Получение плазмы, управление плазмой: ..с использованием внешних электромагнитных полей, например высокой или сверхвысокой частоты – H05H 1/46

МПКРаздел HH05H05HH05H 1/00H05H 1/46
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H05 Специальные области электротехники, не отнесенные к другим классам
H05H Плазменная техника; получение или ускорение электрически заряженных частиц или нейтронов; получение или ускорение пучков нейтральных молекул или атомов
H05H 1/00 Получение плазмы; управление плазмой
H05H 1/46 ..с использованием внешних электромагнитных полей, например высокой или сверхвысокой частоты

Патенты в данной категории

СВЧ ПЛАЗМЕННЫЙ КОНВЕРТОР

Изобретение относится к технике переработки углеводородного сырья, в частности природного газа, и может быть использовано при получении углеродных нанотрубок и водорода. СВЧ плазменный конвертор содержит проточный реактор 1 из радиопрозрачного термостойкого материала, заполненный газопроницаемым электропроводящим веществом - катализатором 2, помещенный в сверхвысокочастотный волновод 3, соединенный с источником сверхвысокочастотного электромагнитного излучения 5, снабженный концентратором СВЧ электромагнитного поля, выполненным в виде волноводно-коаксиального перехода (ВКП) 8 с полыми внешним и внутренним 9 проводниками, образующими разрядную камеру 11, и системой вспомогательного разряда. Система вспомогательного разряда выполнена из N разрядников 12, где N больше 1, расположенных в плоскости поперечного сечения разрядной камеры 11 равномерно по ее окружности. Продольные оси разрядников 12 ориентированы тангенциально по отношению к боковой поверхности разрядной камеры 11 в одном направлении. На выходном конце внутреннего полого проводника 9 коаксиала ВКП 8 выполнено сопло 10. Каждый из разрядников 12 снабжен индивидуальным газопроводом 13 для подачи плазмообразующего газа в зону разряда. Изобретение позволяет увеличить реакционный объём, производительность и продолжительность непрерывной работы, а также стабилизировать «горение» СВЧ разряда. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

2522636
патент выдан:
опубликован: 20.07.2014
ОПТИМИЗАЦИЯ ЧАСТОТЫ ВОЗБУЖДЕНИЯ РАДИОЧАСТОТНОЙ СВЕЧИ

Изобретение относится к радиочастотным устройствам генерирования плазмы для двигателей внутреннего сгорания. Радиочастотное устройство генерирования плазмы содержит модуль (20) питания, подающий на выходной интерфейс сигнал (U) возбуждения на заданной частоте (Fc), позволяющий получить искру (40) на выходе резонатора (30) генерирования плазмы, соединенного с выходным интерфейсом модуля питания, и модуль (10) управления, задающий частоту модулю питания во время команды на радиочастотное генерирование плазмы. Модуль управления содержит средства для определения оптимальной частоты возбуждения, выполненные с возможностью адаптации заданной частоты (Fc) к условиям резонанса устройства после возникновения искры. Технический результат - возможность управления питанием радиочастотных свечей в каждом цилиндре и повышение срока службы свечей. 2 н.и 6 з.п. ф-лы, 3 ил.

2516295
патент выдан:
опубликован: 20.05.2014
ТРАНСФОРМАТОРНЫЙ ПЛАЗМАТРОН НИЗКОГО ДАВЛЕНИЯ ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ МАТЕРИАЛОВ

Изобретение относится к плазменной технике, а именно к трансформаторным плазмотронам низкого давления, и может быть использовано в микроэлектронике для обработки полупроводниковых материалов (плазменное травление, оксидирование, очистка поверхности и т.д.), осаждения тонких пленок, в металлообработке для плазмохимического модифицирования поверхности металлов (ионно-плазменное азотирование, плазменное оксидирование и т.д.), для плазменной обработки полимерных материалов (уменьшение пористости, изменение гидрофобных свойств и т.д.). Трансформаторный плазматрон содержит замкнутую газоразрядную камеру с системой магнитопроводов с первичными обмотками, держатель для фиксирования обрабатываемого материала, источник питания, при этом газоразрядная камера включает рабочую камеру и одну или более одинаковых П-образных камер с меньшим внутренним диаметром и меньшей либо равной длиной, каждая из которых имеет систему разборных магнитопроводов с первичными обмотками и установлена так, что вместе с рабочей камерой образует замкнутый путь для тока газового разряда. В данном изобретении достигается существенное увеличение скорости и качества процесса, коэффициента полезного действия устройства. 4 з.п. ф-лы, 1 ил.

