Получение плазмы, управление плазмой: ...устройства для охлаждения – H05H 1/28

МПКРаздел HH05H05HH05H 1/00H05H 1/28
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H05 Специальные области электротехники, не отнесенные к другим классам
H05H Плазменная техника; получение или ускорение электрически заряженных частиц или нейтронов; получение или ускорение пучков нейтральных молекул или атомов
H05H 1/00 Получение плазмы; управление плазмой
H05H 1/28 ...устройства для охлаждения

Патенты в данной категории

СОПЛО ПЛАЗМЕННОЙ ГОРЕЛКИ С ЖИДКОСТНЫМ ОХЛАЖДЕНИЕМ, КРЫШКА СОПЛА ПЛАЗМЕННОЙ ГОРЕЛКИ С ЖИДКОСТНЫМ ОХЛАЖДЕНИЕМ И ГОЛОВКА ПЛАЗМЕННОЙ ГОРЕЛКИ С ТАКОЙ КРЫШКОЙ ИЛИ КРЫШКАМИ

Заявленное изобретение относится к соплу для плазменной горелки с жидкостным охлаждением. Заявленное сопло содержит отверстие для выхода плазменной струи на носке сопла, первый участок, наружная поверхность которого выполнена по существу цилиндрической, и примыкающий к первому участку со стороны носка сопла второй участок, наружная поверхность которого сужается в направлении к носку сопла по существу на конус, при этом предусмотрена, по меньшей мере, одна канавка для подачи жидкости, проходящая частично по первому участку и по второму участку на наружной поверхности сопла в направлении к носку сопла, а также предусмотрена одна отдельная от канавки или канавок для подачи жидкости канавка для отвода жидкости, проходящая по второму участку, или предусмотрены одна канавка для подачи жидкости, проходящая частично по первому участку и по второму участку на наружной поверхности сопла в направлении к носку сопла, и, по меньшей мере, одна отдельная от канавки для подачи жидкости канавка для отвода охлаждающей жидкости, проходящая по второму участку. Техническим результатом является эффективное охлаждение сопла в зоне его носка и предупреждение термической перегрузки. 3 н. и 13 з.п. ф-лы, 16 ил.

2519245
патент выдан:
опубликован: 10.06.2014
СПОСОБ РЕКУПЕРАТИВНОГО ОХЛАЖДЕНИЯ ЭЛЕКТРОДА ПЛАЗМОТРОНА, ПЛАЗМОТРОН ДЛЯ ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ СПОСОБА И ЭЛЕКТРОДНЫЙ УЗЕЛ ЭТОГО ПЛАЗМОТРОНА

Изобретение относится к генераторам низкотемпературной плазмы и может быть использовано в конструкции плазмотронов, применяемых во всех областях техники. Способ заключается в повышении интенсивности охлаждения электрода путем создания у его электрически активной поверхности микрозавихрений газа и отвода микровихрями тепла в аксиальный поток плазмы при вращении электрода с электрододержателем и вихревого потока плазмообразующего газа вокруг общей оси во встречных друг другу направлениях. Плазмотрон содержит воздушную турбину, вал турбинного колеса с закрепленным на торце неплавящимся электродом, установленный электроизолированно в цапфе на газостатических подшипниках с возможностью вращения в газоразрядной камере с завихрителем плазмообразующего газа, входной патрубок рабочей камеры турбины для ввода воздушного потока в направлении на лопатки турбинного колеса, установленный тангенциально с возможностью вращения вала в направлении, противоположном направлению закручивания потока плазмообразующего газа в разрядной камере. В электродном узле плазмотрона электрододержатель соединен с центробежной тепловой трубой в зоне испарения, охлаждающие ребра которой в зоне конденсации выполнены в виде лопаток турбинного колеса, обдуваемых газовоздушным потоком. В адиабатической зоне тепловая труба имеет термоизолирующее и электроизолирующее покрытие. Технический результат - интенсификация процесса охлаждения теплонагруженных элементов плазмотрона и увеличение тепломассопереноса в направлении с электрода на обрабатываемое плазмой изделие. 3 н. и 4 з.п. ф-лы, 7 ил.

