Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления электронных или газоразрядных приборов, разрядных осветительных ламп или их деталей, восстановление материала из электронных или газоразрядных приборов или ламп: .откачка, дегазация, наполнение или очистка баллонов – H01J 9/38

МПКРаздел HH01H01JH01J 9/00H01J 9/38
Раздел H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
H01 Основные элементы электрического оборудования
H01J Электрические газоразрядные и вакуумные электронные приборы и газоразрядные осветительные лампы
H01J 9/00 Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления электронных или газоразрядных приборов, разрядных осветительных ламп или их деталей; восстановление материала из электронных или газоразрядных приборов или ламп
H01J 9/38 .откачка, дегазация, наполнение или очистка баллонов 

Патенты в данной категории

ВЫСОКОВАКУУМНЫЙ ПОСТ ДЛЯ ОТКАЧКИ ЭЛЕКТРОВАКУУМНЫХ ПРИБОРОВ

Изобретение относится к технологическому сверхвысоковакуумному оборудованию, применяемому в электронной промышленности для откачки электровакуумных приборов (ЭВП) различного назначения, в частности крупногабаритных клистронов с размером по высоте до 2-х метров и весом более 100 кг, а также приборов других типов. Техническим результат - повышение надежности и качества откачки ЭВП, упрощение конструкции поста и повышение его производительности. Высоковакуумный пост для откачки электровакуумных приборов содержит защитную камеру и вакуумную систему откачки приборов, включающую турбомолекулярный и безмаслянный форвакуумный насосы. Металлические охлаждаемые стенки камеры по вертикали разделены уплотнительной прокладкой на две части, одна из которых подвижна. На основании неподвижной части расположено с возможностью перемещения по трем координатам юстирующее устройство для крепления приборов. Вдоль стенок камеры по вертикали расположены нагреватели с независимыми источниками питания. Вверху камеры расположен коллектор для подачи азота. В основании установлен кран с ручным управлением потоком азота. Вакуумная система откачки подключена к прибору через прогреваемый кран. Вакуумная система откачки прибора может быть выполнена на безмасляном форвакуумном спирального типа насосе. 3 з.п. ф-лы, 1 ил.

2515937
патент выдан:
опубликован: 20.05.2014
СПОСОБ ОТКАЧКИ И НАПОЛНЕНИЯ ПРИБОРА ГАЗОМ

Изобретение относится к электронной промышленности. Технический результат - снижение трудоемкости наполнения инертным газом прибора и повышение надежности и срока службы прибора. Способ откачки и наполнения прибора газом содержит откачку и прогрев прибора, напуск газа в прибор и герметизацию прибора. Вначале проводят форвакуумную откачку камеры до давления 5-10 -2 мм рт.ст. и напуск осушенного азота в прибор до давления не более 2 атмосфер, затем откачку прекращают и измеряют вакуум в камере. Если степень вакуума не изменилась, то ведут безмасляную форвакуумную откачку прибора до давления 5·10-2 мм рт.ст., а затем откачку турбомолекулярным насосом до давления 5·10-6 мм рт.ст., прибор во время откачки прогревают до температуры не более 100°C. Насосы отсоединяют, выключают и проводят напуск инертного газа до давления не более 1,3 атмосферы. Камеру заполняют азотом и герметизируют прибор холодным отпаем штенгеля. 1 ил.

2505883
патент выдан:
опубликован: 27.01.2014
СПОСОБ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТЕЙ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ИЗДЕЛИЙ (ВАРИАНТЫ)

Изобретение относится к очистке поверхностей различных диэлектрических изделий, в частности химической и медицинской посуды, и может быть использовано в областях науки и техники, где конечный результат зависит от чистоты исходной поверхности используемых изделий. Способ состоит в том, что очищаемые изделия в кассетах из радиопрозрачного материала помещают в вакуумируемый рабочий объем многомодового цилиндрического резонатора, после вакуумирования которого регулируют напуск рабочего газа до появления стационарного СВЧ-разряда в вакуумируемом объеме резонатора, затем уменьшают напуск газа при постоянной откачке до возникновения СВЧ-разряда внутри изделий, после чего напуск газа прекращают и продолжают откачку до срыва разряда внутри изделий. В другом варианте выполнения способа в отличие от первого напуск рабочего газа регулируют до появления стационарного СВЧ-разряда в объеме резонатора, затем напуск газа прекращают и продолжают откачку до срыва разряда внутри вакуумируемого объема. Изобретение является экономичным и простым. 2 н.з.п. ф-лы, 1 ил.