2505949
патент выдан:
опубликован: 27.01.2014
СПОСОБ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ, ПО МЕНЬШЕЙ МЕРЕ, ОДНОГО КОНСТРУКТИВНОГО ЭЛЕМЕНТА ПОСРЕДСТВОМ ЭЛЕМЕНТАРНЫХ ИСТОЧНИКОВ ПЛАЗМЫ ПУТЕМ ЭЛЕКТРОННОГО ЦИКЛОТРОННОГО РЕЗОНАНСА

Изобретение относится к области плазменной обработки поверхности. Способ заключается в том, что придают конструктивному элементу или конструктивным элементам (1), по меньшей мере, одно вращательное движение относительно, по меньшей мере, одного ряда неподвижно расположенных в линию элементарных источников (2), причем ряд или ряды расположенных в линию элементарных источников (2) размещают параллельно оси конструктивного элемента или осям вращения конструктивных элементов. Технический результат - повышение однородности обработки на множестве поверхностей конструктивных элементов. 2 н. и 9 з.п. ф-лы, 7 ил.

2504042
патент выдан:
опубликован: 10.01.2014
СПОСОБ ОЧИСТКИ, ДЕСТРУКЦИИ И КОНВЕРСИИ ГАЗА

Изобретение предназначено для очистки газов от твердых, жидких, паро и газообразных неорганических и органических веществ, деструкции, конверсии и относится к газовой, химической отраслям промышленности. В способе очистки, деструкции и конверсии газов осуществляют воздействие высоковольтным импульсно-периодическим кольцевым разрядом на газ, приводящее к образованию низкотемпературной плазмы и УФ-излучения, инициирующих плазмохимические реакции, создание ударной волны, нагревание газа, создание конвекционных потоков и очистку газа от микрочастиц. Обработку газа осуществляют плазменной струей, создаваемой микроволновым излучением, при этом газ последовательно быстро проходит в «горячую» область плазмы, где реализуются плазмохимические реакции, и подается в «холодную» область, обеспечивая закалку продуктов плазмохимических реакций. Изобретение позволяет повысить эффективность воздействия специфических для СВЧ-плазмотрона и высоковольтного импульсно-периодического кольцевого разряда каналов разрушений различного типа загрязнения в газах. 2 з.п. ф-лы, 3 ил.

2486719
патент выдан:
опубликован: 27.06.2013
СИЛЬНОТОЧНЫЙ ИСТОЧНИК МНОГОЗАРЯДНЫХ ИОНОВ НА ОСНОВЕ ПЛАЗМЫ ЭЛЕКТРОННО-ЦИКЛОТРОННОГО РЕЗОНАНСНОГО РАЗРЯДА, УДЕРЖИВАЕМОЙ В ОТКРЫТОЙ МАГНИТНОЙ ЛОВУШКЕ

Изобретение относится к области создания пучков многозарядных ионов (МЗИ) путем их экстракции из плотной плазмы, создаваемой в открытой магнитной ловушке мощным излучением миллиметрового диапазона длин волн, которые необходимы для формирования сильноточных пучков многозарядных ионов, востребованных в ряде приложений (ускорительной технике, медицине, ионной имплантации, фундаментальных исследованиях и пр.). Технический результат - высокий ток пучков МЗИ при сохранении заданного среднего заряда ионов. Для этого зажигают газовый разряд низкого давления в магнитной ловушке простой пробочной конфигурации с величиной магнитного поля, достаточной для образования зон электронно-циклотронного резонанса (ЭЦР) с помощью СВЧ излучения с частотой, много больше обычно используемых частот, например 37.5 ГГц. При этом СВЧ излучение вводят внутрь разрядного вакуумного объема вдоль магнитного поля с помощью квазиоптической линии передач в форме гауссова пучка, а для предотвращения возникновения и развития разряда в паразитной ЭЦР зоне применяют многофункциональный согласующий элемент. 6 з.п. ф-лы, 7 ил.

2480858
патент выдан:
опубликован: 27.04.2013
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВОЗБУЖДЕНИЯ И ПОДДЕРЖАНИЯ СВЧ-РАЗРЯДОВ В ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИХ РЕАКТОРАХ

Устройство относится к СВЧ генераторам низкотемпературной плазмы (СВЧ плазматронам), предназначенным преимущественно для использования в плазмохимических технологических процессах с повышенным требованием к чистоте синтезируемого продукта. Технический результат - повышение стабильности работы плазматрона на поверхностной плазменной волне в плазмохимических процессах, протекающих в широком диапазоне давлений плазмообразующего газа от нескольких Па до атмосферного. Устройство для возбуждения протяженных разрядов в потоках газов содержит источник электромагнитных СВЧ колебаний, сопряженный с металлическим волноводом прямоугольного сечения, с двумя, расположенными напротив отверстиями в центре широких стенок. Внутри волновода размещен концентратор электрического поля в виде полого, токопроводящего усеченного конуса с диаметрами оснований D и d (D>d), имеющего электрический контакт с одной широкой стенкой волновода по границе отверстия большего диаметра и зазор z между торцом основания с меньшим диаметром и противоположной стенкой волновода. Диэлектрическая трубка-реактор с протекающем через нее потоком газа проходит поперек волновода через концентратор и отверстие в противоположной широкой стенке. Величина зазора z лежит в интервале значений от /50 до /5, где - длина волны используемого источника СВЧ колебаний в вакууме. 4 з.п. ф-лы, 2 ил.

