Получение плазмы, управление плазмой: ...со сверхвысокочастотными полями, например в диапазоне сантиметровых волн – H05H 1/18

Изобретение относится к технологии поверхностной упрочняющей обработки режущих инструментов и может быть использовано в машиностроении и инструментальной промышленности. Согласно способу инструмент размещают в камере, камеру вакуумируют, подают в нее технологический газ до рабочего давления (Р), при котором возможен пробой газа при минимальной напряженности электромагнитного поля. Затем подают на инструмент положительное напряжение смещения (U), формирующее вокруг него электростатическое поле, достаточное для поддерживания устойчивой генерации плазмы, и генерируют микроволновую энергию до уровня СВЧ-мощности (W) 10-90 Вт. Воздействие плазмы на режущие кромки инструмента осуществляют в течение 1,5-17 мин (t_об) и затем инструмент охлаждают. При этом осуществляют контроль за процессом обработки по току смещения (I), возникающему в измерительной цепи при формировании плазмы и выбираемому из диапазона 2÷17 мкА, и конечной лаговой температуре (Т), выбираемой из диапазона 10-230°С. При отклонении от допустимого значения тока смещения (I) нормализацию режима обработки осуществляют изменением анодного тока магнетрона (I_ан). При превышении допустимого значения конечной лаговой температуры (Т) обработку инструмента прекращают досрочно. Технический результат - повышение износостойкости режущего инструмента. 3 з.п. ф-лы, 10 ил., 3 табл.

Группа изобретений относится к области методов и аппаратуры для создания низкотемпературной плазмы пониженного давления. Способ получения стационарного комбинированного разряда низкотемпературной плазмы пониженного давления у оконечной части обрабатываемого электропроводного объекта, имеющего выступающие части или заостренные кромки, заключается в том, что на объект подается положительный потенциал. Положительный потенциал формирует вокруг объекта электростатическое поле. На электростатическое поле накладывается сверхвысокочастотное электромагнитное поле на уровне СВЧ-мощности ниже необходимой для возбуждения и поддержания безэлектродного СВЧ-разряда низкотемпературной плазмы пониженного давления, но достаточной для возбуждения и поддержания стационарного комбинированного разряда низкотемпературной плазмы пониженного давления. Имеется устройство для осуществления этого способа. Это устройство содержит цилиндрический резонатор, систему возбуждения, генератор СВЧ-энергии, блок подачи потенциала на обрабатываемый электропроводный объект, вакуумную систему и систему напуска газа. Цилиндрический резонатор возбуждается волноводно-щелевой антенной. Волноводно-щелевая антенна свернута в кольцо. Положительный потенциал подается на объект обработки посредством держателя. Держатель расположен в вакуумируемой части цилиндрического резонатора. Группа изобретений позволяет осуществить эффективную обработку оконечной части электропроводного обрабатываемого объекта с целью увеличения их износостойкости, повышения адгезии ранее нанесенных покрытий. 2 н. и 1 з.п. ф-лы, 4 ил.