Нагрев электрическими разрядами: .нагрев дуговым разрядом – H05B 7/18

МПКРаздел HH05H05BH05B 7/00H05B 7/18
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H05 Специальные области электротехники, не отнесенные к другим классам
H05B Электрический нагрев; устройства электрического освещения, не отнесенные к другим классам
H05B 7/00 Нагрев электрическими разрядами
H05B 7/18 .нагрев дуговым разрядом 

Патенты в данной категории

ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ НАГРЕВАТЕЛЬ ВОДЯНОГО ПАРА

Изобретение относится к области электротехники, а именно к электродуговым нагревателям газа (плазмотронам), используемым для получения стационарных потоков низкотемпературной плазмы различных газов, и может быть применено в химической и металлургической промышленности, машиностроении, энергетике, экологии. В электродуговом нагревателе водяного пара, содержащем последовательно установленные вдоль продольной оси электрод-анод, кольцо подачи рабочего газа и электрод-катод, наружная поверхность внутреннего электрода-анода и зауженной части выходного электрода-катода охвачены плотно прилегающей металлической трубой с низкой теплопроводностью с толщиной стенки =(4÷8)·10-3 м, через которую косвенно осуществляется охлаждение внутреннего электрода-анода и зауженной части выходного электрода-катода. Соотношения геометрических размеров электродов составляют: d1/d2=1,1÷1,3, l1/d1=1,5÷4, l2/d2 =3÷7, D1/d1 1,5, D2/d2 1,6, где d1, d2 - диаметры зауженных частей (м), D1, D2 - диаметры расширенных частей (м), l1, l2 - длины зауженных частей (м) внутреннего электрода-анода и выходного электрода-катода соответственно. Технический результат - повышение ресурса работы нагревателя. 1 ил.

2518171
патент выдан:
опубликован: 10.06.2014
ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ПЛАЗМОТРОН С ВОДЯНОЙ СТАБИЛИЗАЦИЕЙ ДУГИ

Изобретение относится к электродуговым плазмотронам с водяной стабилизацией дуги и может быть эффективно использовано при резке всевозможных металлов. Технический результат - упрощение конструкции, увеличение мощности плазмотрона, энтальпии получаемой плазмы, скорости резки. Электродуговой плазмотрон содержит соосно и последовательно установленные охлаждаемые катодный узел, изолятор, вихревую камеру, систему ввода плазмообразующего газа и жидкости и анодный узел с соплом-анодом, установленным с межэлектродным зазором относительно катодного узла и образующим полость для жидкостной стабилизации дуги,переходящей на выходе в водяной экран. Полость в анодном сопле выполнена из двух сопряженных конических поверхностей: стенка на 2/3 длины начального участка полости составляет угол наклона 1=5-10°, далее 2=30-45° до цилиндрического участка на выходе, длина которого равна 0,5-0,8 его диаметра, при этом параметры анодного сопла определяют характер жидкостной стабилизации плазменной струи и защитные характеристики водосборника-рассекателя. 1 ил.

2506724
патент выдан:
опубликован: 10.02.2014
ПЛАВИЛЬНАЯ ПЕЧЬ УСТАНОВКИ ДЛЯ ПЛАЗМЕННО-ДУГОВОЙ ПЛАВКИ

Изобретение относится к области вакуумных установок для плазменной дуговой плавки металлов и сплавов в космосе и предназначено для проведения экспериментов преимущественно по плавке наиболее перспективных металлов (вольфрам, ниобий) и композитов на металлической основе в условиях микрогравитации. В плавильную печь установки для плазменно-дуговой плавки, содержащую катод и анод, введены герметичный отвакуумированный корпус, соединенный с катодом и анодом с помощью высокотемпературных гермовводов на основе окиси алюминия, кольцевая вставка, коаксиально охватывающая катод и электроизолированная от него, и контактирующий с внутренней поверхностью корпуса набор цилиндрических колец, чередующихся с шайбами, при этом кольца и шайбы выполнены из титановой губки и имеют различные внутренние диаметры, причем в кольцевой вставке выполнена коаксиальная полость, заполненная пористой структурой, пропитанной щелочным металлом, и открытая с торца, обращенного к катоду. Технический результат - возможность получения сверхпроводящего сплава с рекордной температурой перехода сплава в сверхпроводящее состояние, повышение безопасности плавки в космосе из-за герметично закрытого корпуса плавильной печи, повышение КПД печи. 1 ил.

2504929
патент выдан:
опубликован: 20.01.2014
УСТАНОВКА ДЛЯ ПЛАЗМЕННО-ДУГОВОЙ ПЛАВКИ

Изобретение относится к области вакуумных установок для плазменной дуговой плавки металлов и сплавов в космосе и предназначена для проведения экспериментов преимущественно по плавке наиболее перспективных металлов (вольфрам, ниобий) и композитов на металлической основе в условиях микрогравитации. Установка для плазменно-дуговой плавки содержит дуговую плавильную печь, включающую анод, катод, сообщенный с источником щелочного металла, нагреватель и источник электропитания. Установка дополнительно содержит технологический блок с системой вакуумирования, внутри которого смонтирован нагреватель в виде стержня, при этом источник с щелочным металлом выполнен в виде герметичной ампулы, сообщенной с катодом, причем анод, катод и ампула размещены в герметичной, отвакуумированной капсуле, а нагреватель контактирует с капсулой со стороны катода. Технический результат - возможность получения сверхпроводящего сплава с рекордной температурой перехода сплава в сверхпроводящее состояние, повышение техники безопасности, снижение массы возвращаемой на Землю капсулы. 1 ил.

