Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности, материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты, устройства, специально приспособленные для этих целей: ..высокомолекулярные соединения, обрабатываемые для придания нерастворимости или различной смачиваемости – G03F 7/038

МПКРаздел GG03G03FG03F 7/00G03F 7/038
Раздел G ФИЗИКА
G03 Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
G03F Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 7/00 Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
G03F 7/038 ..высокомолекулярные соединения, обрабатываемые для придания нерастворимости или различной смачиваемости

Патенты в данной категории

НЕГАТИВНАЯ ФОТОЧУВСТВИТЕЛЬНАЯ ПОЛИМЕРНАЯ КОМПОЗИЦИЯ, СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ПАТТЕРНА И ГОЛОВКА ДЛЯ ВЫБРАСЫВАНИЯ ЖИДКОСТИ

Изобретение относится к фоточувствительной композиции смолы, используемой для получения головки для выбрасывания жидкости для генерирования капли жидкости, например капли краски, а также к способу формирования паттерна и к головке для выбрасывания жидкости. Фоточувствительная композиция включает катионно-полимеризуемое соединение, фотогенератор кислоты, имеющую анионную часть и катионную часть, а также соль, имеющую катионную часть, обладающую любой одной из четвертичной структурой аммония или четвертичной структурой фосфония, и анионную часть. При этом анионная часть соли замещена анионной частью первой кислоты, полученной из анионной части фотогенератора кислоты, для формирования второй кислоты, обладающей силой кислоты, меньшей, чем сила кислоты первой кислоты. Катионно-полимеризуемое соединение представляет собой эпоксидную смолу. Фотогенератор кислоты представляет собой, по меньшей мере, соединение, выбранное из группы, включающей соединение сульфоновой кислоты и другие производные сульфоновой кислоты, диазометановое соединение, соединение соли сульфония, соединение соли йодония, сульфонимидное соединение, дисульфоновое соединение, нитробензольное соединение, бензоинтозилатное соединение, ареновый комплекс железа, галогенсодержащее соединение триадина, производное соединение ацетофена, и содержащий цианогруппу сульфатоксим. Способ формирования паттерна заключается в том, что готовят подложку, на которой предоставлена фоточувствительная композиция. Затем проводят экспонирование участка композиции светом для отверждения экспонированной части. Далее отвержденную часть нагревают. Головка для выбрасывания жидкости включает часть с выпускным каналом для выбрасывания жидкости. Часть с выпускным каналом сформирована из отвержденного материала, выполненного из вышеуказанной композиции. Изобретение позволяет повысить термостойкость фоточувствительной композиции и повысить точность формирования паттерна. 3 н. и 10 з.п. ф-лы, 5 табл., 4 ил., 9 пр.

2495468
патент выдан:
опубликован: 10.10.2013
СВОБОДНАЯ ОТ СУРЬМЫ ФОТООТВЕРЖДАЕМАЯ ПОЛИМЕРНАЯ КОМПОЗИЦИЯ И ТРЕХМЕРНОЕ ИЗДЕЛИЕ

Изобретение относится к фотоотверждаемой композиции для трехмерного изделия, содержащей в % мас. (а) катионно-отверждаемый компонент, содержащий оксетановое соединение 35-80; (b) свободнорадикально-активный компонент, содержащий поли(мет)акрилат, который не является дипентаэритритгексаакрилатом 15-60; (с) свободный от сурьмы катионный фотоинициатор 0,1-10; (d) свободнорадикальный фотоинициатор 0,01-10; (е) одну или более добавок, повышающих ударопрочность 0,01-40. Фотоотверждаемая композиция может быть отверждена под действием актинического излучения и необязательно нагрева, что позволяет получить трехмерные изделия, которые могут использоваться в различных аэрокосмических отраслях и в способах литья с выплавляемыми моделями. Также описан способ получения нетоксичной фотоотверждаемой композиции путем смешения всех компонентов и способ получения трехмерного изделия, свободного от сурьмы. Технический результат - получение твердых деталей достаточной прочности, стабильная вязкость смолы, улучшенная ударопрочность и эластичность деталей. 7 н. и 18 з.п. ф-лы, 45 табл.

2408627
патент выдан:
опубликован: 10.01.2011
ПРИДАНИЕ ЖЕСТКОСТИ НАДУВНЫМ РАЗВЕРТЫВАЕМЫМ СТРУКТУРАМ, В ЧАСТНОСТИ, ДЛЯ ИСПОЛЬЗОВАНИЯ В КОСМОСЕ

Изобретение относится к области приборостроения. Изобретение содержит гибкую мембрану для надувных развертываемых структур, которая содержит один слой композитного материала и, по меньшей мере, одну полимерную пленку, которая является проницаемой для видимого излучения и покрывает одну из сторон указанного слоя. Композитный материал сформирован из волокнистого материала, импрегнированного композицией, включающей в себя эпоксидную или эпокси/акрилатную смолу и фотоинициатор, который представляет собой комплексную соль, содержащую железо, ареновую группу и ненуклеофильный анион. Технический результат - оптимизация механических свойств мембраны. 3 н. и 14 з.п. ф-лы, 7 ил., 2 табл.

2381535
патент выдан:
опубликован: 10.02.2010
КОМПОЗИЦИИ ДЛЯ ПОКРЫТИЙ, НЕ СОДЕРЖАЩИЕ ТЯЖЕЛЫХ МЕТАЛЛОВ

Изобретение относится к УФ-отверждаемым катионно-полимеризуемым композициям, не содержащим тяжелых металлов. УФ-отверждаемая катионно-полимеризуемая композиция содержит (а) моно-, бис- или высшие алифатические или ароматические глицидиловые эфиры, (b) двуокись титана, (с) в качестве фотоинициатора, по крайней мере, одну гексафторфосфатную соль иодония формулы I



где R1, R2, R3 и R4 каждый независимо один от другого представляет водород, С120 алкил или незамещенный или гидроксилзамещенный С120 алкокси, при условии, что по крайней мере один из R1, R2, R3 или R4 не является атомом водорода, и (d) соединение-сенсибилизатор, при этом содержание компонента (а) составляет 40-70%, содержание двуокиси титана (b) составляет 20-55%, содержание фотоинициатора (с) составляет 0,5-10% и содержание соединения-сенсибилизатора (d) составляет 0,1-3%. Также изобретение относится к субстрату с нанесенным покрытием, способу фотополимеризации композиции по п. 1. Изобретение позволяет получить композиции, имеющие хорошую устойчивость к пожелтению и не содержащие тяжелых металлов. 3 с. и 7 з.п. ф-лы, 1 табл.
2219571
патент выдан:
опубликован: 20.12.2003
Наверх