Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности, материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты, устройства, специально приспособленные для этих целей: .светочувствительные материалы – G03F 7/004

Изобретение относится к светочувствительной полимерной композиции, пригодной для получения различных микроустройств для микроэлектромеханических систем и других систем, а также к способу получения структуры и к головке для подачи жидкости. Полимерная композиция содержит следующие компоненты: (a) эпоксидную смолу, которая может полимеризоваться в присутствии кислоты; (b) агент, генерирующий фотокислоту, содержащий ониевую соль, содержащую структуру катионной части, представленную формулой (b1), и структуру анионной части, представленную формулой (b2),

Изобретение относится к химии и технологии фотополимеризующихся композиций, а именно окрашенных композиций, предназначенных для печати по текстильным материалам с последующей фиксацией УФ-излучением. Фотополимеризующаяся композиция для печати по текстильным материалам включает (мет)акриловый олигомер, фотополимеризующийся (мет)акриловый мономер с более чем одной (мет)акрильной группой, фотоинициатор, соинициатор, (мет)акриловый полимер, неионогенное поверхностно-активное вещество, пеногаситель и окрашивающий компонент. При этом окрашивающим компонентом является продукт нанесения смеси красителей - катионных, прямых, кислотных, активных или дисперсных, выбранных из одного или разных классов, на наноструктурированные частицы монтмориллонита, или модифицированного катионным поверхностно-активным веществом монтмориллонита, или гидроталькита.

Техническим результатом изобретения является получение окрашенного текстильного материала с повышенной устойчивостью к физико-химическим воздействиям, снижение времени облучения, необходимого для прочной фиксации материала, увеличение содержания красителей на наноструктурированных частицах, получение дополнительных колористических эффектов, а также изменение выпускной формы окрашенных наноструктурированных частиц, облегчающее их последующее диспергирование в олигомер/мономерной композиции. 2 табл., 44 пр.

Изобретение относится к композиции, меняющей цвет в зависимости от дозы поглощенного излучения, и ее применению в качестве индикатора дозы УФ-излучения. Описывается композиция, меняющая цвет в зависимости от дозы поглощенного излучения. Композиция включает (а) чувствительный к воздействию кислоты краситель и (b) фотолатентную кислоту - сульфонилоксим формулы (IIа)

.

Описываются также способ определения дозы излучения и индикатор дозы УФ-излучения с использованием подложки с нанесенным покрытием указанной композицией. Изобретение обеспечивает эффективное определение дозы энергии на подложку, содержащую покрытие, и определение критических участков покрытия, для которых излучение недостаточно интенсивно для обеспечения достаточного отверждения. 3 н. и 8 з.п. ф-лы, 10 табл., 6 пр.

Изобретение относится к новым веществам для покрытий офсетных печатных форм и к покрывающему раствору офсетной печатной формы, содержащему указанные вещества. Описывается полимеризуемая соль иодония, включающая положительно заряженный атом иода, к которому присоединены два арильных кольца и отрицательно заряженный противоион, и по меньшей мере один заместитель, содержащий группу уретана и/или мочевины, присоединенную по меньшей мере к одному из указанных арильных колец, причем указанный заместитель содержит по меньшей мере одну функциональную группу, способную к катионной или радикальной полимеризации. Описывается также сополимер ацеталя поливинилового спирта, содержащий по меньшей мере одну функциональную группу, способную к катионной или радикальной полимеризации, предпочтительно, виниловый эфир, алкокси-метилакриламид или алкоксиметакриламид. Описывается также полимерное связующее для покрытий офсетной печатной формы ряда ацеталя поливинилового спирта, ряда эфира целлюлозы и связующее на основе мономеров, каждое из которых содержит по меньшей мере одну функциональную группу, способную к катионной или радикальной полимеризации. Описывается также покрывающий раствор офсетной печатной формы, включающий указанную полимеризуемую соль иодония, указанный сополимер ацеталя поливинилового спирта и связующее из указанного ряда. Изобретение обеспечивает повышение качества изображения высокого разрешения при многократном использовании печатной формы. 6 н. и 11 з.п. ф-лы, 25 ил., 21 пр.