2486718
патент выдан:
опубликован: 27.06.2013
ЭЛЕКТРОДУГОВАЯ ПЕЧЬ ПОСТОЯННОГО ТОКА

Изобретение относится к области металлургии и литейного производства, а именно к устройству электродуговых печей. Технический результат - увеличение срока износа слоя футеровки за счет оперативности центрирования дуги при ее отклонении в плавильных камерах различных габаритов, снижение энергозатрат, повышение производительности дуговых сталеплавильных печей и КПД. Электродуговая печь постоянного тока содержит корпус плавильной камеры, свод 3 и сводовый электрод 4, первый и второй подовые электроды 5, 6, три электромагнита 9 постоянного тока, множество термочувствительных элементов 10 в виде термопар, блок 11 управления электромагнитами 9, дополнительный низковольтный источник 24 постоянного тока. Множество термопар расположены выше уровня 15 расплавленного материала на расстоянии не более 0,5 метров друг от друга так, чтобы рабочие их спаи касались непосредственно нагреваемой поверхности слоя 2 футеровки. Во избежание оплавления слоя футеровки 2 термопары осуществляют контроль температуры на нем. Для возвращения электрической дуги к центру плавильной камеры в случае ее отклонения по внешнему ее диаметру установлены три электромагнита 9, центры которых расположены выше максимального уровня 15 расплава металла внутри плавильной камеры, а оси указанных электромагнитов 9 расположены под углом 120 градусов относительно друг друга. Регулирование положения дуги осуществляется в зависимости от перегрева области слоя 2 футеровки, прилежащей к той или иной термопаре. Обеспечено повышение КПД на 10-15%, повышение производительности примерно в два раза за счет увеличения срока службы слоя футеровки и сокращение удельного расхода электроэнергии не менее чем на 5-6%, улучшение экологической чистоты пространства вокруг электродуговой печи. 11 з.п. ф-лы, 2 ил.

2486717
патент выдан:
опубликован: 27.06.2013
СПОСОБ ВОССТАНОВЛЕНИЯ МЕТАЛЛОВ ИЗ ОКСИДОВ

Способ восстановления металлов из оксидов относится к технологиям восстановления металлов из неорганических оксидов, при котором осуществляют приготовление гомогенной смеси из ультрадисперсных порошков оксида металла и углерода, подачу приготовленной смеси под давлением в высокотемпературную, формируемую струей плазмотрона зону в шахте, разложение оксида металла с образованием углекислого газа, который выводится через верхние фурмы шахты, а готовый продукт в виде ультрадисперсного порошка металла выводится через летки в нижней части шахты. Способ позволяет снизить энергозатраты при восстановлении металлов из оксидов и обеспечивает снижение содержания примесей в готовом продукте при прямом извлечении металлов из оксидов в непрерывном технологическом процессе.

2476035
патент выдан:
опубликован: 20.02.2013
ЭЛЕКТРОМАГНИТНЫЙ ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЙ РЕАКТОР

Изобретение относится к электротермии и может быть использовано для плавления минеральных компонентов. Предложенный электромагнитный технологический реактор содержит реакционную камеру, имеющую дно, боковые стенки и крышку, устройства ввода перерабатываемых материалов и вывода продуктов переработки, стержневые электроды, размещенные на одинаковом расстоянии от продольной оси, электромагнит в виде охватывающего реакционную камеру замкнутого ярма с тремя симметричными полюсными наконечниками, на которых расположены сериесные обмотки с возможностью создания поперечного магнитного поля и с протекающим через них электрическим током. Дополнительно установленный стержневой электрод, расположенный в центре камеры с возможностью его перемещения, - поднятия и опускания, и стержневые электроды реактора, установленные под углом 5-7° относительно продольной оси реакционной камеры, обеспечивают регулирование температуры нагрева летки и вытекающей из летки струи расплава. Технический результат изобретения заключается в повышении надежности работы реактора и повышении качества получаемой продукции. 4 з.п. ф-лы, 3 ил.

2432719
патент выдан:
опубликован: 27.10.2011
МЕТОД И УСТРОЙСТВО ПОЛУЧЕНИЯ КОМПАКТНЫХ СЛИТКОВ ИЗ ПОРОШКООБРАЗНЫХ МАТЕРИАЛОВ

Метод и устройство получения компактных слитков из порошкообразных материалов, который включает нагрев порошков циркония, ниобия, молибдена, тантала, вольфрама, рения, тория, титана, бериллия и сплавов на их основе в плазменном разряде полого горячего катода до температуры их пластичности или расплавления с последующим получением компактного слитка электронно-лучевого качества. Устройство состоит из вакуумной камеры (1), в верхней части которой находится водоохлаждаемый плазмотрон (2) с закрепленным на нем с помощью резьбы полым танталовым катодом. Способ подачи инертных газов обеспечивает раздельную подачу инертных газов по трем контурам, при этом в качестве транспортирующего газа используется аргон, который подается вместе со свободно текущим порошком через водоохлаждаемую трубку (3), а в качестве стабилизирующего газа используется вихревой поток гелия, который подается между трубкой (3) и наружным катодом. Стабилизация плазменного разряда и перерабатываемого порошка, защита катодов от взаимодействия с составляющими примесями обрабатываемого порошка, значительное увеличение продолжительности непрерывной работы катодов являются техническим результатом изобретения. 2 н.п. ф-лы, 4 ил., 2 табл.