2468544
патент выдан:
опубликован: 27.11.2012
ЭНЕРГЕТИЧЕСКАЯ УСТАНОВКА ДЛЯ ВЫРАБОТКИ ТЕПЛА ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИМИ РЕАКЦИЯМИ С ДОЖИГАНИЕМ

Энергетическая установка для выработки тепла плазмохимическими реакциями с дожиганием содержит герметичный замкнутый контур, состоящий из двух параллельных труб: напорной трубы и трубы возврата, соединенных по торцам двойными коленами. В напорном трубопроводе устанавливается турбокомпрессор; за компрессором устанавливается блок сопел Вентури с сеткой для гашения обратного пламени, камера облучения сверхвысокочастотным радио полем газовой смеси, циркулирующей в замкнутом герметичном контуре. Перед газовой турбиной устанавливается катализатор-дожигатель - решетка, набранная из трубчатых электронагревателей, наружная поверхность которых покрыта тонким слоем катализатора. За катализатором-дожигателем устанавливается парогазовая турбина, на выходе которой установлен спрямляющий аппарат. За спрямляющим аппаратом установлены: охладитель газовой смеси за турбиной и второй катализатор-дожигатель. Далее за ними устанавливаются теплообменники: пароперегреватель, выполненный из гладкотрубных пучков труб, экономайзерно-испарительный участок, выполненный из оребренных пучков труб. Все пучки труб имеют коллекторы. Теплообменники соединены по схеме многократной принудительной циркуляции. Размещение трубопроводов и задвижек на них позволяет собирать прямоточную схему. Для запуска и поддержания работоспособности энергетической установки используются соединенные трубопроводами с замкнутым контуром блоки: приготовления, подпитки и продувки насыщенным паром и углекислым газом. При работе энергетическая установка не требует постоянной подачи в замкнутый контур водяного пара и углекислого газа - только периодическую подпитку, а также не требует сброса в окружающую среду продуктов горения. Тепловая энергия, выработанная энергетической установкой, может быть использована как в стационарных, так и в транспортных энергетических системах, как индивидуально, так и для параллельной работы. 2 з.п. ф-лы.

2426944
патент выдан:
опубликован: 20.08.2011
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СТЕРИЛИЗАЦИИ ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ПЛАЗМОЙ

Данное изобретение относится к устройству для получения газоразрядной плазмы путем ионизации газа. Заявленное устройство содержит источник микроволн определенной номинальной мощности, содержащий магнетрон, получающий электрическую энергию из цепи питания. Заявленное изобретение отличается тем, что мощность, подаваемая цепью питания на магнетрон, составляет не более одной четвертой номинальной мощности магнетрона. Техническим результатом изобретения является повышение надежности и эффективности работы устройства для стерилизации газоразрядной плазмой. 7 з.п. ф-лы, 4 ил.

2388195
патент выдан:
опубликован: 27.04.2010
УСТРОЙСТВО ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ

Устройство плазменной обработки относится к устройствам генерации технологической плазмы и может быть использовано для проведения процессов осаждения, травления, окисления, имплантации (неглубоких слоев), сжигания органических масок на различных подложках в области электроники, наноэлектроники, при производстве медицинских инструментов, сенсорных устройств т.п. Устройство плазменной обработки состоит из реакционной вакуумной камеры с вводами источников СВЧ-плазмы, количество которых не регламентировано, расположенными перпендикулярно боковым стенкам, и расположенного в реакционной вакуумной камере подогреваемого или охлаждаемого пьедестала для подложек, имеющего возможность вертикального перемещения и возможность электрического смещения относительно плазмы. Вне камеры над местом размещения подложек на пьедестале расположен индуктор ВЧ-разряда, причем стенка камеры, в месте ее примыкания к индуктору, выполнена из материала, прозрачного для ВЧ электромагнитного поля. Технический результат - введение нового параметра управления скоростями и однородностью технологических процессов за счет изменения управления процессами рекомбинацией активных компонент плазмы в объеме реакционной камеры. 1 ил.

2368032
патент выдан:
опубликован: 20.09.2009
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПОЛИКРИСТАЛЛИЧЕСКОГО КРЕМНИЯ ВЫСОКОЙ ЧИСТОТЫ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ (ВАРИАНТЫ)

Изобретение может быть использовано в химической и электронной промышленности. Смесь кремнийсодержащих соединений с несущим газом подают по коаксиальной трубе из чистого кремния с центральным электродом из чистого кремния. Центральный электрод присоединен к потенциальному выводу высокочастотного резонансного трансформатора мощностью 1-1000 кВт и напряжением 10-1000 кВ. В струе кремнийсодержащих соединений между центральным электродом и стенками коаксиальной трубы, а также между центральным электродом и расположенным с зазором осесимметрично к центральному электроду подложкой-мишенью зажигается плазменный разряд с частотой 1-800 кГц при температуре 700-9000°С. Предложенное изобретение позволяет снизить затраты энергии на получение поликристаллического кремния и количество побочных продуктов, получаемых при производстве поликристаллического кремния, а также повысить экологическую безопасность производства. 13 н. и 100 з.п. ф-лы, 8 ил.