2469517
патент выдан:
опубликован: 10.12.2012
ПЛАЗМАТРОН ВОДНО-ПЛЕНОЧНОГО ВНУТРЕННЕГО ОХЛАЖДЕНИЯ

Изобретение относится к устройствам для создания струи плазмы температурой свыше 30000 К и может быть использовано преимущественно для быстрой резки металла. Плазматрон водно-пленочного внутреннего охлаждения содержит неподвижный стержневой электрод 1, электродную камеру 2 с тангенциальными отверстиями 3 и холодильную камеру 4 с отверстием 5 для подвода воды и отверстием 6 для отвода воды. Плазматрон водно-пленочного внутреннего охлаждения снабжен сопловым газовым каналом 7, внутренняя 8 и внешняя 9 стенки которого образуют канал 10 вододисперсного охлаждения с кольцевым коллектором 11 и кольцевой направляющей 12. Изобретение позволяет повысить эффективность охлаждения плазматрона, увеличить срок его службы и снизить гидравлические потери. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.

2384984
патент выдан:
опубликован: 20.03.2010
ПАРОВОДЯНОЙ ПЛАЗМОТРОН

Изобретение относится к машиностроению, в частности плазменной технике, и может быть использовано в различных технологических операциях: плазменной резке, сварке, наплавке, металлургии и плазмохимии. Пароводяной плазмотрон включает корпус с рубашкой охлаждения, выполненной в его нижней части, установленный в корпусе электрододержатель с закрепленным в нем электродом, сопло, закрепленное на корпусе с зазором относительно электрода, образующим камеру формирования дуги, систему охлаждения в виде каналов и патрубков в корпусе, патрубка для подачи воды с регулирующим устройством, а также парогенератор с нагревательным элементом, закрепленный на нерабочем торце плазмотрона и связанный с камерой формирования дуги и с системой охлаждения. Корпус снабжен защитным чехлом, установленным в зоне сопла, система охлаждения снабжена конденсатором пара, установленным на рабочем конце плазмотрона и капиллярно-пористыми структурами с водоподводящими и пароотводными каналами, установленными на внешней поверхности сопла в зазоре между конденсатором пара и рубашкой охлаждения и в зазоре между конденсатором пара, примыкающим к соплу, и защитным чехлом, соединенным с корпусом, в рубашке охлаждения, на внутренней поверхности парогенератора и в вертикальном зазоре между внутренней поверхностью электрода и трубой для подачи воды. Технический результат - увеличение плотности тока плазменной дуги за счет увеличения степени ее обжатия, при увеличении стойкости сопла и электрода путем увеличения интенсивности теплосъема с теплонагруженных частей конструкции плазмотрона. 3 з.п. ф-лы, 2 ил.

2268558
патент выдан:
опубликован: 20.01.2006
ЭЛЕКТРОДНЫЙ УЗЕЛ

Изобретение относится к плазменной технике, а именно к газоразрядным устройствам с жидкими неметаллическими электродами, и может быть использовано в качестве анода или катода. Электродный узел содержит проточную электролитическую ванну и токопроводящую пластину. Внутри электролитической ванны монтируется вертикальная перегородка, которая состыкуется с токопроводящей пластиной так, что объем электролитической ванны делится на две изолированные проточные области, с общим входом и раздельными выходами, снабженными вентилями, при этом электролитическая ванна заполняется электролитом так, что толщина слоя электролита в проточной области над токопроводящей пластиной составляет от 10 до 15 мм. Разделение потока электролита на две части позволяет уменьшить тепловые потери в электродном узле. 1 ил.

2258329
патент выдан:
опубликован: 10.08.2005
ДУГОВОЙ ПЛАЗМОТРОН АВДЕЕВЫХ

Изобретение относится к устройствам для создания струи плазмы температурой 20000...30000 К и может быть использовано преимущественно для быстрой резки любого металла в условиях завода, в полевых условиях, в условиях побережья или морских шельфов, под водой. Результат - повышение срока службы электрода, уменьшение веса, упрощение конструкции и уменьшение стоимости дугового плазмотрона. Дуговой плазмотрон содержит корпус, не перемещающийся во время работы плазмотрона стержневой электрод, вывод для его подключения к источнику электропитания, электродную камеру, в которую помещен рабочий конец стержневого электрода, содержащую отверстия, соединенные со штуцером для подключения плазмотрона к источнику инертного или восстановительного газа. Электродная камера открыта в газовый канал, открытый, в свою очередь, в водяной канал, в который открыта также кольцевая полость с отверстиями, соединенными со штуцером для подключения плазмотрона к устройству для подачи воды. Поток газа в газовом канале и поток воды из кольцевой полости обжимают и стабилизируют струю плазмы в газовом канале и в водяном канале, обеспечивая температуру плазменной струи 20000...30000К, высокую скорость реза. Поток газа в газовом канале и поток воды в водяном канале направлены от электродной камеры, вследствие чего пары воды, молекулярный и атомарный кислород не попадают на стержневой электрод. Поэтому стрежневой электрод, выполненный из вольфрама, при работе дугового плазмотрона не сгорает. Вследствие этого отпадает необходимость в устройстве для автоматической подачи стержневого электрода по мере сгорания в зону дуги. 1 ил.
2212773
патент выдан:
опубликован: 20.09.2003
ЭЛЕКТРОДНЫЙ УЗЕЛ