2406276
патент выдан:
опубликован: 10.12.2010
СПОСОБ АВТОМАТИЧЕСКОГО РЕГУЛИРОВАНИЯ РЕЖИМОМ РАБОТЫ ПЛАЗМОТРОНА И УСТАНОВКА ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Изобретение может быть использовано в электротехнике, плазменной металлургии, плазмохимии и предназначено для автоматического регулирования режимом работы плазмотрона. Способ раскрывает последовательность действий по регулированию рабочего режима плазмотрона и его энергетических характеристик. Установка автоматического регулирования режимом работы плазмотрона включает регулятор тока дуги, блок возбуждения дуги, пульт газоводяной и пульт управления установкой. Технический результат - повышение надежности работы, обеспечение компактности и простоты в обслуживании. 2 н. и 2 з.п. ф-лы, 1 ил.

2389055
патент выдан:
опубликован: 10.05.2010
ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ПЛАЗМОТРОН

Изобретение относится к области плазменной техники, а именно к конструкции плазмотронов, применяемых в металлургической промышленности в качестве источника нагрева. Предлагаемый электродуговой плазмотрон содержит полый цилиндрический корпус, в котором соосно установлены полый цилиндрический токоподвод, полый цилиндрический глухой электрод, завихритель газа, выходное сопло. Согласно изобретению глухой торец полого электрода изолирован от токоподвода, при этом электрический ток подается на открытый торец электрода через контактирующую поверхность. Между токоподводом и наружной поверхностью полого электрода дополнительно установлен сепаратор таким образом, что подвод охлаждающей жидкости осуществляется к открытому торцу полого электрода, а выход охлаждающей жидкости осуществляется к глухому торцу электрода. Техническим результатом, достигаемым при осуществлении данного изобретения, является обеспечение стабильности геометрических и энергетических параметров горения дуги, а также исключение прожогов стенки полого электрода. 3 з.п. ф-лы, 2 ил.

2387107
патент выдан:
опубликован: 20.04.2010
ТРАНСФОРМАТОРНЫЙ ПЛАЗМОТРОН С ДИЭЛЕКТРИЧЕСКОЙ РАЗРЯДНОЙ КАМЕРОЙ

Изобретение относится к плазменной технике, а именно к трансформаторным плазмотронам низкотемпературной плазмы, и может быть использовано в плазмохимии и металлургии для проведения различных плазмохимических процессов, а также в лазерной технике. Трансформаторный плазмотрон содержит замкнутую водоохлаждаемую разрядную камеру 2 с узлами ввода рабочего газа 1 и вывода плазменной струи 7, а также, по меньшей мере, один магнитопровод 5 с первичными обмотками 4. Узлы ввода рабочего газа 1 снабжены завихрителями потока 3. Узлы вывода плазменной струи 7 расположены на противоположных концах камеры 2. Один из магнитопроводов, кроме основных, содержит дополнительные обмотки поджига плазмы. Разрядная камера 2 из диэлектрического материала содержит, по меньшей мере, один узел ввода буферного газа 6 и, по меньшей мере, один узел вывода плазменной струи. Изобретение позволяет увеличить напряженность электрического пробоя. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

2379860
патент выдан:
опубликован: 20.01.2010
ГОЛОВКА ДЛЯ АНАЛИТИЧЕСКОГО ГАЗОВОГО ПЛАЗМАТРОНА

Изобретение относится к приборостроению, а именно к аналитическим приборам для проведения спектрального анализа, и может использоваться в устройствах атомизации и возбуждения атомов анализируемых проб. Головка для аналитического газового плазматрона содержит корпус с соплом и размещенный соосно с соплом силовой электрод, систему охлаждения сопла и силового электрода, а также устройство для подачи плазмообразующего газа в межэлектродную камеру, образованную силовым электродом и корпусом с соплом. Сопло и силовой электрод выполнены в виде аксиально-симметричных эквидистантных тонкостенных оболочек из материала с высокой электро- и теплопроводностью, стенки которых являются частью проточных каналов системы охлаждения. Использование изобретения позволит эффективно охлаждать силовые электроды и сопла, что обеспечивает не только надежную и продолжительную работу плазматрона, но и сохраняет высокую чистоту плазмы, в которую подается анализируемая проба. 3 з.п. ф-лы, 4 ил.

2366119
патент выдан:
опубликован: 27.08.2009
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ДУГОВОГО РАЗРЯДА В ПЛАЗМОТРОНЕ