2367599
патент выдан:
опубликован: 20.09.2009
СОПЛО МИКРОВОЛНОВОГО ПЛАЗМАТРОНА С ПОВЫШЕННОЙ СТАБИЛЬНОСТЬЮ ФАКЕЛА И ЭФФЕКТИВНОСТЬЮ НАГРЕВА

Устройство предназначено для использования в плазменных генераторах. Раскрыты системы и способы генерирования микроволновой плазмы. Содержит сопло (26) микроволнового плазматрона, которое включает в себя трубку (40) подачи газа, проводник (34) в форме стержня, который размещен в трубке (40) подачи газа, и наконечник рядом с выпускным отверстием трубки (40) подачи газа. Часть (35) проводника (34) в форме стержня входит в СВЧ-резонатор (24) для приема микроволн, проходящих в резонаторе (24). Эти принимаемые микроволны фокусируются на наконечнике для нагрева газа до плазмы. Сопло (26) микроволнового плазматрона также включает в себя вихревую направляющую (36) между проводником (34) в форме стержня и трубкой (40) подачи газа, сообщающей спиралевидное направление потока газу, протекающему через трубку (40). Сопло (26) микроволнового плазматрона дополнительно включает в себя механизм экранирования для уменьшения потерь микроволновой мощности через трубку (40) подачи газа. Позволяет генерировать плазму атмосферного давления для эффективной и недорогой стерилизации. 10 н. и 77 з.п. ф-лы, 39 ил.

2355137
патент выдан:
опубликован: 10.05.2009
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИНИЦИАЦИИ СВЧ-РАЗРЯДА И ГЕНЕРАЦИИ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОЙ СТРУИ ПЛАЗМЫ

Изобретение относится к авиационному и энергетическому двигателестроению и предназначено для систем зажигания двигателей и энергетических установок. Кроме того, может применяться в широком спектре плазменных технологий. Способ заключается в том, что в поле электромагнитной (ЭМ) волны с помощью установленного в ней параллельно электропроводящей или радиопрозрачной диэлектрической поверхности металлического ЭМ вибратора формируют зону, в которой собственное ЭМ поле металлического ЭМ вибратора создает высокий уровень напряженности, инициируя глубоко подкритический СВЧ-разряд. Подают в зону разряда воздух и газообразное или парообразное горючее, образующие горючую смесь, которая возбуждается и воспламеняется СВЧ-разрядом и образует высокотемпературную струю плазмы, воздействующую на окружающее пространство. Подачу горючего или смеси горючего с воздухом из коллектора осуществляют через отверстия, выполненные или навстречу потоку, или под углом к боковой поверхности вибратора и с закруткой, или спутно по потоку в его хвостовую часть. Имеется устройство для осуществления способа. Изобретение обеспечивает широкий диапазон работоспособности по давлению и температуре среды, коэффициенту избытка топлива, качеству смешения и генерируемой энергии высокотемпературной смеси продуктов сгорания. 2 н. и 5 з.п. ф-лы, 6 ил.

2346418
патент выдан:
опубликован: 10.02.2009
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИНИЦИАЦИИ СВЧ-РАЗРЯДА И ГЕНЕРАЦИИ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОЙ СТРУИ ПЛАЗМЫ (ВАРИАНТЫ)

Изобретение относится к авиационному и энергетическому двигателестроению и химическому машиностроению. Способ для инициации СВЧ-разряда и генерации высокотемпературной струи плазмы заключается в том, что в газовой среде в электромагнитном поле СВЧ-излучения между цилиндрическими коаксиальными металлическими электродами, образующими волновод и установленными на магнетроне, создают объемный СВЧ-разряд, генерирующий плазму. В выходной части цилиндрических коаксиальных металлических электродов путем установки в ней кольцевой вставки из радиопрозрачного термостойкого диэлектрического материала формируют зону с напряженностью образованного электромагнитного поля меньшей, чем для организации объемного СВЧ-разряда, но достаточной для инициации поверхностного СВЧ-разряда, который развивается в устойчивый объемный СВЧ-разряд, а при дополнительной подаче в зону СВЧ-разряда воздуха и газообразного или парообразного горючего образуется горючая смесь, которая возбуждается и воспламеняется СВЧ-разрядом и увеличивает тепловую мощность образованной высокотемпературной струи плазмы, воздействующей на окружающее пространство, при этом дополнительную подачу в зону СВЧ-разряда воздуха и газообразного или парообразного горючего, образующих горючую смесь, осуществляют вблизи зоны разряда или под углом к потоку, обтекающему выходную часть образованного волновода, или с образованием закрученного течения горючей смеси. Техническим результатом является эффективная инициация СВЧ-разряда и генерация высокотемпературной струи плазмы, генерирующая возбужденный высокотемпературный газ на выходе из устройства. 3 н. и 1 з.п. ф-лы, 4 ил.

