Полупроводниковые приборы, специально предназначенные для выпрямления, усиления, генерирования или переключения и имеющие по меньшей мере один потенциальный барьер, на котором имеет место скачкообразное изменение потенциала, или поверхностный барьер, конденсаторы или резисторы, содержащие по меньшей мере один потенциальный барьер, на котором имеет место скачкообразное изменение потенциала, или поверхностный барьер, например имеющие обедненный слой с электронно-дырочным переходом или слой с повышенной концентрацией носителей, конструктивные элементы полупроводниковых подложек или электродов для них: ..отличающиеся физическими дефектами структуры, имеющие полированную или шероховатую поверхность – H01L 29/30

МПКРаздел HH01H01LH01L 29/00H01L 29/30
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H01 Основные элементы электрического оборудования
H01L Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам
H01L 29/00 Полупроводниковые приборы, специально предназначенные для выпрямления, усиления, генерирования или переключения и имеющие по меньшей мере один потенциальный барьер, на котором имеет место скачкообразное изменение потенциала, или поверхностный барьер; конденсаторы или резисторы, содержащие по меньшей мере один потенциальный барьер, на котором имеет место скачкообразное изменение потенциала, или поверхностный барьер, например имеющие обедненный слой с электронно-дырочным переходом или слой с повышенной концентрацией носителей; конструктивные элементы полупроводниковых подложек или электродов для них
H01L 29/30 ..отличающиеся физическими дефектами структуры; имеющие полированную или шероховатую поверхность

Патенты в данной категории

КРИСТАЛЛИЧЕСКАЯ ПОДЛОЖКА ИЗ AlxGayIn1-x-yN, ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ ПРИБОР И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Изобретение относится к полупроводниковым приборам на кристаллической нитридной подложке. Сущность изобретения: кристаллическая подложка из AlxGayIn 1-x-yN (0 х, 0 у, х+у 1) (12) имеет главную плоскость (12m) с площадью по меньшей мере 10 см2, в которой упомянутая главная плоскость (12m) имеет внешнюю область (12w), расположенную в пределах 5 мм от внешней периферии упомянутой главной плоскости, и внутреннюю область (12n), соответствующую области, отличной от упомянутой внешней области. Упомянутая внутренняя область (12n) имеет суммарную плотность дислокации, по меньшей мере, 1×102 см-2 и не более 1×106 см-2 . Изобретение позволяет получить кристаллическую подложку из AlxGayIn1-x-yN в качестве подложки полупроводникового прибора, которая является большой по размеру и имеет подходящую плотность дислокации, полупроводниковый прибор, содержащий такую кристаллическую подложку, и способ его изготовления. 3 н. и 11 з.п. ф-лы, 5 ил.

2401481
патент выдан:
опубликован: 10.10.2010
МОЩНЫЙ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ РЕЗИСТОР-ШУНТ И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Изобретение относится к конструированию и технологии изготовления силовых полупроводниковых приборов и может быть использовано в производстве мощных кремниевых резисторов таблеточного исполнения, в частности резисторов-шунтов, характеризующихся низким значением номинального сопротивления 0,2÷1 мОм с пониженной температурной зависимостью сопротивления в рабочем интервале температур. Техническим результатом изобретения является расширение интервала номинальных сопротивлений в область низких значений ( 5 мОм) при сохранении температурной стабильности и себестоимости изготовления и, как следствие, расширение функциональных возможностей мощных кремниевых резисторов - использование их в качестве шунтов. Сущность изобретения: в мощном полупроводниковом резисторе, состоящем из резистивного элемента, выполненного в виде кремниевого диска n-типа электропроводности с исходным удельным сопротивлением от 7 Ом·см до 120 Ом·см, содержащего радиационные дефекты, резистивный элемент состоит из сильнолегированной n+ -подложки и тонкого высокоомного эпитаксиального n-слоя, при этом радиационные дефекты имеют концентрацию N [см -3] в зависимости от исходного удельного сопротивления высокоомного эпитаксиального слоя n0 [Ом·см] от 4·1013 см -3 для n0=120 Ом·см до 7.5·1014 см-3 для n0=7 Ом·см, при этом радиационные дефекты получают путем облучения ускоренными электронами с энергией Е=2÷5 МэВ с последующим термическим отжигом. 2 н.п. ф-лы, 4 табл, 2 ил.

2388113
патент выдан:
опубликован: 27.04.2010
МОЩНЫЙ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ РЕЗИСТОР И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Использование: в производстве мощных кремниевых резисторов таблеточного исполнения, в частности высокотемпературных кремниевых резисторов. Техническим результатом изобретения является повышение максимально допустимой температуры мощного кремниевого резистора до 180oС при сохранении температурной характеристики сопротивления в пределах 10% и, как следствие, повышение его номинальной мощности. Сущность изобретения: в мощном полупроводниковом резисторе, который состоит из резистивного элемента, выполненного в виде диска из монокристаллического кремния n-типа электропроводности и содержащего радиационные дефекты, эти дефекты имеют концентрацию от 41013 см-3 для кремния с удельным сопротивлением o=120 0мсм до 2,51014 см-3 для кремния с o= 20 0мсм, причем эти дефекты вводят путем облучения ускоренными электронами с энергией 2 - 5 МэВ, дозой от 3,41015 см-2 для кремния с o=120 0мсм до 21016 см-2 для кремния с o=20 Омсм с последующим термостабилизирующим отжигом. 2 с.п. ф-лы, 5 табл., 3 ил.
2169411
патент выдан:
опубликован: 20.06.2001
МОЩНЫЙ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫЙ РЕЗИСТОР И СПОСОБ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Использование: в производстве мощных полукремниевых резисторов таблеточного исполнения. Сущность: резистивный элемент, выполненный в виде диска из монокристаллического кремния п-типа проводимости, содержит радиационные дефекты с концентрацией от 31012 см-3 для кремния с удельным сопротивлением o= 700 Омсм до 31013 см-3 для кремния с удельным сопротивлением o=150 Омсм. Дефекты в кремнии создают путем облучения резистивного элемента пучком электронов с энергией 2-5 МэВ дозой от 2,51014 см-2 для кремния с o= 700 Омсм до дозы 2,51015 см-2 для кремния с o=150 Омсм. После облучения проводят термостабилизирующий отжиг. 2 с.п. ф-лы, 4 табл., 2 ил.
2086043
патент выдан:
опубликован: 27.07.1997
Наверх