированой области включает, по меньшей мере, одну примесную добавку, выбранную из группы, включающей благородные металлы или бор, ионно-имплантированную в атомные решетки исходного материала изделия без разрушения межатомных связей этих решеток и, соответственно, без изменения качества полированной поверхности изделия, но с изменением комплексного показателя преломления этого материала. Согласно способу формирования метки 1, перед модифицированием на поверхность 3 наносят технологический слой (ТС) материала, удаляемый после модифицирования. В ТС формируют структуру, организованную по типу штриховой решетки. Модифицирование соответствующей области поверхностного слоя осуществляют посредством экспонирования этой области ионным пучком через маску с изображением метки 1 и образованную в ТС пространственную структуру, организуя тем самым технологический режим имплантации ионов модификатора в модифицируемую область поверхностного слоя материала изделия 2 без разрушения связей в атомных решетках этого материала и, соответственно, без изменения исходного качества полировки поверхностного слоя, но с изменением его исходных оптических свойств. В качестве модификатора используют примесные добавки, выбранные из группы, включающей благородные металлы или бор, ионы которых изменяют комплексный показатель преломления модифицированного слоя. 2 н. и 3 з.п. ф-лы, 7 ил.

2373307
выдан:
опубликован: 20.11.2009
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ АНТИМОНИДА ИНДИЯ, ЛЕГИРОВАННОГО ОЛОВОМ

Изобретение относится к технологии полупроводниковых соединений АIIIВV. Монокристаллы антимонида индия, легированного оловом, получают путем облучения полным спектром реакторных нейтронов с последующим нагревом, отжигом и охлаждением. Нагрев ведут со скоростью 20÷40 град/мин до температуры отжига, определяемой по формуле Т отж=450+(lgNSn-14)·7[°С], где NSn - концентрация вводимой легирующей примеси олова [см-3], отжиг проводят в течение 20 минут, а последующее охлаждение ведут со скоростью 5÷10 град/мин до температуры 350÷400°С, а затем со скоростью 20÷40 град/мин до комнатной температуры. Изобретение позволяет производить легирование пластин антимонида индия оловом до высоких концентраций, повысить однородность распределения олова и подвижность электронов. 1 табл.

2344209
выдан:
опубликован: 20.01.2009
СПОСОБ ОКРАШИВАНИЯ ФИАНИТОВ

Изобретение может быть использовано в ювелирной промышленности для окрашивания вставок из фианита в зеленые, синие и коричнево-желтые цвета и в оптике для получения цветных светофильтров, выдерживающих температуры свыше 1000°С. Сущность заявляемого изобретения заключается в том, что способ окрашивания фианитов включает предварительное нанесение в виде покрытия на окрашиваемую поверхность фианита кобальта и, по меньшей мере, одного металла, окисел которого способен к шпинелеобразованию с окисью двухвалентного кобальта, например железо и/или алюминий. Затем в кислородосодержащей атмосфере проводят термообработку при температуре выше 1000°С, но не превышающей температуру плавления фианита, не менее 3 часов. Преимущественно покрытие наносят методом термического распыления металлов в вакууме. Упомянутые металлы могут наносить как поочередно, так и одновременно. Для придания фианиту окраски сине-зеленой гаммы наносят кобальт и алюминий с атомным соотношением от 1:1 до 1:2. Для придания фианиту окраски желто-зеленой гаммы наносят кобальт, алюминий и железо с атомным соотношением 1:1:0,1-0,2. Для придания фианиту окраски желто-коричневой гаммы наносят кобальт и железо в атомном соотношении от 1:1 до 1:2. Способ обеспечивает получение устойчивой к высоким температурам и химическому воздействию воспроизводимой окраски. 6 з.п. ф-лы.

2296825
выдан:
опубликован: 10.04.2007
СПОСОБ МНОГОЭЛЕМЕНТНОЙ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ (ВАРИАНТЫ)

