Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности, материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты, устройства, специально приспособленные для этих целей: ..снятие покрытия или агенты для этой цели – G03F 7/42

МПКРаздел GG03G03FG03F 7/00G03F 7/42
Раздел G ФИЗИКА
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 7/00 Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 7/42 ..снятие покрытия или агенты для этой цели

Патенты в данной категории

СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ЭЛЕКТРОННОГО УСТРОЙСТВА

Изобретение относится к технологии полупроводниковых устройств. В способе формирования электронного устройства удаляют фоторезист с по меньшей мере одной поверхности проводящего слоя с использованием смеси реактивов, которая содержит первый материал самоорганизующегося монослоя и реактив для удаления фоторезиста, таким образом осаждают самоорганизующийся монослой на по меньшей мере одну поверхность указанного проводящего слоя и осаждают полупроводниковый материал на самоорганизующийся монослой, нанесенный на проводящий слой, без озонной очистки проводящего слоя. Техническим результатом изобретения является упрощение способа формирования электронного устройства. 2 н. и 13 з.п. ф-лы, 4 ил.

2515340
патент выдан:
опубликован: 10.05.2014
СПОСОБ ОБРАБОТКИ ЖИДКОСТИ

Изобретение относится к способу обработки жидкости, который включает удаление компонента смолы из жидкости, используемой для отслаивания компонента органической смолы с поверхности подложки. Способ обработки жидкости включает разложение смолы в жидкости с помощью обеспечения контакта газообразного озона с жидкостью, содержащей водорастворимое карбонильное соединение и смолу. Также способ обработки жидкости включает удаление органической кислоты, генерируемой при разложении смолы из жидкости посредством подвергания жидкости после разложения ионному обмену на ионообменной смоле. При этом ионообменная смола включает анионообменную смолу. Причем жидкость, подлежащая ионному обмену, содержит воду. При этом водорастворимое карбонильное соединение представляет собой, по меньшей мере, одно, выбранное из -бутиролактона, этиленкарбоната, этиленацетата и глицеролацетата. Кроме того, жидкость, которую используют для контакта с газообразным озоном при разложении, получают посредством использования жидкости, содержащей водорастворимое карбонильное соединение и воду, в качестве растворителя, и удаления смолы с подложки, снабженной смолой. Техническим результатом изобретения является обеспечение повторного использования отслаивающей жидкости для удаления компонентов смолы, а также использования отслаивающей жидкости, которая не вызывает коррозию металла на подложке. 10 з.п. ф-лы, 3 ил., 1 табл.

2439641
патент выдан:
опубликован: 10.01.2012
КОМПОЗИЦИЯ ДЛЯ УДАЛЕНИЯ С ПЕЧАТНЫХ ФОРМ ФОТОХИМИЧЕСКИ ЗАДУБЛЕННЫХ СЛОЕВ НА ОСНОВЕ ПОЛИВИНИЛОВОГО СПИРТА

Изобретение может быть использовано в полиграфической, электронной и радиотехнической промышленности для регенерации сеткотрафаретных печатных экранов, полученных с помощью фоторезистов. Окислительная композиция для удаления задубленного полимерного слоя на основе поливинилового спирта содержит, мас.%: метапериодат натрия или калия или дигидроортопериодат натрия или калия 20-70; соль или соли магния, или кальция, или алюминия 20-70; одну или более кристаллических органических кислот 5-50. Изобретение позволяет повысить эффективность регенерации сеткотрафаретных печатных экранов, улучшить сохраняемость окислительных композиций.

2316032
патент выдан:
опубликован: 27.01.2008
Наверх