Изобретение относится к электротехнике и предназначено для формирования дугового разряда в плазмотроне. Способ формирования дугового разряда в плазмотроне включает распределенную подачу рабочего тела (газа) по длине отдельных трубчатых вставок (нейтродов) с осевой и тангенциальной составляющей скорости и заданными расходами, возбуждение вспомогательного разряда и зажигание рабочей дуги. Согласно способу устанавливают заданное значение напряжения холостого хода (Uxx) источника электропитания, принимают оптимальное количество нейтродов в зависимости от величины напряжения холостого хода, задают длину первого нейтрода по потоку газа в границах длины ламинарного участка дуги и выбирают пороговое значение отношения напряжения холостого хода к радиусу нейтродов. Длину каждого последующего нейтрода принимают в 1,3-2,2 раза меньше длины предыдущего. При Uxx до 600 В пороговое значение составляет (70-80)·10-3 В/м, при Uxx до 1500 В - (100-115)·10-3 В/м, при Uxx до 5000 В - (200-220)·10-3 В/м. По установленным граничным значениям определяют радиус нейтродов для принятой величины напряжения холостого хода. После установки рабочих расходов газа и тока дуги запускают плазмотрон. Целесообразно при величине напряжения холостого хода до 600 В формировать плазмотрон с одним нейтродом, до 1500 В - с двумя, до 5000 В - с четырьмя. Изобретение позволяет улучшить тепловые параметры плазменной струи и энергетические характеристики плазмотрона, а также улучшить стабильность горения дуги, обеспечить надежную и экономичную работу плазмотрона в технологическом агрегате. 1 з.п. ф-лы.

2355135
патент выдан:
опубликован: 10.05.2009
ДВУХСТРУЙНЫЙ ДУГОВОЙ ПЛАЗМАТРОН ДЛЯ АТОМНО-ЭМИССИОННОГО СПЕКТРАЛЬНОГО АНАЛИЗА

Изобретение относится к аналитическому приборостроению, к приборам для атомно-эмиссионного спектрального анализа веществ и материалов, а именно к источникам возбуждения атомно-эмиссионных спектров анализируемых проб. Двухструйный дуговой плазматрон для атомно-эмиссионного спектрального анализа включает анодный и катодный узлы, каждый из которых содержит корпус с соплом, силовой электрод с тугоплавкой вставкой, размещенной соосно с соплом, и устройство для подачи плазмообразующего газа в межэлектродную камеру, образованную силовым электродом и корпусом с соплом. Силовой электрод выполнен со сквозным осевым отверстием и снабжен с одной стороны штуцером для подачи плазмообразующего газа, а с другой стороны тугоплавкой вставкой, при этом осевое отверстие соединено с межэлектродной камерой одним или несколькими каналами, огибающими тугоплавкую вставку. Технический результат: повышение точности количественного определения содержания элементов в анализируемой пробе за счет стабилизации положения аналитического участка плазмы. 4 з.п. ф-лы, 4 ил.

2298889
патент выдан:
опубликован: 10.05.2007
СВЧ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ РЕАКТОР

Изобретение относится к плазменным реакторам с увеличенными объемом плазмы и величиной вводимой в разряд электрической энергии и может быть использовано для прямого восстановления металлов из руд, розжига электроплавильных печей, синтеза порошковых материалов, сфероидизации порошков, осаждения пленок и др. Технический результат - устранение известных ограничений на вводимую в плазменный разряд СВЧ энергию и в существенном ее увеличении при сохранении свойственных СВЧ плазменным устройствам отсутствия расходуемых материалов и простоты управления процессом. СВЧ плазмохимический реактор содержит средства для подачи исходного материала сбора конечного продукта, подачи и отбора рабочего газа, средства создания продольного магнитного поля и ввода СВЧ энергии. Во внутренней трубе узла ввода СВЧ энергии у торца ее, обращенного в разрядную камеру, размещена электропроводящая полая вставка, подключенная через трубу, плавный переход и центральный проводник коаксиально-волноводного перехода к отрицательному полюсу источника напряжения, а центральный проводник выполнен в виде трубы и подключен к дозатору исходного материала, при этом средство для начального размещения исходного материала и сбора конечного продукта выполнено в виде платформы, установленной в подвижной трубе, выполняющей роль анода дугового разряда. 1 з.п. ф-лы, 2 ил.

2270536
патент выдан:
опубликован: 20.02.2006
СВЕРХВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ПЛАЗМОТРОН

Изобретение относится к области машиностроения, в частности к сверхвысокочастотным плазмотронам для получения низкотемпературной плазмы для обработки материалов при давлении ниже атмосферного. На внутренней проводящей поверхности разрядной камеры выполнены один или несколько кольцевых радиальных пазов, пазы могут быть выполнены в виде короткозамкнутых отрезков коаксиальной линии с проводящими стенками глубиной, равной четверти длины волны электромагнитных колебаний генератора. Изобретение позволяет повысить эффективность взаимодействия электромагнитной энергии с плазмообразующим газом. 1 з.п. ф-лы, 4 ил.

2251824
патент выдан:
опубликован: 10.05.2005
ВЫСОКОЧАСТОТНЫЙ ИНДУКЦИОННЫЙ ПЛАЗМОТРОН