Изобретение относится к области легирования твердых тел путем их облучения пучком ионов из фазообразующих атомов и может быть использовано для структурно-фазовой модификации твердых тел, например для улучшения их физико-механических, коррозионных и других практически важных свойств. Предложены два варианта реализации формирования на поверхности облучаемого объекта многоэлементного пучка при условии отличающихся не более чем на 10% для каждого из ионов величины отношения их массы к заряду. Сущность изобретения по первому варианту заключается в том, что в объеме камеры одного источника, соединенной, по меньшей мере, с двумя автономными дозаторами фазообразующих атомов, формируют из них многоэлементную плазму высокозарядных ионов. С помощью электрического поля, сформированного постоянным по величине ускоряющим напряжением, экстрагируют из плазмы многоэлементный пучок многозарядных ионов и направляют его в магнитный массепаратор. Магнитный сепаратор выделяет ионные компоненты фазообразующих атомов с различающимися не более чем на 10% относительно друг друга значениями величины отношения массы иона к их заряду и сканируют данным многоэлементным пучком по поверхности облучаемого объекта. Сущность изобретения по второму варианту заключается в том, что в объеме камеры источника, соединенной по меньшей мере с двумя автономными дозаторами фазообразующих атомов, формируют из них многоэлементную плазму высокозарядных ионов. С помощью периодически и последовательно изменяющегося по амплитуде электрического поля, сформированного модулятором амплитуды ускоряющего напряжения, экстрагируют многоэлементный пучок многозарядных ионов с соответствующими энергиями. Ионы, периодически и последовательно ускоренные до выбранных энергий, направляются через магнитный сепаратор на облучаемый объект. Изобретение решает задачу повышения эффективности ионного легирования и сокращения времени облучения объекта путем его одновременного облучения многоэлементным пучком ионов из фазообразующих атомов. 2 н.п. ф-лы, 3 ил.

2285069
выдан:
опубликован: 10.10.2006
СПОСОБ ЛЕГИРОВАНИЯ МЕТАЛЛОВ В ПЛЕНКАХ

Изобретение относится к области получения специальных сплавов в виде покрытий или самонесущих изделий и может быть использовано в металлургии, машиностроении, материаловедении и других отраслях. Способ легирования металла в пленках включает одновременное со сдвигом в пространстве распыление металла и легирующего элемента в нанодисперсное состояние в плазме низкого давления и соосаждение их субслоями поочередным повторяющимся пересечением потоков плазмы, при этом осаждение каждого субслоя ведут в виде островкового покрытия размером частиц металла и/или легирующего элемента менее критического, при котором частица находится в жидком состоянии при соосаждении. Технический результат заключается в значительном снижении температуры легирования - образования твердого раствора (около 100°С). 1 табл.

2276206
выдан:
опубликован: 10.05.2006
БУЛЯ НИТРИДА ЭЛЕМЕНТА III-V ГРУПП ДЛЯ ПОДЛОЖЕК И СПОСОБ ЕЕ ИЗГОТОВЛЕНИЯ И ПРИМЕНЕНИЯ

Изобретение может быть использовано в полупроводниковой технологии для получения були нитрида элемента III-V групп для создания микроэлектронных устройств на подложках, изготовленных из такой були. Сущность изобретения: булю нитрида элемента III-V группы можно получить путем выращивания материала нитрида элемента III-V группы на соответствующем кристалле-затравке из такого же материала нитрида элемента III-V группы путем эпитаксии из паровой фазы при скорости роста выше 20 микрометров в час. Буля имеет качество, пригодное для изготовления микроэлектроронных устройств, ее диаметр составляет более 1 сантиметра, длина более 1 миллиметра и плотность дефектов на верхней поверхности менее 107 дефектов·см -2. 9 н. и 96 з.п. ф-лы, 9 ил.

2272090
выдан:
опубликован: 20.03.2006
ОБЛУЧАТЕЛЬНОЕ УСТРОЙСТВО УРАН-ГРАФИТОВОГО РЕАКТОРА ДЛЯ РАДИАЦИОННОГО ОБЛУЧЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ

Изобретение относится к технологии нейтронно-трансмутационного легирования кремния при промышленном производстве на энергетических реакторах типа РБМК. Устройство содержит проходной тракт с сильфонным компенсатором, расположенную внутри проходного тракта и жестко соединенную с ним наружную оболочку в виде последовательно соединенных гильзы, тракта наращивания и головки, причем гильза верхней частью установлена на опорный бурт проходного тракта, а нижней частью расположена с зазором в расточке графитовых блоков отражателя нейтронов, при этом устройство снабжено внутренней трубой, смонтированной с зазором внутри наружной оболочки, и узлами подвода и отвода охлаждающей жидкости, образующими вместе с наружной оболочкой и внутренней трубой систему охлаждения, при этом снаружи и внутри наружной оболочки установлены средства защиты от ионизирующего излучения, а устройство снабжено расположенной во внутренней трубе телескопической подвеской облучательного контейнера, с которым соединена нижняя секция подвески, при этом подвеска снабжена приводом вертикального перемещения и вращения, расположенным в верхней части наружной оболочки, а с внешней стороны наружной оболочки размещена система контроля целостности гильзы. Изобретение позволяет улучшить свойства легированного кремния: равномерность легирования, вероятность возникновения дефектов. 3 з.п. ф-лы, 7 ил.

