Получение плазмы, управление плазмой: ..с использованием внешних электрических и магнитных полей – H05H 1/16
Патенты в данной категории
| ПЛАЗМЕННЫЙ ИСТОЧНИК СВЕТОВОГО ИЗЛУЧЕНИЯ
Изобретение относится к плазменной технике, в частности к устройствам с управляемой плазмой, и может быть использовано для решения широкого круга технических задач в фотохимии, осветительной технике, световых технологиях обработки материалов, при испытаниях материалов, приборов, образцов техники на устойчивость к воздействию светового излучения природных и техногенных факторов. Технический результат заключается в возможности создания высокоэффективного универсального плазменного излучателя, который может работать в импульсном режиме с высокой яркостью, в квазинепрерывном режиме с большой энергией излучения, а также в комбинированном режиме, воспроизводящем сложную форму светового импульса с высокой пиковой яркостью, большой энергией излучения и значительной площадью излучающей поверхности. Такой технический результат достигается тем, что в плазменном источнике светового излучения, включающем источник питания, выполненный в виде тиристорного выпрямителя, и формирователь излучающей плазмы из разрядного узла и узла создания прижимающего магнитного поля в виде электромагнита, причем разрядный узел выполнен в виде установленного в зазоре сердечника электромагнита лотка из диэлектрического материала с покрытием из термостойкого материала на основе соединений легкоионизуемых элементов с плоским дном и сквозными отверстиями в боковых стенках, в открытых торцах которого расположены электроды из графита, дополнительно введены второй источник питания в виде высоковольтного емкостного накопителя, генератор запускающих импульсов, управляемый разрядник и выполненный из тугоплавкого металла третий электрод, установленный между торцевыми электродами и соединенный через управляемый разрядник с плюсовым выводом емкостного накопителя, третий электрод, выполненный из тугоплавкого металла, при этом заземленные выводы тиристорного выпрямителя и высоковольтного емкостного накопителя соединены с одним из торцевых электродов разрядного узла, плюсовой вывод тиристорного выпрямителя соединен со вторым торцевым электродом, а третий электрод и заземленный торцевой электрод соединены инициатором разряда, а генератор запускающих импульсов связан с управляемым разрядником и тиристорным выпрямителем. 6 ил. |
2457638 патент выдан: опубликован: 27.07.2012 |
|
| Способ нагрева плазмы и устройство для его реализации Изобретение относится к физике высокотемпературной плазмы и направлено на создание стационарной высокотемпературной плотной полностью ионизированной плазмы. Для этого образование и нагрев стационарной плазмы осуществляется при пучково-плазменном взаимодействии при наличии электрического и неоднородного магнитного полей. Причем магнитное поле имеет пробочную конфигурацию, а радиальное электрическое поле создают в магнитных пробках, обеспечивая наличие скрещенности магнитного и электрического полей в вышеуказанных пробках. Изобретение позволяет реализовать эффективный нагрев плазмы. 2 с.п. ф-лы, 1 ил. | 2223618 патент выдан: опубликован: 10.02.2004 |
|
| СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ И УСКОРЕНИЯ ПЛАЗМЫ И УСКОРИТЕЛЬ ПЛАЗМЫ С ЗАМКНУТЫМ ДРЕЙФОМ ЭЛЕКТРОНОВ ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ Изобретение относится к плазменной технике и может быть использовано при создании ускорителей плазмы с замкнутым дрейфом электронов, применяемых в космических электрореактивных двигателях, а также для научных исследований и производства при создании вакуумных технологических установок. Достигаемый технический результат заключается в значительном повышении КПД процесса создания и ускорения плазмы и ресурса работы ускорителя, реализующего этот процесс. Для этого в способе получения и ускорения плазмы посредством воздействия потока электронов от автономного источника на газообразное рабочее вещество (РВ) в кольцевой осесимметричной системе создают однородное по всей длине системы магнитное поле с напряженностью Н0, которая определяется из условия полного размагничивания на выходе из системы, предварительно формируют однородный в поперечном сечении поток РВ и вводят его в систему на расстоянии от выхода из нее, превышающем длину магнетронной отсечки, обеспечивая при этом концентрацию плазмы на выходе из системы не менее чем концентрация плазмы в системе. Реализуется этот способ тем, что в ускорителе плазмы с замкнутым дрейфом электронов, содержащем осесимметричную магнитную систему с источником магнитодвижущей силы, полюсные наконечники выполнены по всей длине разрядной камеры и соединены, как и катод-компенсатор, с отрицательным полюсом источника питания, а анод, совмещенный с системой подачи РВ, снабжен пористой перегородкой и заглублен от среза ускорителя на расстояние Rн, превышающее длину магнетронной отсечки по крайней мере на величину теплового ларморовского радиуса. При этом поверхность пористой перегородки повторяет форму магнитных силовых линий для обеспечения ламинарности ионного потока. Зазоры между поверхностями полюсных наконечников и соответствующими краями пористой перегородки выбраны с учетом угла расходимости ионного пучка на длине Rн и обеспечения их электрической прочности. Для формирования равномерного потока электронов в разрядную камеру и возможности регулирования электронной концентрации катодной плазмы катод-компенсатор размещают соосно ускорителю на поверхности его среза. Дополнительно к этому для уменьшения расхода газа через катод-компенсатор зону формирования катодной плазмы закрывают диффузором с выходным отверстием. При этом поверхности полюсных наконечников выполняют в виде усеченных конусов. 2 с. и 1 з.п. ф-лы, 2 ил. | 2156555 патент выдан: опубликован: 20.09.2000 |
|