Лазеры, т.е. устройства для генерирования, усиления, модуляции, демодуляции или преобразования частоты, использующие стимулированное излучение электромагнитных волн с длиной волны большей, чем длина волны в ультрафиолетовом диапазоне: ....газового лазера – H01S 3/0943

МПКРаздел HH01H01SH01S 3/00H01S 3/0943
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H01 Основные элементы электрического оборудования
H01S Устройства со стимулированным излучением
H01S 3/00 Лазеры, т.е. устройства для генерирования, усиления, модуляции, демодуляции или преобразования частоты, использующие стимулированное излучение электромагнитных волн с длиной волны большей, чем длина волны в ультрафиолетовом диапазоне
H01S 3/0943 ....газового лазера

Патенты в данной категории

СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ РАСПРЕДЕЛЕНИЯ ИНВЕРСИИ В АКТИВНОМ ЭЛЕМЕНТЕ ЛАЗЕРА

Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано при работе с твердотельными, жидкостными и газовыми лазерами, применяемыми в лазерной технологии, системах передачи информации, медицине, в научных исследованиях. Формируют распределение инверсии в активном элементе лазера длиной 1 по направлению z, 0<1<z, с характерным размером входной апертуры а0 по поперечной координате r, осуществляя селективную накачку активного элемента излучением в узкой спектральной области р около длины волны , р<<, в полосу поглощения среды в ИК, видимом или УФ диапазонах спектра. Пучок накачки с характерным поперечным размером r0 и с радиусом кривизны волнового фронта проходит через апертуру системы концентрации энергии накачки и распространяется затем в активном элементе вдоль направления z, поглощаясь в активной среде и формируя распределение инверсии n(r,z). В качестве системы концентрации предлагается диафрагма с поперечным размером а, а<r00, активный элемент размещают в зоне дифракции Френеля пучка на диафрагме так, что расстоянию z от диафрагмы до входной апертуры активного элемента соответствует целое число Френеля N=a 2/Z1, где Z=z/(z+), а длину активного элемента выбирают из соотношения 1a 2/N(N+l). Обеспечено увеличение плотности мощности накачки в активной среде в несколько раз. 1 з.п. ф-лы, 5 ил.

2239920
патент выдан:
опубликован: 10.11.2004
Наверх