2255389
выдан:
опубликован: 27.06.2005
ЮВЕЛИРНЫЙ МАТЕРИАЛ - СИНТЕТИЧЕСКИЙ ПОЛИКРИСТАЛЛИЧЕСКИЙ КОРУНД "МАРИИТ" И СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ИЗДЕЛИЙ ИЗ ЮВЕЛИРНОГО МАТЕРИАЛА - СИНТЕТИЧЕСКОГО ПОЛИКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО КОРУНДА

Изобретение относится к технологии ювелирного производства, точнее к способам получения цветных ювелирных вставок, а также вставок с применением ювелирных эмалей, и предназначено для использования в ювелирной промышленности тиражом. Сущность изобретения: ювелирный материал - синтетический поликристаллический корунд состоит из глинозема, цветообразующих добавок и связки-парафина. Для получения нужного цвета к глинозему может быть добавлен оксид молибдена в количестве 0,03% для получения черного цвета; оксид вольфрама в количестве 0,01% для получения серого цвета; оксид неодима в количестве 0,01% для получения голубого цвета; оксид эрбия в количестве 0,01% для получения розового цвета; оксид хрома в количестве 0,05% для получения красного цвета. Способ получения изделий из ювелирного материала - синтетического поликристаллического корунда, состоящего из глинозема, цветообразующих добавок и связки-парафина, осуществляют путем формования на литьевых машинах при давлении 4 атм и обжига, причем первый обжиг проводят в печах непрерывного действия для выжига связки в течение 90 час при температуре Т-1150°С, а второй - в печах периодического действия в течение 170 час при температуре Т-1750°С для образования и спекания микрокристаллов, составляющих цветной полупрозрачный черепок изделия плотностью 4 г/см3 и твердостью 9 ед. по шкале Мооса, который затем полируют алмазными материалами. Изобретение позволяет получать в условиях промышленного производства готовые изделия в виде ювелирных вставок с высококачественным миниатюрным рельефом из цветного корунда, по твердости уступающего только алмазу. 2 с. и 5 з.п. ф-лы.

2253706
выдан:
опубликован: 10.06.2005
АДГЕЗИОННОЕ КОМПОЗИЦИОННОЕ ПОКРЫТИЕ НА АЛМАЗАХ, АЛМАЗОСОДЕРЖАЩИХ МАТЕРИАЛАХ И СПОСОБ ЕГО НАНЕСЕНИЯ

Изобретение относится к композиционной поверхностной системе на материалах, содержащих натуральные и синтетические алмазы, обладающей высокой адгезионной способностью к связке в алмазных инструментах или изделиях, износостойкостью и химстойкостью. Покрытие алмазов и алмазосодержащих материалов представляет собой в преимущественном варианте сочетание внутреннего слоя из карбидов вольфрама и наружного вольфрамового слоя, легированных фтором. Покрытие позволяет обеспечить хорошую адгезию алмазов и алмазосодержащих материалов к подложке. Для нанесения покрытия из вольфрама подложку помещают в среду порошка вольфрама и шихты, содержащей фтор в количестве 0,003-5 вес.% от веса инертного наполнителя и нагревают до температуры 700-1200С. Для нанесения покрытия из карбида вольфрама подложку помещают в реактор, вакуумируют его до 10 Па, подают гексафторид вольфрама и водорода, выдерживают подложку в течение необходимого времени и отжигают подложку при температуре, необходимой для образования карбида вольфрама. 4 н. и 27 з.п. ф-лы.

2238922
выдан:
опубликован: 27.10.2004
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СОЕДИНЕНИЙ II-VI И ПОЛУПРОВОДНИКИ, ПОДВЕРГШИЕСЯ ТЕРМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКЕ С ПОМОЩЬЮ ЭТОГО СПОСОБА

Использование: при изготовлении светоизлучающих устройств на основе селенида цинка. Сущность изобретения: способ термической обработки полупроводникового соединения ZnSe включает формирование пленки алюминия на поверхности, по меньшей мере, одного кристалла ZnSe, размещение, упомянутого по меньшей мере одного кристалла ZnSe в камере для термической обработки, имеющей внутреннюю поверхность, сформированную по меньшей мере из одного материала, выбранного из группы, состоящей из пиролитического нитрида бора, нитрида бора с гексагональной решеткой, сапфира, окиси алюминия, нитрида алюминия и поликристаллического алмаза; вакуумирование камеры и термическую обработку упомянутого по меньшей мере одного кристалла в газовой атмосфере, содержащей пары цинка. Также предложен кристалл полупроводникового соединения ZnSe, подвергнутый термической обработке с помощью указанного выше способа, и устройство для термической обработки полупроводникового соединения ZnSe, которое включает в себя компоненты для осуществления указанного выше способа. Техническим результатом изобретения является понижение удельного сопротивления полупроводникового соединения ZnSe без понижения степени кристалличности. 3 н. и 7 з.п. ф-лы, 2 ил.