2332268
патент выдан:
опубликован: 27.08.2008
СПОСОБ ИЗМЕРЕНИЯ ИЗМЕНЕНИЯ ПАРЦИАЛЬНЫХ ДАВЛЕНИЙ ГАЗОВ В МОЩНОМ ЭЛЕКТРОВАКУУМНОМ ПРИБОРЕ

Изобретение относится к электронной технике, а конкретно к способам изготовления мощных электровакуумных приборов (ЭВП). Техническим результатом является упрощение способа измерения парциальных давлений газов в мощном электровакуумном приборе, а также обеспечение возможности исследования процессов, происходящих в его вакуумном объеме. Способ включает возбуждение анализируемых газов путем импульсного энергетического воздействия на электроды. Длительность импульсного энергетического воздействия выбирают меньше, чем время пролета любого из анализируемых газов к манометрическому преобразователю, но больше, чем минимальное время возбуждения любого из анализируемых газов. В качестве манометрического преобразователя используют встроенный в ЭВП магнитный электроразрядный насос. В процессе измерения снимают ступенчатую кривую нарастания тока насоса, определяют количество ступеней k на этой кривой. Используя особенности нарастания тока определяют возрастающую последовательность всех значений tn - времени, прошедшего от момента импульсного энергетического воздействия до середины фронта нарастания n-ой ступени, где n=1, ..., k,. На основе этих данных определяют массовые числа газов, выделяющихся в объем электровакуумного прибора, и изменение их парциальных давлений. 2 н. и 2 з.п. ф-лы, 2 ил., 1 табл.

2306551
патент выдан:
опубликован: 20.09.2007
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ИНДИКАТОРНОЙ ПАНЕЛИ ПЕРЕМЕННОГО ТОКА

Изобретение относится к области газоразрядной техники и может быть использовано в производстве газоразрядных индикаторных панелей (ГИП) переменного тока. Создание ГИП переменного тока с диэлектрическим покрытием электродов высокого качества обеспечивается за счет того, что в процессе ее изготовления перед установкой штенгеля на диэлектрической пластине с откачным отверстием на внутреннюю поверхность штенгеля в промежутке между местом его отпаивания от ваккумной системы и верхним краем слоя герметика, соединяющего штенгель с диэлектрической пластиной, наносят слой тугоплавкого материала.

2285974
патент выдан:
опубликован: 20.10.2006
СПОСОБ ИЗВЛЕЧЕНИЯ РТУТИ ИЗ РТУТНЫХ ЛАМП И ИЗДЕЛИЙ, СОДЕРЖАЩИХ РТУТЬ ИЛИ ПАРЫ РТУТИ

Изобретение относится к электротехнической промышленности, в частности к способам извлечения ртути из ртутных ламп. Техническим результатом предложенного изобретения является снижение опасности отравления и загрязнения окружающей среды парами ртути и повышение качества извлечения ртути из ртутных ламп, что достигается за счет того, что разгерметизацию ламп и сбор ртути в специальном резервуаре проводят после охлаждения лампы в жидком азоте до температуры лежащей ниже температуры кристаллизации ртути в течение 1-3 мин.
2231856
патент выдан:
опубликован: 27.06.2004
СПОСОБ ОТКАЧКИ И НАПОЛНЕНИЯ ПРИБОРА ГАЗОМ

Изобретение относится к электротехнической промышленности и может быть использовано в технологии изготовления газонаполненных приборов, в частности водородных тиратронов, плазменно-пучковых СВЧ-приборов, гироскопов и лазеров. Сущность изобретения состоит в том, что способ откачки и наполнения прибора газом содержит откачку и прогрев прибора, включающего несколько газопоглотителей, напуск газа в прибор и его герметизацию, и отличается тем, что в начале откачки и наполнения прибора газом в откачной системе устанавливают стационарный поток газа, соответствующий стационарному давлению Рс газа в приборе, в процессе откачки и прогрева выдерживают до стабилизации давления в приборе на уровне Рс и герметизируют прибор, причем значение стационарного давления газа Рс и температуру газопоглотителей выбирают из условия установления термодинамического равновесия поглотитель - газ в приборе при заданных концентрациях газа в газопоглотителях или заданном общем количестве поглощенного в приборе газа. Совмещение общего прогрева прибора при откачке с операцией наполнения прибора газом обеспечивает снижение трудоемкости процесса откачки и наполнения прибора газом при большом количестве напускаемого газа, что является техническим результатом предложенного способа. 2 з.п.ф-лы, 1 ил.
2195041
патент выдан:
опубликован: 20.12.2002
СПОСОБ ОТКАЧКИ ЭЛЕКТРОВАКУУМНЫХ ПРИБОРОВ