Настоящее изобретение относится к фотоотверждаемой композиции для получения трехмерных изделий и может применяться в процессе быстрого макетирования при получении реальных изделий, спроектированных на компьютере. Предложенная композиция содержит 30-80% вес. эпоксисодержащего соединения; 5-40% вес. дифункционального (мет)акрилата; катионный фотоинициатор; свободно-радикальный фотоинициатор; необязательно один или более стабилизаторов; 5-40% вес. полиолсодержащей смеси из, по крайней мере, одного компонента, выбранного из поли(окситетраметилен)гликоля, поли(оксипропилен)гликоля, поли(оксиэтилен)гликоля, полибутадиена с концевыми гидроксильными группами или полисилоксана с концевыми гидроксильными группами, и, по крайней мере, одного полиола, отличного от вышеуказанных, с большим молекулярным весом, чем вышеуказанные; где процент по весу рассчитан исходя из полного веса фотоотверждаемой композиции. Технический результат - предложенная композиция обеспечивает прозрачную, с низкой вязкостью фотоотверждаемую композицию, которая может быть отверждена с использованием метода быстрого макетирования с образованием матово-белых трехмерных изделий, имеющих свойства, подобные акрилонитри-бутадиен-стиролу (АБС). 2 н. и 5 з.п. ф-лы, 27 табл.

Способ содержит первую чистку заготовки с металлическим покрытием. Далее наносят фоторезист на заготовку и сушат ее. Проводят первую термообработку заготовки, экспонирование, проявление и вторую термообработку заготовки. Осуществляют травление и вторую чистку заготовки. После проявления производят дополнительное ретуширование заготовки защитным лаком. Операцию травления заготовки делят на травление защитного металлического покрытия, рельефное химическое травление заготовки через защитные фоторезистивное, лаковое и металлическое покрытия и травление металлического покрытия после второй чистки заготовки. Лаковое покрытие удаляют после рельефного химического травления и перед второй чисткой производят запуск. Рельефное химическое травление заготовки производят или травителем в виде пасты, или жидким травителем, или в парах травителя. Технический результат - изготовление высокоточных оптических шкал произвольной топологии с высокой чистотой полированной поверхности. 2 н. и 2 з.п. ф-лы.

Изобретение относится к черной матрице, применяемой в цветных дисплеях для улучшения контраста изображения. Описывается черная матрица, которую формируют нанесением композиции способного к отверждению покрытия на субстрат с последующим отверждением, проявлением и сушкой покрытия. Композиция для формирования отверждаемого покрытия содержит связующее и, по меньшей мере, один модифицированный пигмент, представляющий собой пигмент, который содержит, по меньшей мере, одну присоединенную к нему органическую группу формулы -X-I, где Х непосредственно присоединен к пигменту и означает ариленовую, или гетероариленовую, или алкиленовую группу, I - неполимерная группа, содержащая, по меньшей мере, одну ионную группу или, по меньшей мере, одну способную к ионизации группу. При этом отвержденное покрытие содержит примерно 30% мас. или более модифицированного пигмента в расчете на массу отвержденного покрытия. Описываются также состав способного к отверждению покрытия, отвержденное покрытие, способ повышения удельного сопротивления покрытия и способ его регулирования. Предложенная черная матрица обладает повышенными значениями удельного сопротивления и оптической плотности. 20 н. и 65 з.п. ф-лы, 4 ил., 7 табл.

Изобретение относится к полимеру, поглощающему в близкой инфракрасной области спектра, содержащему, по меньшей мере, две различные боковые инфракрасные хромофорные группы, ковалентно связанные с главной полимерной цепью растворимой в основаниях смолы, по меньшей мере, одна из которых представляет собой индолцианиновый краситель, а другая представляет собой бенз[е]индолцианиновый краситель. При использовании покрытия допечатной светочувствительной положительной формной офсетной пластины время стабилизации, необходимое после производства, значительно снижается и удается избежать дополнительного процесса кондиционирования перед использованием. Допечатные пластины предпочтительно представляют собой пластины, экспонированные по изображению лазером, испускающим в близкой инфракрасной области при длинах волн между 780 нм и 850 нм. 4 н. и 7 з.п. ф-лы, 2 табл.