2238603
выдан:
опубликован: 20.10.2004
СПОСОБ ОКРАШИВАНИЯ ПРИРОДНЫХ И СИНТЕТИЧЕСКИХ ЮВЕЛИРНЫХ КАМНЕЙ

Предназначено для использования в ювелирной промышленности при окрашивании бесцветных и бледно-голубых сапфиров, бесцветных топазов, кварца. Способ включает помещение ювелирных камней в тонко измельченный порошок оксида кобальта с соотношением закисной и окисной форм кобальта 1:1, смешанный с оксидом цинка в соотношении оксид кобальта к оксиду цинка как 1:(0,25-3), и последующую термообработку в окислительной атмосфере при 900-1250oС. Обеспечивается получение устойчивых окрасок природных и синтетических ювелирных камней в широком спектре цветов. 3 з.п. ф-лы.
2215455
выдан:
опубликован: 10.11.2003
СПОСОБ ОКРАШИВАНИЯ ПРИРОДНЫХ И СИНТЕТИЧЕСКХ ЮВЕЛИРНЫХ КАМНЕЙ

Предназначено для использования в ювелирной промышленности при окрашивании бесцветных топаза, сапфира и кварца в цвета от желтого до яркого желто-оранжевого. Способ включает нанесение на окрашиваемую поверхность слоя железа и последующую термообработку в атмосфере кислорода. Термообработку проводят в три стадии: нагрев, выдержка и охлаждение, причем нагрев и охлаждение ведут со скоростью 0,1-5oС/мин, а выдержку осуществляют при температуре 600-1000oС. Обеспечивается получение устойчивой воспроизводимой окраски в широком спектре цветов от желтого до яркого желто-оранжевого, не требуется дополнительная полировка для дальнейшего использования. 6 з.п. ф-лы.
2215454
выдан:
опубликован: 10.11.2003
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ОБРАБОТКИ АЛМАЗОВ

Изобретение относится к технологии обработки минералов, а именно алмазов. Технический результат - увеличение скорости обработки поверхности алмазов и повышение чистоты ее обработки. Устройство для обработки алмазов содержит вакуумную камеру, в которой размещены источник протонов, обрабатываемый алмаз и датчик газоанализатора. Источник протонов генерирует пучок протонов с величиной тока 3 А, яркостью 10-20 А/(сммрад)2, диаметром области с одинаковой плотностью тока пучка 30-60 мм. Между источником протонов и обрабатываемым алмазом в вакуумной камере последовательно установлены ускоряющий электрод, газонепроницаемая диафрагма, отделяющая источник протонов от обрабатываемого алмаза и выполненная с регулируемым по размеру и форме отверстием, затянутым газонепроницаемой пленкой, пропускающей пучок ускоренных протонов, и замедляющий электрод. 1 ил.
2211760
выдан:
опубликован: 10.09.2003
СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ КОНЦЕНТРАЦИИ ЛЕГИРУЮЩЕЙ ПРИМЕСИ В ПОЛУПРОВОДНИКАХ ПОСЛЕ НЕЙТРОННО-ТРАНСМУТАЦИОННОГО ЛЕГИРОВАНИЯ

Изобретение относится к области радиационных технологий, преимущественно к нейтронно-трансмутационному легированию (НТЛ) полупроводников, и может быть использовано для определения концентрации легирующей примеси (т.е. стабильного дочернего изотопа), образующейся в результате облучения полупроводникового материала тепловыми нейтронами в ядерном реакторе с последующим радиоактивным распадом материнского изотопа, который сопровождается испусканием гамма-квантов, в частности, для НТЛ-кремния. Сущность изобретения состоит в том, что в способе определения концентрации легирующей примеси в полупроводниках после нейтронно-трансмутационного легирования, включающем облучение нейтронами слитков полупроводникового материала одновременно с контрольными образцами и выдержку их перед измерением, концентрацию легирующей примеси в облученных слитках находят, регистрируя среднюю скорость счета в пике полного поглощения гамма-квантов материнского изотопа методом гамма-спектрометрии контрольных образцов, и рассчитывают искомую концентрацию по формуле:



где n - концентрация легирующей примеси, см-3;

- константа распада материнского изотопа, с-1;

S - средняя скорость счета в пике полного поглощения гамма-квантов материнского изотопа, регистрируемая за время измерения, с-1;

t1, t2, t3 - продолжительность облучения, выдержки и измерения соответственно, с;

- абсолютная эффективность регистрации детектора для геометрии измеряемого контрольного образца, отн. ед.;

- выход гамма-квантов материнского изотопа на один акт распада, отн. ед.;

V - объем контрольного образца, см3.