Изобретение относится к электротехнике и направлено на увеличение срока службы ВЧИ-плазмотронов и повышение их теплового КПД. Поставленная задача решается тем, что ВЧИ-плазмотрон содержит цилиндрическую разрядную камеру, выполненную в виде водоохлаждаемых продольных профилированных металлических секций, размещенных в защитном диэлектрическом кожухе, охватывающий кожух индуктор, установленные внутри разрядной камеры в ее торцевой части узлы ввода основного и термозащитного газов. Узел ввода термозащитного газа выполнен в виде одного или более коаксиальных кольцевых рядов продольных металлических трубок с количеством в каждом ряду, равным количеству продольных профилированных металлических секций. Трубки со стороны индуктора имеют профилированный зазор для выхода газа, а также продольный зазор относительно соседних трубок в ряду до расстояния не менее одного внутреннего диаметра разрядной камеры, считая от ближайшего витка индуктора. Трубки соединены по боковой поверхности пайкой или сваркой с радиально расположенными продольными металлическими трубками соседнего коаксиального кольцевого ряда, причем продольные металлические трубки ряда, ближайшего к продольным профилированным металлическим секциям, соединены по боковой поверхности со смежной секцией пайкой или сваркой. Узел ввода основного газа со стороны индуктора снабжен диафрагмой, расположенной на расстоянии не менее одного внутреннего диаметра разрядной камеры от ближайшего витка индуктора и имеющей, по крайней мере, одно отверстие для прохода газа. Торцы продольных металлических трубок для выхода газа в каждом ряду расположены вне зоны индуктора и равноудалены от его ближайшего витка, а расстояние торцов продольных металлических трубок для выхода газа от ближайшего витка индуктора увеличивается с удалением коаксиального кольцевого ряда от продольных профилированных металлических секций. Продольные металлические трубки расположены на поверхности соседних, радиально расположенных продольных металлических трубок, причем продольные металлические трубки коаксиального кольцевого ряда, ближайшего к продольным профилированным металлическим секциям, расположены на поверхности смежных секций. Диафрагма со стороны индуктора образует кольцевой зазор для прохода газа с продольными металлическими трубками ближайшего коаксиального кольцевого ряда, а высота кольцевого зазора для прохода газа выполнена меньше высоты профилированного зазора для выхода газа продольных металлических трубок ближайшего коаксиального кольцевого ряда. Использование предлагаемой конструкции ВЧИ-плазмотрона в качестве генератора низкотемпературной плазмы в струйно-плазменных процессах обработки дисперсных материалов позволило создать эффективные плазменные реакторные устройства для вскрытия тонкоизмельченного рудного сырья, сфероидизации дисперсных материалов и получения высокодисперсных порошков оксидов за счет генерирования незакрученных плазменных струй при тепловом КПД ВЧИ-плазмотронов более 80%. 15 з.п. ф-лы, 5 ил.

2233563
патент выдан:
опубликован: 27.07.2004
СВЧ-ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ РЕАКТОР

Изобретение относится к микроволновым СВЧ-плазменным реакторам с увеличенным объемом плазмы и может быть использовано при производстве изделий электронной техники и др. Технический результат - увеличение вкладываемой в разряд СВЧ-мощности, рабочего давления в разрядной камере, диаметра обрабатываемой детали, а также повышение надежности и производительности устройства. Узел ввода СВЧ-энергии в разрядную камеру подсоединен к верхнему днищу разрядной камеры и выполнен в виде двух коаксиальных металлических труб, внешняя из которых соединена с боковой стенкой разрядной камеры, имеющей диаметр, значительно превышающий диаметр внешней трубы узла ввода СВЧ-энергии с помощью переходного узла, состоящего из металлического тела и металлического кожуха, при этом металлическое тело расположено вокруг внутренней трубы узла ввода СВЧ-энергии и имеет форму усеченного конуса, большое основание которого является частью верхнего днища разрядной камеры, а металлический кожух расположен вокруг металлического тела коаксиально ему, в зазоре между кожухом и телом установлено в плоскости верхнего днища разрядной камеры диэлектрическое кольцо, а во внутреннем отверстии тела установлено второе диэлектрическое кольцо, в которое входит с возможностью осевого перемещения внутренняя труба узла ввода СВЧ-энергии, в стенке внешней трубы узла ввода СВЧ-энергии выполнены два или четыре окна, к которым подсоединены прямоугольные волноводы, широкие стенки которых параллельны оси трубы, а к верхнему днищу узла ввода СВЧ-энергии подсоединен коаксиально-волноводный переход таким образом, что его центральный проводник соединен плавным переходом с торцом внутренней трубы узла ввода СВЧ-энергии, при этом центральный проводник изолирован от корпуса коаксиально-волноводного перехода, а внешний проводник - кожух - подсоединен к верхнему днищу узла ввода СВЧ-энергии, вокруг отверстия в верхнем днище между ним и внутренней трубой узла ввода СВЧ-энергии установлен диэлектрический цилиндр, внутри внутренней трубы расположен элемент СВЧ-настройки, выполненный, например, в виде подвижного закорачивающего поршня, на нижнем днище разрядной камеры установлена платформа для размещения обрабатываемой детали с возможностью перемещения относительно днища, в боковой стенке разрядной камеры у ее нижнего днища расположены тангенциально к боковой стенке сопла для ввода рабочего газа, а у края внутренней трубы узла ввода СВЧ-энергии со стороны разрядной камеры на внутренней стенке внутренней трубы расположен формирователь дополнительного вихревого газового потока в разрядной камере, выполненный в виде сопел завихрителя, расположенного в зазоре между стенкой внутренней трубы и элементом СВЧ-настройки, к которому подсоединено металлическое тело конусной формы, вершина которого направлена вдоль оси трубы наружу и выходит из внутренней трубы на расстояние, равное 1-2 величины радиуса внутренней трубы, а сопла ввода рабочего газа, расположенные в боковой стенке разрядной камеры, могут быть заключены внутри полости, образованной нижним днищем разрядной камеры и металлическим или диэлектрическим цилиндром, соосным с разрядной камерой и образующим между своей внешней поверхностью и стенкой разрядной камеры зазор, размер которого равен 1-5 величины диаметра выходного отверстия сопел, при этом отверстие этой полости расположено вблизи плоскости нижнего рабочего положения платформы, на которой размещена обрабатываемая деталь. 1 з.п. ф-лы, 5 ил.
2225684
патент выдан:
опубликован: 10.03.2004
СПОСОБ ЭЛЕКТРОДУГОВОГО НАГРЕВА