Изобретение относится к новым светочувствительным органическим системам на основе хромонов, предназначенным для применения в различных фотоуправляемых устройствах фотоники. Описываются новые замещенные или незамещенные производные 2-фурил-3-ацетилхромонов, обладающие фотоиндуцированной флуоресценцией. Способ их получения заключается в том, что 2-гидроксиацетофенон или его соответствующее производное подвергают ацилированию хлорангидридом карбоновой кислоты с последующей обработкой продукта реакции трет-бутоксидом калия. Образующееся при этом производное -дикетона подвергают кротоновой конденсации с альдегидом при пониженной температуре от (-)10 до 15°С и далее - окислению диоксидом селена. Описываются также светочувствительный полимерный материал с фотоиндуцированной флуоресценцией на основе указанных производных хромона, его получение и использование в светочувствительной регистрирующей среде для трехмерной архивной оптической памяти. Использование предложенных производных хромона в полимерном слое обеспечивает необратимое фотоуправление их люминесцентными свойствами и решает проблему несовпадения полос поглощения светочувствительных материалов с излучением полупроводниковых лазеров за счет батохромного сдвига полос поглощения светочувствительных материалов на 10-50 нм. 5 н. и 1 з.п. ф-лы, 2 ил., 2 табл.

Изобретение относится к новым соединениям формулы I, которые могут использоваться в фотополимеризующейся композиции, отверждаемой в присутствии каталитических количеств оснований, возможно при излучении, и в качестве фотоинициаторов для получения покрытий. В формуле (I)

R₁ обозначает фенил, нафтил, фенантрил, антрил, пиренил, 5,6,7,8-тетрагидро-2-нафтил, 5,6,7,8-тетрагидро-1-нафтил, тиенил, тиантренил, антрахинонил, ксантенил, тиоксантил, феноксантиинил, карбазолил, фенантридинил, акридинил, флуоренил или феноксазинил, причем эти радикалы являются незамещенными или один или несколько раз замещенными С₁-С₁₈ алкилом, С₂-С₁₈алкенилом, С₁-С₁₈галоалкилом, NO₂, NR₁₀R ₁₁, CN, OR₁₂, SR₁₂ , атомом галогена или радикалом формулы II

или радикал R₁ обозначает радикал формулы III

R₂ и R₃ независимо друг от друга обозначают водородный атом; R ₁₀, R₁₁ R₁₂ независимо друг от друга обозначают водородный атом или С ₁-С₁₈алкил; R₄ и R₆, совместно образуют С ₂-С₁₂алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими C ₁-С₄алкильными радикалами, или R ₅ и R₇ совместно образуют С ₂-С₁₂алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С ₁-С₄алкильными радикалами, R ₁₅ обозначает H или радикал формулы II. 4 н. и 7 з.п. ф-лы, 4 табл.

Изобретение относится к гравируемой лазером печатной матрице, используемой для получения рельефного изображения известными методами. Описывается гравируемая лазером печатная матрица, полученная фотоотверждением композиции на основе фоточувствительной смолы (а), содержащей полимеризуемую ненасыщенную группу, имеющую средний молекулярный вес от 1000 до 20×10⁴ , органическое соединение (b), имеющее полимеризуемую ненасыщенную группу и средний молекулярный вес менее 1000, и кремнийорганическое соединение (с), имеющее по крайней мере одну Si-О связь и не содержащее полимеризуемой ненасыщенной группы. Содержание кремнийорганического соединения (с) находится в диапазоне от 0,1 до 10% от веса композиции на основе фоточувствительной смолы. Описывается также получение гравируемой лазером печатной матрицы формованием указанной композиции в полотно или цилиндр с последующим сшиванием и отверждением под действием света. Изобретение обеспечивает простоту удаления липких обломков на стадии поверхностной обработки, а также повышенную устойчивость печатной матрицы к истиранию и к прилипанию на поверхность. 2 н. и 17 з.п. ф-лы, 2 табл.