Гамма-спектрометр предварительно калибруют по эффективности регистрации при помощи образцовых радионуклидных источников. Контрольные образцы полупроводникового материала перед измерением средней скорости счета выдерживают в течение 20-25 ч от момента окончания облучения, а после измерений и снижения их наведенной активности до уровня естественного радиационного фона повторно используют при следующих облучениях. Изобретение позволяет повысить безопасность процесса, уменьшить количество технологических операций и трудоемкость выполнения измерений, а также с высокой точностью контролировать концентрацию одной или одновременно нескольких легирующих примесей, введенных в полупроводниковый материал при нейтронно-трансмутационном легировании. 1 з.п. ф-лы, 2 ил., 4 табл.
2208666
выдан:
опубликован: 20.07.2003
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ РЕЗИСТЕНТНОГО КРЕМНИЯ

Изобретение относится к электронной технике, а именно к технологии получения полупроводниковых материалов, устойчивых к воздействию радиации и температурных полей. Способ может найти применение при производстве полупроводниковых приборов, работающих в полях ионизирующего излучения: в космосе, атомных реакторах и др. Сущность изобретения. способ получения резистентного кремния n-типа проводимости заключается в обработке поликристаллического кремния р-типа проводимости методом многопроходящей бестигельной зонной плавки с введением в расплавленную зону термостабилизирующих примесей с концентрациями от 11013 до 11014 см-3. Затем проводят последующее охлаждение полученного легированного высокоомного монокристалла кремния р-типа проводимости с концентрацией по бору от 11012 до 51012 см-3 до комнатной температуры со скоростью не выше 1 град./мин. После этого с помощью прецизионного нейтронного трансмутационного легирования получают монокристалл кремния n-типа проводимости с концентрацией по фосфору, превышающей в 1,5-2 раза уровень остаточной концентрации по бору. Технический результат изобретения заключается в повышении времени жизни неосновных носителей заряда, уменьшении разброса удельного электросопротивления по объему монокристалла и сохранении указанных параметров кремния при многокомпонентных внешних воздействиях в процессе изготовления и эксплуатации приборов на его основе в силовой электронике. 2 з.п.ф-лы, 2 табл.
2202655
выдан:
опубликован: 20.04.2003
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ЛЕГИРОВАННЫХ УЛЬТРАДИСПЕРСНЫХ АЛМАЗОВ

Изобретение относится к технологии получения сверхтвердых материалов, а именно искусственных алмазов, при непосредственном использовании высоких давлений и температур, развивающихся при детонации конденсированных взрывчатых веществ (ВВ). Сущность изобретения: способ получения легированных ультрадисперсных алмазов включает формирование заряда углеродосодержащего взрывчатого вещества с отрицательным кислородным балансом, окружение заряда взрывчатого вещества охлаждающей жидкостью, размещение заряда взрывчатого вещества в герметичной взрывной камере, инициирование его детонации, извлечение из взрывной камеры конденсированных продуктов детонации и выделение ультрадисперсных алмазов. В качестве охлаждающей жидкости используют насыщенный раствор химического соединения, содержащего легирующий элемент. Для приготовления насыщенного раствора используют дистиллированную воду. При приготовлении насыщенного раствора дистиллированную воду нагревают до температуры не выше температуры плавления взрывчатого вещества. Технический результат - увеличение концентрации легирующего элемента в кристаллической решетке ультрадисперсных алмазов. 2 з.п. ф-лы, 1 ил.
2202514
выдан:
опубликован: 20.04.2003
СПОСОБ НЕЙТРОННО-ТРАНСМУТАЦИОННОГО ЛЕГИРОВАНИЯ КРЕМНИЯ