Изобретение относится к электрометаллургии, конкретнее к способу ведения нагрева металла в ковше. Способ включает электродуговой нагрев металла в ковше посредством трех графитированных электродов, включенных в цепь трехфазного трансформатора и перемещаемых на одной траверсе. Производят регулярные измерения каждого фазного напряжения дуг и на основе сравнения наименьшего фазного напряжения с заданным напряжением производят перемещение траверсы до исчезновения сигнала рассогласования между заданным и измеренным значениями напряжения. Стабильное зажигание и горение дуг поддерживают посредством дополнительных маломощных источников повышенного напряжения и частоты, включенных в цепь каждой фазы. Изобретение предотвращает короткие замыкания электрода на металл и обрыв дуги, что повышает надежность и сроки эксплуатации электрооборудования и футеровки, снижает науглероживание обрабатываемого металла, а также повышает производительность процесса и снижает себестоимость металла. 1 з.п.ф-лы.
2206624
патент выдан:
опубликован: 20.06.2003
ЭЛЕКТРОДНЫЙ БЛОК ПЛАЗМЕННО-ДУГОВОЙ ОБРАБОТКИ ТРАНЗИТНОГО ГЕТЕРОГЕННОГО ПОТОКА

Электродный блок плазменно-дуговой обработки транзитного гетерогенного потока относится к дуговой и плазменно-дуговой технике. В конструкции термостойких электроизоляционных опор под дисперсные электроды, создающих вихревую зону в аэродинамической тени элементов этих опор, на верхних поверхностях которых электроды формируются и самовозобновляются за счет "иммобилизующихся" - выпадающих из гетерогенной смеси и прекращающих на этих поверхностях свое движение, совершающееся под воздействием аэродинамических и гравитационных сил частиц исходно электропроводного или приобретающего проводимость под воздействием электрической дуги дисперсного материала, и под слой которого подводятся напряжение инициации и ток электропитания дуги заглубленными для защиты от прямого воздействия дуговых температур электропроводными токовводами, и обеспечивающих расстояние между заданными оппозитными участками краев пары электродов, питающих одну дугу, гарантирующее возможность инициации дуги напряжением, не превышающим напряжение холостого хода источника питания, блок электродов, представляющий собой комплекс определенным образом скомпонованных опор с расположенными на них дисперсными электродами, размещают непосредственно в канале, "в рассечку" потока гетерогенной смеси веществ, предназначенных для плазменно-дуговой обработки. Технический результат - устройство позволит вынести диапазон применения формирующихся и самовосстанавливающихся за счет твердых компонентов гетерогенных смесей дисперсных дуговых электродов, разработанных для использования в плазменно-дуговых реакторах кипящего слоя, в область транзитных потоков, т.е. в технологию поточных многотоннажных реакций, в частности, для розжига и поддержания горения в топках современных энергетических котлов без использования обычно применяемого растопочного высокореакционного топлива. 5 з.п.ф-лы, 7 ил.
2185711
патент выдан:
опубликован: 20.07.2002
ЭЛЕКТРОДУГОВАЯ ПЛАВИЛЬНАЯ ПЕЧЬ, ЭЛЕКТРОДНЫЙ УЗЕЛ И СПОСОБ ЭЛЕКТРОДУГОВОЙ ПЛАВКИ

Изобретения относятся к устройствам и методам электродуговой плавки металлов и сплавов, которые могут использоваться как для экспериментального получения сплавов с особыми свойствами, так и для их промышленного производства. Электродуговая плавильная печь содержит вакуумную камеру, электродный узел со стержневым нерасходуемым катодом, анод, в качестве которого используют охлаждаемый кристаллизатор с образцом расплавляемого металла или сплава, при этом диаметр части стержневого катода, расположенной в разрядном объеме и удаленной от торца катода, контактирующего с дуговым разрядом, составляет не более 8 мм. Способ электродуговой плавки заключается в зажигании и поддержании дугового разряда между торцевой частью стержневого катода и образцом металла или сплава. Плавка осуществляется при автоматическом поддержании давления плазмообразующего газа и контролируемом расходе газа. Процесс плавки металла производится под действием локализованного в пространстве энерговыделения дугового разряда при величине тока дугового разряда в диапазоне от 50 до 1000 А. Данное конструктивное выполнение электродного узла и способ работы печи обеспечивают устойчивый термоэмиссионный режим стержневого катода при высоких значениях разрядных токов, а также позволяют увеличить энергосодержание в разрядном объеме, локализацию энерговыделения электродугового разряда в пространстве и повысить энергетическую эффективность печи за счет оптимизации размеров стержневого катода в соответствии с рабочим диапазоном токов разряда при заданном уровне давления плазмообразующего газа и заданном диапазоне расстояний между катодом и расплавляемым образцом. 3 с. и 27 з.п. ф-лы, 3 ил.
2184160
патент выдан:
опубликован: 27.06.2002
СПОСОБ ПЛАЗМЕННОГО НАГРЕВА ШИХТЫ В ФЕРРОСПЛАВНОМ ПРОИЗВОДСТВЕ