2342811
патент выдан:
опубликован: 27.12.2008
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ПЛАЗМЫ (ВАРИАНТЫ)

Изобретение относится к способам для зажигания, формирования и удержания плазмы из газов, используя катализатор. Технический результат заключается в возможности снижения стоимости энергии и увеличения эффективности теплообработки и гибкости в сопровождаемом плазмой производстве. В одном примере осуществления изобретения плазма зажигается путем подвергания газа в многомодовой обрабатывающей полости воздействию электромагнитного излучения с частотой между 1 МГц и 333 ГГц в присутствии плазменного катализатора, который может быть пассивным или активным. Пассивный плазменный катализатор может включать, например, любой объект, способный индуцировать плазму путем деформации местного электрического поля. Активный плазменный катализатор может включать любую частицу или высокоэнергетический волновой пакет, способные передавать достаточное количество энергии на газообразный атом или молекулу для удаления, по крайней мере, одного электрона из газообразного атома или молекулы в присутствии электромагнитного излучения. 4 н. и 44 з.п. ф-лы, 9 ил.

2326512
патент выдан:
опубликован: 10.06.2008
СПОСОБ КОНВЕРСИИ МЕТАНА ПЛАЗМЕННО-КАТАЛИТИЧЕСКИМ ОКИСЛЕНИЕМ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Изобретение относится к способу конверсии метана плазменно-каталитическим окислением и устройству для его осуществления. Способ конверсии метана ведут СВЧ излучением плазменно-каталитическим окислением с получением этилена. Способ включает активацию катализатора СВЧ излучением и формирование неравновесной «холодной» СВЧ плазмы. Одновременно осуществляют активизацию катализатора СВЧ излучением и СВЧ плазмой и создают неравновесную «холодную» СВЧ плазму одновременно в резонаторе типа Е010 или на волне E 01 с симметрией вращения от импульсного СВЧ генератора и на суммарной волне Н11 0 с вращением плоскости поляризации от непрерывного СВЧ генератора. В устройстве, реализующим указанный процесс, круглый волновод плавно переходит в волновод с частичным диэлектрическим заполнением и содержит согласователь для уменьшения отраженной СВЧ энергии, герметизатор для обеспечения вакуума в СВЧ плазменно-каталитическом реакторе и возбуждения СВЧ плазмы на торце кварцевого стержня, с помещенными на нем кварцевыми пластинами с катализатором. Дозаторы равномерной подачи реагентов (СН4 2+Ar), установлены с возможностью вращения и перемещения относительно СВЧ плазмы. Система вывода продуктов реакции расположена симметрично оси плазмотрона. Изобретение способствует повышению эффективности процесса конверсии метана в этилен. 2 н. и 7 з.п. ф-лы, 4 ил., 1 табл.

2315802
патент выдан:
опубликован: 27.01.2008
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ ПЛАЗМЫ

Изобретение относится к области генерации СВЧ-плазмы и предназначено для применения в широком спектре плазменных технологий, использующих плазму газового СВЧ-разряда. Устройство для генерации плазмы содержит размещенный в газовой среде инициатор и СВЧ-излучатель. СВЧ-излучатель воздействует на инициатор. В качестве инициатора использован проводящий электрический вибратор. Проводящий электрический вибратор освещен ультрафиолетовым излучением. Вибратор установлен параллельно проводящей поверхности в области интерференционной пучности волны. Изобретение позволяет не проводить предварительных экспериментальных исследований для подбора конструкции инициатора и обеспечить стабилизацию момента пробоя и длительности СВЧ-разряда. 2 з.п. ф-лы, 3 ил.

2266629
патент выдан:
опубликован: 20.12.2005
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ЭЛЕКТРОННЫХ ПРИБОРОВ

Изобретение относится к области производства твердотельных, вакуумных и газоразрядных приборов, а также для накачки газоразрядных лазеров. Устройство для плазмохимической обработки электронных приборов содержит в своей структуре источник ВЧ энергии, который представляет собой усилитель с распределенным усилением (1) и содержит управляемые источники тока (2), а также неоднородный нагрузочный волновой тракт (анодную линию) (6), представляющий собой ряд последовательно соединенных фильтров нижних частот (5) и дискретно размещенных технологических объемов (10), каждый из которых включает в себя диэлектрическую оболочку и токопроводящие электроды (9), которые, в свою очередь, представляют собой обкладки конденсатора, один из зажимов которого соединен с выходом соответствующего фильтра нижних частот (5) анодной линии, а второй с общим проводом. Выходные зажимы анодной линии соединены с входными зажимами четырехполюсника обратной связи (7), состоящего из ряда последовательно соединенных фильтров нижних частот (8), а его выход соединен с входными зажимами сеточной линии (3), выходные зажимы которой соединены с входными зажимами четырехполюсника обратной связи (11), состоящего из ряда последовательно соединенных фильтров нижних частот (12), а его выход соединен с входными зажимами анодной линии. Устройство имеет высокий КПД и низкую стоимость. 3 ил.