Изобретение относится к плазменной технике, а именно к электроразрядным устройствам с жидкими электродами, и может быть применено в тех отраслях промышленности, где используются электрофизические способы обработки материалов, в частности оно может применяться для локального плазменно-электролитного нагрева металлов. Технический результат заключается в расширении технологических возможностей электроразрядного устройства путем увеличения его степени свободы, а также в повышении мощности разряда и геометрических размеров разрядной области. Для этого в электродном узле, содержащем токоподвод в виде напорной трубки 1 и жидкий электрод 2, напорная трубка 1 снабжена насадкой, включающей в себя пористый стакан 3, изготовленный из огнеупорного диэлектрического материала, и токопроводящую втулку 4, внутри которой выполнены каналы, при этом пористый стакан 3 установлен на втулке 4 снаружи с зазором между дном стакана 3 и торцевой поверхностью втулки 4, а напорная трубка 1 и каналы 6 внутри втулки 4 образуют единую полость для протекания жидкого электрода. 2 з.п.ф-лы, 1 ил.
2149523
патент выдан:
опубликован: 20.05.2000
СПОСОБ ПОВЫШЕНИЯ ДОЛГОВЕЧНОСТИ ЭЛЕКТРОДНЫХ И СОПЛОВЫХ УСТРОЙСТВ И ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ ПЛАЗМАТРОН ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Изобретение относится к процессам обработки материалов плазменной струей и может быть использовано в машиностроении, судостроении, строительстве и др. Технологический плазматрон содержит корпус с закрепленными в нем электродным устройством, состоящим из обоймы с катодной вставкой и соплом, подвод рабочей среды и охлаждающей жидкости или газа, при этом обойма и сопло по всей охлаждающей поверхности снабжены тонким пористым слоем теплопроводного материала с высокой шероховатостью поверхности. Способ повышения долговечности электродных и сопловых устройств технологических плазматронов включает их интенсивное охлаждение потоком жидкости или газа. Интенсификация теплоотдачи от устройств потоку достигается увеличением теплоотдающей площади охлаждаемых поверхностей путем создания на них тонкого пористого слоя теплопроводного материала с высокой шероховатостью поверхности. 2 с. и 1 з. п.ф-лы, 5 ил.
2135629
патент выдан:
опубликован: 27.08.1999
ЭЛЕКТРОДУГОВАЯ ПЛАЗМЕННАЯ ГОРЕЛКА

Использование: в электродуговых генераторах низкотемпературной плазмы для плазменной обработки материалов, в частности резки, сварки, термической обработки. Сущность изобретения: электродуговая плазменная горелка имеет корпус 1 с аксиально установленными соплом-анодом 2 и катодом 4 и резервуар для рабочей жидкости, заполненный влаговпитывающим материалом 7. Катод закреплен в держателе, охватываемом кольцом из теплопроводного материала 9, имеющим тангенциальные каналы 10. Между кольцом и анодом размещена шайба, на торце которой выполнены тангенциальные каналы, а на внешней цилиндрической поверхности винтообразные каналы. 4 ил.
2071190
патент выдан:
опубликован: 27.12.1996
ПЛАЗМАТРОН С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ПАРА В КАЧЕСТВЕ ПЛАЗМЕННОГО ГАЗА И СПОСОБ ОБЕСПЕЧЕНИЯ ЕГО СТАБИЛЬНОЙ РАБОТЫ

Использование: в плазменной технике, в частности в плазматронах, использующих водяной пар в качестве плазменного газа. Сущность изобретения: для уменьшения эрозии электродов ограничивают охлаждение электродов. Температуру хладагента и/или состав плазменного газа, включающего водяной пар, выбирают таким образом, чтобы температура конденсации плазменного газа была ниже температуры поверхности охлаждаемых термически высоконагруженных элементов плазматрона. Температура охлаждаемых элементов определяется температурой хладагента. В качестве хладагента используется горячая вода с температурой не менее 80 град.С. Температуру конденсации плазменного газа понижают путем добавления газа с более низкой температурой конденсации, чем у водяного пара, например, воздуха. 2 с. и 12 з.п. ф-лы.
2067790
патент выдан:
опубликован: 10.10.1996
Наверх