Изобретение относится к технологии нейтронно-трансмутационного легирования (НТЛ) кремния при промышленном производстве на энергетических реакторах типа РБМК, широко применяемого в технологии изготовления приборов электронной и электротехнической промышленности. Сущность изобретения: в способе нейтронно-трансмутационного легирования кремния, включающем циклическое облучение нейтронным потоком по дозно-временному регламенту контейнера со слитком кремния в канале ядерного реактора с известным исходным, но изменяющимся во времени высотным распределением плотности нейтронного потока, контроль за усредненным по длине слитка в контейнере флюенсом нейтронов, предложено вместе с легируемым кремнием в контейнере разместить несколько контрольных кремниевых шайб, облучение периодически прерывать, контейнер извлекать, производить отжиг контрольных шайб и измерения электрофизических параметров одной из них. Операции облучения и измерения повторяют до получения требуемых электрофизических параметров у кремния, а время каждого последующего облучения определяют по формуле tфакт=(t1+ti), где ti=0,7t - первый цикл облучения; ti=(фоi)/т(o)- последующие циклы облучения; где tфакт - фактическое время облучения слитков кремния при циклическом облучении, с; t1 - время облучения слитков кремния за 1-й цикл облучения, с; ti - время облучения слитков кремния за i-й цикл облучения, с; t0 - теоретически расчетное время облучения слитков кремния для набора расчетного флюенса, с; фо - расчетный флюенс облучения для достижения заданных электрофизических параметров кремния, см-2; фi - флюенс, набираемый слитками кремния при i-м цикле облучения, см-2; т(o)- плотность потока тепловых нейтронов, измеренная перед началом нейтронного облучения кремния, на основании которого рассчитывается to(n/см2 с-1). Использование предлагаемого способа получения легированных фосфором монокристаллов кремния повышает качество радиационно-легированного до низких номиналов УЭС кремния: снижает разброс УЭС; позволяет сохранить монокристаллическую структуру слитка, что в конечном итоге приводит к снижению внутренних механических напряжений и повышению времени жизни неосновных носителей заряда. 1 з.п.ф-лы, 2 ил., 3 табл.
2193610
выдан:
опубликован: 27.11.2002
СПОСОБ НЕЙТРОННО-ТРАНСМУТАЦИОННОГО ЛЕГИРОВАНИЯ КРЕМНИЯ

Заявляемое изобретение относится к технологии ядерного легирования полупроводниковых материалов при промышленном производстве на энергетических реакторах типа РБМК, широко применяемого в технологии изготовления полупроводниковых приборов для электронной и электротехнической промышленности. Сущность изобретения состоит в том, что в способе нейтронно-трансмутационного легирования кремния, включающем облучение нейтронным потоком по дозно-временному регламенту контейнера со слитками кремния в канале ядерного реактора с известным исходным, но изменяющимся во времени высотным распределением плотности нейтронного потока, и контроль за усредненным по длине слитков в контейнере флюенсом нейтронов, контроль за усредненным флюенсом нейтронов осуществляют с использованием нейтронной камеры и вертикальных сборок, составленных из дискретных датчиков тока прямого заряда, установленных в измерительных каналах реактора, вертикальные сборки датчиков тока устанавливают в противолежащие измерительные каналы со смещением их по вертикали на половину расстояния между датчиками в сборке. Электрический сигнал снимают с ионизационной камеры и датчиков тока и вводят в компьютер с программным средством, обеспечивающим корректировку показаний датчиков тока на основании показаний ионизационной камеры. С помощью средств автоматики, электрически связанных с выходом компьютера, контейнер перемещают и удерживают в зоне равномерного облучения на основании текущих показаний датчиков тока и задания дозно-временного регламента, а выводят контейнер из облучательного канала, когда интегральная доза облучения кремния достигнет заданного значения. Проведена зависимость, по которой определяют отображаемую в компьютере функцию распределения нейтронного потока, в промежутке между двумя смежными показаниями секций датчиков. Использование предлагаемого способа получения монокристаллического кремния, легированного фосфором на ядерном реакторе, повышает качество радиационно-легированного до любых номиналов удельного сопротивления кремния (УЭС), а именно снижает разброс УЭС, позволяет получить кремний с заданными электрофизическими свойствами, позволяет сохранить монокристаллическую структуру слитка, что в конечном итоге приводит к увеличению выхода годных приборов с улучшенными характеристиками в электронной и электрической промышленности. 1 з.п.ф-лы, 1 ил.
2193609
выдан:
опубликован: 27.11.2002
СПОСОБ ИОННОГО ЛЕГИРОВАНИЯ ТВЕРДЫХ ТЕЛ

Изобретение относится к области легирования твердых тел путем облучения ионами фазообразующих элементов и может быть использовано для ионной модификации структуры и физико-механических свойств металлов, полупроводников и сверхпроводников. Сущность способа ионного легирования твердых тел заключается в том, что одновременно или последовательно облучают объекты ионами инертного газа и ионами фазообразующих элементов, причем путем облучения ионами инертного газа в объекте формируют газовые нанопоры с одновременным или последовательным заполнением их объема ионами фазообразующих элементов. Изобретение решает задачу повышения эффективности ионного легирования и осуществление практической реализации условий формирования и синтезирования в твердых телах монодисперсных нановыделений различных фаз с высокой объемной плотностью. 4 ил.
2193080
выдан:
опубликован: 20.11.2002
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ИНТЕРКАЛИРОВАННЫХ СОЕДИНЕНИЙ И СОЕДИНЕНИЯ, ПОЛУЧЕННЫЕ ЭТИМ СПОСОБОМ