2262150
патент выдан:
опубликован: 10.10.2005
СВЕРХВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ПЛАЗМОТРОН

Изобретение относится к области машиностроения, в частности к сверхвысокочастотным плазмотронам для получения низкотемпературной плазмы для обработки материалов при давлении ниже атмосферного. На внутренней проводящей поверхности разрядной камеры выполнены один или несколько кольцевых радиальных пазов, пазы могут быть выполнены в виде короткозамкнутых отрезков коаксиальной линии с проводящими стенками глубиной, равной четверти длины волны электромагнитных колебаний генератора. Изобретение позволяет повысить эффективность взаимодействия электромагнитной энергии с плазмообразующим газом. 1 з.п. ф-лы, 4 ил.

2251824
патент выдан:
опубликован: 10.05.2005
СПОСОБ ВЫРАБОТКИ ТЕПЛОВОЙ ЭНЕРГИИ

Предложен способ выработки тепловой энергии, по которому размещают анод и катод друг против друга в вакуумной камере. При этом поддерживают внутренность вакуумной камеры в одной из атмосфер газообразного водорода, дейтерия, гелия и аргона. Затем формируют тлеющий разряд между анодом и катодом, одновременно допуская прохождение импульсного тока, имеющего форму прямоугольной волны, между анодом и катодом. Это увеличивает вероятность реакции между ядрами атомов вышеупомянутых газов, абсорбированных в катоде. Данным способом можно выработать тепловую энергию, большую, чем энергия на входе, и увеличить кпд. 4 з.п. ф-лы, 6 ил., 3 табл.

2240612
патент выдан:
опубликован: 20.11.2004
УСТРОЙСТВО ДЛЯ МИКРОВОЛНОВОЙ ВАКУУМНО-ПЛАЗМЕННОЙ С ЭЛЕКТРОННО-ЦИКЛОТРОННЫМ РЕЗОНАНСОМ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ

Использование: вакуумно-плазменная обработка потоками частиц поверхности материалов микроэлектроники, металлов и сплавов. Техническим результатом изобретения является создание устройства для ионной обработки поверхности материалов с высокой степенью однородности и значительным диапазоном плотностей потока частиц. Сущность изобретения: открытый низкодобротный резонатор в форме усеченного конуса, согласующий импедансы плазмы нагрузки и генератора СВЧ-мощности, формирует переменное электромагнитное поле с рабочей модой E01 направленного в область электронно-циклотронного резонанса и вместе с магнитной системой формирует однородный направленный поток ионов плазмы на обрабатываемую поверхность. 3 ил.
2223570
патент выдан:
опубликован: 10.02.2004
ПЛАЗМЕННЫЙ РЕАКТОР И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ГЕНЕРАЦИИ ПЛАЗМЫ (ВАРИАНТЫ)

Группа изобретений относится к плазменной технике и технологии обработки материалов. Плазменный реактор содержит разрядную камеру с газораспределителем, камеру обработки вещества, магнитную систему, создающую в полости камеры стационарное неоднородное магнитное поле, и узел ввода высокочастотной энергии, состоящий из двух секций. В первом варианте исполнения первая секция выполнена в виде последовательно соединенных участков электрического проводника, которые расположены с внешней стороны диэлектрической стенки разрядной камеры. Ток в размещенных напротив друг друга участках электрического проводника имеет противоположное направление. Вторая секция выполнена в виде спирально изогнутого электрического проводника и размещена с внешней стороны разрядной камеры на одной или нескольких ее диэлектрических стенках. Первая секция установлена над центральной частью разрядной камеры, а вторая секция вокруг первой секции. Во втором варианте исполнения первая секция узла ввода высокочастотной энергии выполнена в виде изогнутого в форме спирали электрического проводника, витки которого расположены с внешней стороны диэлектрической стенки разрядной камеры. Первая и вторая секции образованы в форме противоположно направленных спиралей, причем первая секция установлена над центральной частью разрядной камеры, а вторая секция вокруг первой секции. Использование изобретений позволяет генерировать пространственно однородные по концентрации области плотной плазмы, используемой для равномерной обработки материалов. 4 с. и 28 з.п.ф-лы, 6 ил.
2196395
патент выдан:
опубликован: 10.01.2003
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ЭЛЕКТРОННЫХ ПРИБОРОВ