Изобретение относится к прогрессивной технологии производства марганцевых ферросплавов, а именно к плазменно-дуговому нагреву и плавлению шихтовых материалов. Способ позволяет регулировать силу тока каждой электрической дуги на окружности распада электродов в пределах 300-900 А с частотой от 110-2 до 110-5 Гц. Предложенный способ позволяет перерабатывать шихту мелкой и пылевидной фракции и выплавлять ферросплавы высокого качества, обеспечивает снижение удельного расхода электроэнергии на 15-20% и повышает производительность плавки на 17-20%, а также повышает степень усвоения марганца на 3-5%. 8 ил., 2 табл.
2182185
патент выдан:
опубликован: 10.05.2002
ПЛАЗМЕННЫЙ РЕАКТОР

Изобретение относится к электродуговым плазменным реактором для одновременного получения расплава вяжущих веществ и возгонов редких металлов и может быть использовано в цементной, металлургической и химической промышленности. Плазменный реактор содержит цилиндрическую камеру, стержневые электроды, проходящие в камеру сквозь верхнюю ее крышку, отверстия для ввода реагентов в своде камеры и вывода в поде, две электромагнитные катушки, охватывающие камеру и расположенные одна под другой по ее высоте. Верхняя катушка соединена с приводом, обеспечивающим последней перемещение относительно продольного и поперечного сечения цилиндрического корпуса камеры реактора. Между отверстием для вывода расплава в поде и нижней катушкой установлен дополнительный канал для вывода более легкого расплава - вяжущего. Электроды выполнены полыми, а в их полостях вмонтированы задерживающие падение сырьевого материала теплообменные элементы. Изобретение позволяет повысить производительность печи, качество готового продукта, снизить энергозатраты. 3 з.п. ф-лы. 1 ил.
2176277
патент выдан:
опубликован: 27.11.2001
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ЭЛЕКТРОДУГОВОГО РАЗРЯДА В ПЛАЗМОТРОНЕ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Изобретение относится к способам формирования и регулирования тепловых параметров плазменной струи и энергетических характеристик плазмотрона и плазмотронам для их осуществления. Техническим результатом изобретения является повышение тепловой мощности плазменной струи с расширением ее функциональной возможности и расширение области применения плазмотрона. Для жидкостной стабилизации до подачи тангенциального потока жидкости подают поток плазмообразующего газа, закрученного относительно оси газовой камеры, с помощью которого, используя вспомогательный разряд, зажигают рабочую дугу. После подачи плазмообразующего газа тангенциальные потоки жидкости раздельно один за другим подают в последовательно расположенные по оси камеры жидкостной стабилизации. В корпусе плазмотрона по оси установлены газовая камера с патрубком ввода плазмообразующего газа, полый электрод с системой магнитной стабилизации и дополнительный электрод, являющийся верхней диафрагмой, плотно подсоединенной к нему торцом, камера жидкостной стабилизации; вторая камера жидкостной стабилизации, со стороны нижней диафрагмы которой к введенному водосборнику-рассекателю можно подсоединить съемный анод-сопло с системой магнитной стабилизации дуги. 2 с. и 1 з.п. ф-лы, 1 ил.
2165130
патент выдан:
опубликован: 10.04.2001
ВАКУУМНАЯ ДУГОВАЯ ПЕЧЬ

Изобретение относится к электротермии, в частности к конструкциям вакуумных дуговых электропечей для выплавки слитков тугоплавких, высокореакционных металлов и сплавов, например титановых. В вакуумной дуговой печи внутренний кожух системы охлаждения выполнен из труб, равномерно с зазором вертикально установленных по всей высоте кристаллизатора и жестко соединенных между собой пластинами из листовой стали, на концевых частях внешнего кожуха заодно с ним выполнены верхняя и нижняя кольцевые камеры, причем верхняя камера с боковой стороны соединена с каждой из труб, содержит на кольцевом диске дна гидрозатворы и подключена к воздушнику, а нижняя камера с боковой стороны соединена с отростками труб соплами, размещенными соосно во входной части труб внутреннего кожуха, прикрепленных пластинами к камерам и к торцам труб. Технический результат: предлагаемая вакуумная дуговая печь обеспечивает повышение срока службы кристаллизатора, надежности работы печи в целом, снижение расхода охлаждающей среды. 2 з.п.ф-лы, 2 ил.
2152141
патент выдан:
опубликован: 27.06.2000
СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ РЕЖИМОМ ПЛАЗМЕННО-ДУГОВОЙ ОБРАБОТКИ

Изобретение относится к электротермии, в частности к способам управления плазмотронов. Изобретение позволяет повысить ресурс работы плазмотрона. При данном способе поджигают рабочую дугу между электродом и металлом. В случае превышения электрическим параметром, характеризующим наличие шунтирующих дуг между соплом и металлом, критического значения уменьшают ток рабочей дуги. Новым в способе является то, что в качестве контролируемого параметра, характеризующего стабильность горения дуги, дополнительно используют температуру сопла и по ней регулируют подачу защитного газа и изменяют ток рабочей дуги.
2150797
патент выдан:
опубликован: 10.06.2000
СВЧ-ПЛАЗМОХИМИЧЕСКИЙ РЕАКТОР