Изобретение относится к области изготовления пленочного фоторезиста и сеткотрафаретных экранов на его основе, используемых в производстве печатных плат, керамических корпусов интегральных схем, изделий полиграфической промышленности. Описывается пленочный фоторезист для трафаретной печати, содержащий гибкую подложку и полимерный очувствляемый копировальный слой на основе пленкообразующей композиции, включающей полимерное связующее, содержащее поливиниловый спирт и сополимер винилацетата с 2-50 мол.% диалкилмалеината (C ₂-C₈) или с 2-95 мол.% этилена, или поливинилацетат, краситель из класса фталоцианиновых пигментов или трифенилметановых красителей, неионогенный смачиватель из класса полиэтиленгликолевых эфиров моно- и диалкилфенолов или бис(октаглицерин)-2-алкенсукцината, и дополнительно активатор, выбранный из группы, включающей соединения, содержащие тиокарбонильную группу, такие как тиомочевина и ряд ее производных, соль тиосемикарбазида, N,N-диэтилдитиокарбаматы натрия и аммония, тиоацетамид, соединения с меркаптогруппой, например L-цистеин, сульфитные соединения, такие как пиросульфиты калия или натрия, формальдегид-бисульфит натрия, в количестве 0,1-2,0 мас.% в сухом копировальном слое. Пленочный фоторезист получают путем полива на гибкую полимерную основу указанной водной пленкообразующей композиции с последующей сушкой политого слоя теплым воздухом. Способ позволяет увеличить фоточувствительность пленочного фоторезиста, сократить время экспонирования в 1,5-2,0 раза, повысить устойчивость сшитого копировального слоя к действию органических растворителей, а также получить на основе данного фоторезиста сеткотрафаретные экраны с защитным слоем повышенной толщины (более 100 мкм). 2 н.п. ф-лы, 2 табл.

Изобретение относится к эксплантодренажу для хирургического лечения рефрактерной глаукомы. Эксплантодренаж позволяет благодаря своим составу и форме длительно сохранять сформированную во время антиглаукомной операции интрасклеральную полость, добиться высокого уровня биосовместимости, позволяющего многолетнее ареактивное присутствие импланта в глазу в условиях минимальных интра- и послеоперационных осложнений. Для изготовления дренажа синтезирован новый полимерный материал - дигель, представляющий собой прозрачный полимер, полученный в результате фотополимеризации смеси мономеров и олигомеров. Конструкция предложенного эксплантодренажа из дигеля позволяет надежно фиксировать его без дополнительной шовной фиксации. Перфорированная структура дренажа позволяет поступающей ВГЖ циркулировать во всех направлениях и стимулирует все возможные пути оттока внутриглазной жидкости у больных с рефрактерной глаукомой. 1 з.п. ф-лы, 1 ил., 1 табл.

Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям с изменяющейся диэлектрической проницаемостью, обеспечивающим модель диэлектрической проницаемости, используемой в качестве изоляционных материалов или конденсатора для схемных плат. Описывается чувствительная к излучению композиция с изменяющейся диэлектрической проницаемостью, содержащая расщепляющееся соединение (А), нерасщепляющееся соединение (В), представляющее собой соединение, устойчивое к кислоте, вызываемой источником кислоты веществом (С), и обладающее диэлектрической проницаемостью, или соединение, устойчивое к основанию, вызываемому источником основания веществом (С), и обладающее диэлектрической проницаемостью, в количестве 5-90 мас.ч. по отношению к 100 мас.ч. компонента (А) и компонента (В) вместе. Предложенная композиция обеспечивает достаточно большое различие между исходной и измененной диэлектрической проницаемостью, при этом полученные на основе этой композиции модель диэлектрической проницаемости и оптический материал обладают значительной стабильностью независимо от условий применения. 6 н. и 9 з.п. ф-лы, 2 табл.