Изобретение относится к вакуумной технологии и может быть использовано в производстве твердотельных, вакуумных и газоразрядных приборов, а также для накачки газоразрядных лазеров. Техническим результатом является возможность конвейеризации технологических процессов, уменьшение стоимости установки, уменьшение потребления электроэнергии, повышение КПД устройства, а также улучшение качества обработки приборов за счет обеспечения однородности плазмы в технологическом объеме. Устройство для плазмохимической обработки электронных приборов, содержащее технологический объем и источник ВЧ энергии в виде усилителя с распределенным усилением (УРУ)1, состоящего из управляемых источников тока (ИТ), управляющие входы которых соединены со входами соответствующих звеньев фильтров нижних частот (ФНЧ) - сеточной линии (СЛ)1, а выходные зажимы управляемых источников тока (ИТ)1 соединены с соответствующими входами фильтров нижних частот (ФНЧ) - последовательное включение которых образует анодную линию (АЛ). При этом индуктивные элементы - звеньев фильтров нижних частот (ФНЧ)6 анодной линии (АЛ) намотаны на внешние стенки диэлектрической оболочки технологического объема и представляют собой спираль с постоянным шагом. 4 ил.
2175171
патент выдан:
опубликован: 20.10.2001
ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ГАЗОРАЗРЯДНЫЙ ИСТОЧНИК ИОНОВ ВЫСОКОЙ ПЛОТНОСТИ С НИЗКОИМПЕДАНСНОЙ АНТЕННОЙ

Использование: в устройствах для генерации плазмы высокой плотности с помощью полей ВЧ диапазона, в частности в плазменных устройствах для травления и нанесения покрытий на подложках размером 150мм и более. Сущность изобретения: источник ионов высокой плотности содержит рабочую камеру, выполненную преимущественно из металла, средства для управления давлением газа в рабочей камере, генератор переменного напряжения высокой частоты, соединенный с возбуждающей ВЧ поле внутри рабочей камеры антенной, которая помещена внутрь рабочей камеры. Антенна выполнена в виде проводящей спирали, причем пространство между витками спирали заполнено диэлектриком, а сама спираль отделена от рабочей камеры слоем диэлектрика. Использование малой толщины диэлектрика дает возможность эффективной трансформации тока, текущего по антенне, в плазменный ток. Выполнение антенны в виде многозаходной спирали позволяет снизить как реактивный, так и активный импеданс, облегчая ее согласование с генератором. Спираль выполнена из проводящей шины, высота которой превышает толщину спирали и толщину диэлектрика, отделяющего антенну от рабочей камеры не менее чем в три раза, а расстояние между соседними витками спирали выбрано в определенных пределах. Техническим результатом изобретения является повышение эффективности генерации тока в плазме и упрощение согласования антенны с высокочастотным генератором за счет уменьшения индуктивного импеданса антенны, обуславливающего ограничение ВЧ тока, возбуждаемого в плазме в рабочем режиме. 10 з.п. ф-лы, 11 ил.
2171555
патент выдан:
опубликован: 27.07.2001
СПОСОБ ГЕНЕРАЦИИ ПЛАЗМЫ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Изобретение относится к плазменной технике, а точнее к средствам для генерирования плазмы с использованием внешних электромагнитных полей сверхвысокой частоты и предназначено для использования в маломощных и легко транспортируемых, создающих СВЧ-плазму установках, которые могут быть использованы в самых разных отраслях, например плазменная обработка поверхности материалов, экологическая очистка от вредных примесей выбросов промышленных и бытового характера, в медицинских и биологических приложениях и т.д. Сущность изобретения заключаются в том, что возбуждают колебания на частоте, соответствующей резонансной частоте системы, образованной источником СВЧ-излучения (магнетроном) 1 и резонатором 3, определяют области пучности установившейся стоячей волны и направление колебаний электрического вектора в резонаторе, который соединяют с разрядной камерой 6, устанавливают между ними сильную связь, в разрядной камере исследуют распределение электромагнитного поля, фиксируя области пучности, размещают инициатор 4 в области пучности резонатора и разрядной камеры, при этом ориентируют его относительно направления колебаний электрического вектора в резонаторе, после чего возбуждают колебания на частоте, соответствующей резонансной частоте системы источник СВЧ-излучения - резонатор - инициатор - разрядная камера, увеличивая напряженность электромагнитного поля до величины, превышающей пробойную напряженность для газа, заполняющего разрядную камеру, инициируя тем самым разряд, и воздействием СВЧ-излучения генерируют плазму. Технический результат - обеспечение стабильности и устойчивости генерации разряда для формирования непрерывного потока плазмы в любой газовой среде. 2 с. и 12 з.п. ф-лы, 5 ил.
2171554
патент выдан:
опубликован: 27.07.2001
ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ИНДУКЦИОННЫЙ ПЛАЗМОТРОН