СВЧ плазмохимический реактор состоит из металлической разрядной камеры, узла ввода СВЧ-энергии в разрядную камеру, подсоединенного к верхнему днищу разрядной камеры и выполненного в виде двух коаксиальных металлических труб, внутри внутренней трубы расположен элемент СВЧ-настройки, в стенке внешней трубы узла ввода выполнены одно или несколько окон, к которым подсоединены прямоугольные волноводы, на нижнем днище разрядной камеры установлена платформа для размещения обрабатываемой детали с возможностью перемещения относительно днища в направлении оси камеры, в боковой стенке разрядной камеры расположен подвижный штыревой электрод, в боковой стенке разрядной камеры у ее нижнего днища расположены тангенциально к боковой стенке сопла для ввода рабочего газа, в нижнем днище - отверстия для выхода газа. В одном из вариантов между верхним днищем разрядной камеры и узлом ввода расположено диэлектрическое кольцо, а в другом варианте разрядная камера имеет диаметр, значительно превышающий диаметр внешней трубы узла ввода, и подсоединена к нему с помощью переходного узла, состоящего из металлического тела и металлического кожуха конической формы, в зазоре между которыми в плоскости верхнего днища разрядной камеры установлено диэлектрическое кольцо. Технический результат заключается в повышении надежности, увеличении СВЧ-мощности, повышении производительности. 2 с. и 2 з.п.ф-лы, 2 ил.
2149521
патент выдан:
опубликован: 20.05.2000
СПОСОБ ДЛЯ ДЕЗИНСЕКЦИИ И ДЕЗИНФЕКЦИИ МАТЕРИАЛОВ ЗЕРНОВОГО ПРОИСХОЖДЕНИЯ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Изобретение относится к средствам дезинсекции и дезинфекции продуктов зернового происхождения перед их хранением, использованием для переработки или в качестве предпосевной обработки. При реализации способа энергию СВЧ подают в разрядную камеру в виде импульсов, в камере создают рециркулирующий газовый поток, плазма под воздействием СВЧ-импульсов и рециркулирующего газового потока совершает возвратно-поступательное движение, а обрабатываемые продукты зернового происхождения проходят через разрядную камеру в виде свободно падающего потока. В устройстве ось разрядной камеры расположена вертикально вдоль вектора силы тяжести, к центральным отверстиям в верхнем и нижнем днищах камеры подсоединены соответственно узлы ввода и вывода обрабатываемого продукта, выполненные в виде цилиндрических металлических труб, а узлы ввода СВЧ-энергии присоединены к верхнему или к нижнему или к верхнему и нижнему днищам камеры, расположены вокруг труб узлов ввода и вывода продукта и закрыты диэлектрическим материалом в плоскости днища камеры, а формирователь вихревого газового потока, создающего рециркуляционную зону, расположен у нижнего днища разрядной камеры. Это позволяет увеличить производительность устройства и избежать локальных ожогов поверхности зерновок. 2 с. и 11 з.п.ф-лы, 4 ил.
2143794
патент выдан:
опубликован: 10.01.2000
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ДУГОВЫХ ЭЛЕКТРОДОВ

Способ формирования дуговых электродов относится к дуговой и плазменно-дуговой технике. Техническим результатом является автомодельное образование и поддержание формы дуговых электродов, что позволяет автоматизировать процесс пополнения частиц, а также дает возможность совмещать функции инициации и поддержания дугового разряда с применением единого источника питания и упрощением конструкции токоведущих частей. Способ включает подачу к токоподводам и активным поверхностям электродов и дисперсного материала, обеспечение электропроводности электродов и подачу к ним напряжения для зажигания и поддержания постоянного устойчивого горения электрической дуги. С помощью организованной системы газовых струй электроды выполняют с активными поверхностями, имеющими уклон, равный углу естественного откоса используемого дисперсного материала, и для соседствующих электродов ориентированными зеркально. 4 з.п.ф-лы, 2 ил.
2141747
патент выдан:
опубликован: 20.11.1999
ПЛАЗМЕННЫЙ РЕАКТОР И СПОСОБ УПРАВЛЕНИЯ ЭЛЕКТРОДУГОВЫМ РАЗРЯДОМ ПЛАЗМЕННОГО РЕАКТОРА

Изобретения относятся к технике преобразования электрической энергии в тепловую с помощью электродугового разряда и могут быть испольвованы в энергетике для комплексной плазменной переработки углей или золы с целью извлечения из нее ценных компонентов, а также в химическом, металлургическом производстве и производстве плавленных огнеупорных материалов. Достигаемый технический результат заключается в повышении производительности реактора за счет повышения устойчивости горения дуги. На полюсных наконечниках 5 поперечного магнитного поля плазменного реактора размещены дополнительные обмотки 10 с выводами, подключенными к клеммам электродов 2 реактора. Полярность подключения выбрана так, что дополнительное магнитное поле направлено встречно создаваемому сериесными обмотками 8 основному поперечному магнитному полю. На дополнительных обмотках 10 выполнены отводы, позволяющие изменять количество их витков в зависимости от выбранного режима работы реактора. В качестве дополнительных обмоток 10 может быть использована часть обмоток управления 9, выводы которых подключены к клеммам электродов 2 соответственно. Достижение технического результата стало возможным благодаря способу управления электродуговым разрядом реактора, согласно которому на ток дуги воздействуют основным поперечным магнитным полем, индукция которого пропорциональна току дуги, поперечным магнитным полем управления постоянного тока и дополнительным поперечным магнитным полем, величина индукции которого функционально связана с напряжением на дуге, а его направление встречно основному поперечному магнитному полю. 2 с. и 2 з.п.ф-лы, 2 ил.
2129343
патент выдан:
опубликован: 20.04.1999
Наверх