Изобретение относится к чувствительным к излучению композициям, изменяющим показатель преломления, позволяющим получить новую модель распределения показателя преломления, в частности оптический материал, используемый в области оптоэлектроники и устройствах отображения информации. Описывается чувствительная к излучению композиция с изменяющейся диэлектрической проницаемостью, содержащая разлагаемое соединение (А), неразлагаемый компонент (В), включающий частицы неорганического оксида, устойчивые к кислоте или к основанию, которые вызываются источником кислоты или основания веществом (С), и чувствительное к облучению разлагающее вещество (С), причем показатель преломления п_А разлагаемого соединения и показатель преломления п_В неразлагаемого соединения находятся в одном из нижеследующих отношений (1) и (2): п _В-п_А 0,05 (1), п_А-п_В 0,05 (2), а количество компонента (В) составляет 10-90 мас.ч. в расчете на 100 мас.ч. от общего количества компонентов (А) и (В), и количество компонента (С) составляет 0,01-30 мас.ч. в расчете на 100 мас.ч. от общего количества компонентов (А) и (В). Полученная на основе указанной композиции модель позволяет простым способом изменять показатели преломления с достижением достаточно большой разницы между ними и их стабильности независимо от условий применения. 7 н. 5 з.п. ф-лы, 3 табл.

Изобретение относится к чувствительной к излучению композиции с изменяемым при воздействии излучения показателем преломления, содержащая (А) разлагаемое кислотой соединение, (В) неразлагаемое кислотой соединение, имеющее более высокий показатель преломления, чем у разлагаемого кислотой соединения (А), (С) чувствительный к излучению разлагающий агент, представляющий собой чувствительный к излучению кислотообразователь, и (D) стабилизатор. Количество каждого из компонентов (А), (В) и (С) составляет от 10 до 90 масс. частей, от 10 до 90 масс. частей и от 0,01 до 30 масс. частей соответственно в расчете на 100 масс. частей суммарного количества компонентов (А) и (В). Количество компонента (D) составляет 10 масс. частей или более в расчете на 100 масс. частей количества компонента (А). Также изобретение относится к способам получения структуры с распределением показателей преломления, структуре с распределением показателей преломления и оптическому материалу. Изобретение позволяет получить композицию с изменяемым показателем преломления, который может быть изменен простым способом, и которая может давать устойчивую структуру с распределением показателей преломления и устойчивый оптический материал. 6 н. и 6 з.п. ф-лы, 5 табл., 2 ил.

Изобретение относится к фотополимеризующимся композициям на основе акриловых олигомеров и может быть использовано в лазерной стереолитографии. Описывается фотополимеризующаяся композиция для литографии с использованием света видимого диапазона, включающая акриловые олигомеры и инициирующую систему, причем в качестве акриловых олигомеров она содержит диакрилат гександиола или триакрилат триметилолпропана и этоксилированный диакрилат дифенилолпропана, в качестве инициирующей системы – смесь Бенгальской розы с диметилэтаноламином в 1-винил-2-пирролидоне, и дополнительно – полиметилметакрилат. Предложенная композиция обладает достаточной фоточувствительностью для изготовления трехмерных изделий произвольной формы в условиях лазерной 3D-стереолитографии с использованием экономичных и малогабаритных лазеров с =530 нм. 2 табл.

Изобретение относится к чувствительной к облучению композиции с изменяющимся показателем преломления, используемой в оптико-электронной области и области устройств отображения. Чувствительная к облучению композиция с изменяющимся показателем преломления, содержит разлагаемое кислотой или основанием соединение (А), не разлагаемое кислотой или основанием соединение (В), имеющее более низкий показатель преломления, чем соединение (А), чувствительное к облучению разлагающее вещество (С), генерирующее кислоту или основание, и растворитель. Воздействие облучения на композицию через шаблон или маску приводит к разложению компонентов (С) и (А) в подвергнутой облучению части, в результате чего возникает разница в показателях преломления между подвергнутой облучению частью и частью, не подвергавшейся облучению, образуя таким образом структуру, имеющую различные показатели преломления. Данная композиции может обеспечить стабильную структуру с распределением показателя преломления и стабильный оптический материал вне зависимости от условий применения. 6 н. и 11 з.п. ф-лы, 8 табл., 2 ил.