Изобретение относится к плазменной технике, а именно, к конструкции плазмотронов, применяемых в химической и металлургической промышленности в качестве источника плазмы. Зазоры между водоохлаждаемыми трубками высокочастотного плазмотрона перекрыты вставками из диэлектрического термостойкого материала. Индуктор охватывает металлическую камеру, образованную трубками, и диэлектрическую оболочку, отделяющую металлическую камеру от индуктора. Диэлектрическая оболочка образована, по крайней мере, тремя слоями, первый из которых, обращенный к металлической камере, выполнен из эпоксидного компаунда с термостойким диэлектрическим гидрофильным наполнителем. Второй слой выполнен из кремнийорганического компаунда, а третий слой - из термостойкого диэлектрического гидрофильного тканевого материала. Толщина каждого слоя диэлектрической оболочки выбирается равной 1,0-1,5 мм. Применение многослойной оболочки из гидрофильных материалов позволило исключить электрические пробои, увеличить стабильность ресурс работы плазмотрона до нескольких сотен часов, исключить применение дорогостоящих материалов. 1 з.п.ф-лы., 1 ил.
2142679
патент выдан:
опубликован: 10.12.1999
ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ИНДУКЦИОННЫЙ ПЛАЗМОТРОН

Изобретение относится к устройствам для получения и управления плазмой при нагреве газовых струй в плазмохимических, металлургических и других процессах. В ВЧИ-плазмотроне, содержащем индуктор, разрядную камеру, узел коаксиального ввода плазмообразующего газа, выполненный в виде центрального цилиндрического сопла, коаксиального сопла и промежуточного коаксиального сопла, размещенного между центральным цилиндрическим соплом и коаксиальным соплом, соотношения выходных сечений сопел обеспечивают соотношение скоростей потоков плазмообразующего газа в разрядной камере с возрастанием от центрального потока к внешнему. Коаксиальное сопло закреплено относительно промежуточного сопла с возможностью перемещения вдоль общей продольной оси. Техническим результатом, достигаемым при использовании изобретения, является увеличение срока службы и ресурса непрерывной работы плазматрона, повышение его тепловой эффективности и расширение технологических возможностей за счет облегчения процесса зажигания разряда и повышения его стабильности, а также посредством подавления процесса заброса частиц перерабатываемых материалов в разрядную камеру. 1 з.п. ф-лы, 1 ил.
2136125
патент выдан:
опубликован: 27.08.1999
СПОСОБ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВОЗБУЖДЕНИЯ ВЫСОКОЧАСТОТНОГО ЭЛЕКТРИЧЕСКОГО РАЗРЯДА В ГАЗОВОМ ЛАЗЕРЕ

Изобретение относится к области квантовой электроники и может быть использовано в газовых лазерах, таких как СО2, азотные и эксимерные лазеры. Возбуждение высокочастотного разряда в газовом лазере заключается в том, что в дополнение к основному потоку лазерной газовой смеси в зону выхода газа из межэлектронного промежутка подают дополнительный поток электрически нейтральной охлажденной газовой смеси. При этом дополнительный поток газа вводят в часть основного потока, прошедшую приэлектродную зону разряда, в которой происходит основной энерговклад от разряда. Высокочастотный электрический разряд возбуждается в газовом лазере, содержащем газопрокачный контур с установленными в нем двумя электродами, образующими межэлекродный промежуток, средство прокачки газа и хоты бы один дополнительный газовой канал, выход которого направлен в часть основного потока, прошедшую приэлектродную зону разряда. Использование изобретения позволит увеличить частоту следования импульсов, исключить паразитные пробои в заэлектродной области и повысить КПД лазера. 2 с. и 4 з.п.ф-лы, 4 ил.
2132104
патент выдан:
опубликован: 20.06.1999
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВОЗБУЖДЕНИЯ РАЗРЯДА В ВЧИ-ПЛАЗМОТРОНЕ

Использование: плазменная техника для возбуждения разряда в ВЧИ-плазмотронах, применяемых для нагрева газов. Сущность изобретения: устройство для возбуждения разряда в ВЧИ-плазмотроне содержит электроды из тугоплавкого металла и индуктивный виток, укрепленный в изоляторе. Концы витка соединены с электродами, расположенными вдоль продольной оси симметрии витка. Индуктивный виток выполнен из материала, обеспечивающего упругую деформацию. Устройство может содержать кольцевой сердечник из магнито-мягкого материала, размещенный внутри индуктивного витка. Такое выполнение устройства повышает надежность возбуждения разряда в ВЧИ-плазмотроне, снижает расход электроэнергии и плазмообразующего газа за счет сокращения времени, необходимого для возбуждения разряда и исключения постороннего источника электроэнергии, а также упрощает организацию процесса возбуждения разряда. 1 з.п. ф-лы. 2 ил.
2113073
патент выдан:
опубликован: 10.06.1998
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ВЫСОКОТЕМПЕРАТУРНОЙ ПЛАЗМЫ

Использование: физика плазмы и технологии использующие плазму в качестве рабочей среды, может быть примерно при создании термоядерных установок, новых мощных лазеров, плазменных двигателей и пр. Сущность изобретения: для увеличения температуры плазмы и времени ее жизни используют индуктивный накопитель, с помощью которого предварительно осуществляют накопление магнитной энергии в рабочей среде. Ионизацию осуществляют в момент достижения максимума тока в накопителе, после чего обрывают ток, протекающий через индуктор. 2 ил.
2082289
патент выдан:
опубликован: 20.06.1997
Наверх