Изобретение относится к области технологии получения и легирования неорганических веществ и может быть использовано в микроэлектронике, полупроводниковом приборостроении. Предлагаемый способ отличается тем, что в качестве интеркалянта (внедряемого вещества) в нем используют сложные кристаллические вещества с цепочечной структурой кристаллической решетки, в частности полупроводники TlSe и ТlInSe2. При этом вещество интеркалянта поддерживают в состоянии расплава, а матрицу (интеркалируемый кристалл), находящуюся в контакте с расплавом, подвергают периодическому нагреванию и охлаждению в интервале между температурой плавления и затвердевания вещества интеркалянта с перемещением фронта горячей области вдоль матрицы в прямом и обратном направлениях. Физической основой предлагаемого способа является свойство "самозатравления", характерного для веществ с цепочечной структурой кристаллической решетки, особенно для соединений TlSe и TllnSe2, и обусловленного сильной анизотропией скоростей роста этих кристаллов. Это свойство позволяет реализовать иной, нежели в известных способах, механизм внедрения путем "прорастания" в матрицу кристаллов интеркалянта вдоль оси их максимальной скорости роста. Изобретение позволяет получить новую группу интеркалированных соединений, при этом достигается значительное сокращение времени процесса интеркаляции, а также особое состояние интеркалянта в матрице, когда сохраняется индивидуальность кристаллической структуры вещества интеркалянта при его внедрении в матрицу. 2 c. и 1 з.п. ф-лы.
2156329
выдан:
опубликован: 20.09.2000
СПОСОБ ВВЕДЕНИЯ ЛИГАТУРЫ В РАСПЛАВ ПРИ ПОЛУЧЕНИИ БЕРИЛЛА

Изобретение относится к области производства синтетических драгоценных камней. Техническим результатом является упрощение процесса введения легирующих компонентов в расплав при получении берилла. Легирующие компоненты вводят в расплав из футеровки стальной колбы, при этом футеровку выполняют из трех слоев. Первый слой, состоящий из смеси разлома огнеупорного кирпича и огнеупорной глины при соотношении 3 к 1 с добавлением воды, толщиной 20-25 мм наносят на стенки и дно стальной колбы, просушивают и обжигают. На первый слой наносят второй слой толщиной 10-15 мм, состоящий из огнеупорной глины и легирующих компонентов, необходимых для введения в расплав с добавлением для повышения твердости корунда. Второй слой также просушивается и обжигается, после чего наносят третий слой толщиной до 3 мм, который по составу аналогичен первому, после сушки и обжига замазывают трещины и производят заключительную сушку.
2147049
выдан:
опубликован: 27.03.2000
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ИСКУССТВЕННЫХ КРИСТАЛЛОВ АЛМАЗА ОСОБО КРУПНЫХ РАЗМЕРОВ

Использование: получение искусственного алмаза. Поставленная задача выполняется с помощью наработки жидкого расплава углерода между углеродсодержащими электродами, один из которых расположен в горизонтальном положении, а другой установлен вертикально. Наработанный в горизонтально расположенном электроде определенный объем жидкой ванны расплава углерода транспортируют в жидкий углеводородный охладитель, расположенный ниже ванны расплава, путем обрушивания в темпе утонченной расплавлением подины ванны расплава, с помощью импульса разности давлений, сжатого водорода, высокого - в зоне зеркала расплава углерода, и низкого - в зоне жидкого охладителя, из замкнутой зоны которого импульсом сбрасывается давление водорода в атмосферу. Технический результат - получение алмазов крупных размеров. 2 ил.
2118562
выдан:
опубликован: 10.09.1998
СПОСОБ СИНТЕЗА МОНОКРИСТАЛЛОВ АЛМАЗА И РЕАКТОР ДЛЯ ЕГО РЕАЛИЗАЦИИ

Изобретение относится к способам синтеза монокристаллов алмаза (МКА) из низкомолекулярных углеродсодержащих соединений при высоких температурах в гетерогенных селикатных средах. Сущность изобретения: техническим результатом, достигаемым в изобретении, для способа синтеза монокристаллов алмаза и реактора для его реализации является обеспечение синтеза монокристаллов алмаза большой каратности. Реактор содержит корпус, выполненный в виде обечайки с крышкой и днищем, узел загрузки шихты, узел слива продуктов реакции, узлы подачи углеродсодержащих веществ, теплообменник охлаждения, патрубок для отвода газообразных продуктов реакции. Реактор может быть снабжен по крайней мере одним узлом фиксации монокристаллов алмаза. В корпус через узел загрузки загружается шихта определенного состава порционно. После этого включается узел нагрева и шихту нагревают до температуры 800-1450oC, одновременно с нагревом шихты вводят в образовавшуюся гетерогенную среду через узел подачи углеродсодержащих веществ углеводородные вещества с расходом от 0,001 до 3% от массы шихты в минуту. Образовавшуюся гетерогенную среду периодически охлаждают теплообменником охлаждения до температуры 650-1050oC с синтезированием монокристаллов алмаза, в том числе большой каратности. В образовавшуюся гетерогенную среду можно подавать азот или азотсодержащие низкомолекулярные соединения с расходом от 0,001 до 2 мас.% в минуту через узел подачи углеродсодержащих веществ. В шихту или гетерогенную среду могут также вводиться элементы III или V групп ПСЭ, что позволяет синтезировать азотсодержащие монокристаллы алмаза или МКА с полупроводниковыми свойствами. Способ может быть осуществлен и при фиксации алмазов путем установки гребенки узла фиксации монокристаллов алмаза в горизонтальное положение, растущие МКА задерживаются гребенкой до окончания роста МКА со стабильными характеристиками. 2 с. и 10 з.п. ф-лы, 2 табл., 4 ил.
2102542
выдан:
опубликован: 20.01.1998
СПОСОБ ОКРАШИВАНИЯ ВСТАВОК ИЗ ЮВЕЛИРНЫХ КАМНЕЙ НА ОСНОВЕ ОКСИДНЫХ КРИСТАЛЛОВ

Изобретение относится к технологии тонкой обработки природных и синтетических ювелирных камней, а именно - к технологии окраски бесцветных вставок из ювелирных камней на основе оксидных материалов. Цель изобретения достигается отжигом вставок из ювелирных камней на основе оксидных кристаллов в специально сконструированных изделиях из корунда в атмосфере инертного газа при температуре 1400-1600oC в течение 2-6 часов. Эффект "игры цвета", интенсивность окраски достигается выбором внутренней формы корундового изделия, способом размещения окрашиваемого камня в последнем и механической регулировкой толщины окрашенного слоя. 2 з.п. ф-лы, 4 ил.
2081949
выдан:
опубликован: 20.06.1997
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ОДНОРОДНО ЛЕГИРОВАННЫХ МОНОКРИСТАЛЛОВ КРЕМНИЯ

Изобретение относится к выращиванию монокристаллов кремния методом Чохральского с последующим их применением при изготовлении полупроводниковых приборов, в частности мощных и силовых транзисторов, силовых диодов, тиристоров и т. д., и позволяет повысить выход в годную продукцию как при выращивании монокристаллического кремния, так и при изготовлении полупроводниковых приборов на основе такого кремния. Это достигается тем, что при выращивании монокристалла проводят частичное легирование кремния фосфором, а долегирование до заданного уровня удельного электрического сопротивления (УЭС) осуществляют термодонорами путем отжига кремния или 350 - 500oС, совмещая или сочетая его с температурными обработками, содержащими эти температуры в цикле изготовления прибора, причем содержание и распределение доноров, обусловленных легированием фосфором, а также содержание и распределение термодоноров выбирают таким образом, чтобы суммарная концентрация доноров в каждой точке монокристалла кремния в готовых приборах соответствовала заданному уровню УЭС. 5 ил.
2076155
выдан:
опубликован: 27.03.1997
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ЭЛЕМЕНТОЗАМЕЩЕННЫХ СПЛАВОВ С ДЛИННОПЕРИОДНЫМИ И АМОРФНЫМИ ФАЗАМИ

Изобретение относится к физико-химии реакции в сплавах и может быть использовано для разработки композиционных материалов, электроконтактных материалов повышенной термостойкости, кристаллов плотноупакованных фаз с равномерным распределением компонентов с улучшенными физико-химическими характеристиками. Улучшение характеристик происходит за счет самолегирования сопряженных решеток плотноупакованных фаз, обусловленного когерентными кристаллизацией или стеклованием в структуру или соответствующий ей ближний порядок мартенситной гексагональной плотноупакованной фазы при значительных переохлаждениях расплава с подавлением процесса конвективного перемешивания или при наложении высокого давления. Представлены примеры реализации способа для случаев металлических сплавов двойных систем. Возможно использование способа в экологических программах при утилизации отходов ряда производств. 1 н. и 1 з. п. ф-лы, 3 пр. 4 ил.
2066353
выдан:
опубликован: 10.09.1996
МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИЙ ЛАЗЕРНЫЙ СТЕРЖЕНЬ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Использование: в квантовой электронике при изготовлении лазерных стержней (С). Сущность: монокристаллический С из высокотемпературного сложного оксида с активирующей добавкой имеет поверхностный фильтрующий слой, содержащий ионы висмута. Для изготовления С термообрабатывают при 650 - 800oС в течение не менее 1 ч в порошке из оксида висмута. Температура обработки снижена в два раза, что удешевляет и упрощает процесс при сохранении устойчивости к ультрафиолетовому излучению. 2 с. п. ф-лы, 1 табл.
2055949
выдан:
опубликован: 10.03.1996
Наверх