Изобретение относится к электротехнической промышленности и может быть использовано в технологии откачки мощных электровакуумных приборов, в частности с вторично-эмиссионными холодными (безнакальными) катодами. Сущность изобретения состоит в том, что способ откачки электровакуумных приборов с вторично-эмиссионным холодным катодом содержит предварительную откачку электровакуумного прибора на откачном посту с термическим обезгаживанием, предварительную герметизацию, обработку на тренировочном стенде с помощью магнитного электроразрядного насоса и окончательную герметизацию, причем в процессе предварительной откачки электровакуумный прибор наполняют рабочим газом, обработку на тренировочном стенде осуществляют при давлении рабочего газа и в электромагнитном режиме включения электровакуумного прибора, обеспечивающими температуру катода 0,7-1,1 от номинальной, а окончательную герметизацию проводят после повторной откачки на откачном посту. В качестве рабочего газа используют водород с примесью кислорода не более 10-7 ат.%. Давление рабочего газа при обработке на тренировочном стенде регулируют за счет изменения мощности магнитного электроразрядного насоса. Температуру катода при обработке на тренировочном стенде регулируют за счет изменения мощности газового разряда в промежутке анод-катод путем изменения анодного напряжения или тока. Окончательную герметизацию электровакуумного прибора проводят после обработки на тренировочном стенде одновременно с удалением магнитного электроразрядного насоса. Технический результат предложенного способа заключается в повышении процента выхода годных изделий. 4 з.п.ф-лы.
2185676
патент выдан:
опубликован: 20.07.2002
СПОСОБ ВАКУУМНОЙ ОБРАБОТКИ МАЛОГАБАРИТНЫХ МОНОБЛОЧНЫХ ГАЗОРАЗРЯДНЫХ ЛАЗЕРОВ

Изобретение относится к области квантовой электроники, в частности к газоразрядным лазерам. Техническим результатом является повышение срока службы малогабаритных моноблочных газоразрядных лазеров при сокращении длительности технологического цикла и экономии электроэнергии. Способ включает подсоединение лазера к вакуумному посту, откачку его до высокого вакуума, проверку конструкции на герметичность, очистку в разряде активного газа и проверку параметров лазера в смеси рабочих газов, откачку и прогрев при максимальной температуре, которую допускает конструкция лазера, наполнение лазера смесью рабочих газов и его герметизацию, в котором на лазер устанавливают устройство избирательного поглощения примесей, а в процессе прогрева лазер наполняют смесью рабочих газов давлением 13,3 - 50540 Па, выдерживают в течение 1-4 ч и затем лазер вновь откачивают до высокого вакуума. Наполнение и откачку проводят не менее 2 раз, а во время последней откачки измеряют масс-спектр остаточных газов, причем откачку производят в течение времени, необходимого для совпадения масс-спектра остаточных газов с эталонным, который измерен на вакуумном посту при отсоединенном лазере и предельно высоком для данного вакуумного поста вакууме, но не хуже 1,3310-4 Па. 2 з.п.ф-лы, 1 ил.
2155410
патент выдан:
опубликован: 27.08.2000
МОДУЛЬ И СИСТЕМА ГЕТТЕРОНАСОСА

Изобретение может быть использовано в системах сверхвысокого вакуума для производства полупроводников. Модуль геттеронасоса выполняют из геттерных дисков с осевыми отверстиями и устройства для нагрева, пропущенного через упомянутые отверстия, который служит опорой геттерным дискам. Устройства предназначены для нагрева дисков. Геттерные диски преимущественно представляют собой сплошные пористые спеченные диски, которые выполняются из геттерного материала. Титановые втулки входят в соприкосновение с устройством для нагрева. Для защиты упомянутых геттерных дисков от источника тепловой энергии, обеспечения теплоотвода внутри камеры и быстрой регенерации геттерных дисков предусматривается теплозащитный экран. В некоторых вариантах осуществления настоящего изобретения теплозащитные экраны выполняются неподвижными. В других вариантах могут быть предусмотрены подвижные теплозащитные экраны. В одном из вариантов осуществления настоящего изобретения предусматривается фокусирующий экран для отражения тепловой энергии от внешнего нагревательного элемента на упомянутый геттерный материал с целью обеспечения высоких скоростей. Кроме того, в качестве одного из вариантов осуществления настоящего изобретения может предусматриваться вращающийся геттерный элемент для повышения коэффициента использования геттерного материала. Такое выполнение позволяет адаптировать геттеронасос к процессу откачки давления из рабочих камер "по месту" согласно терминологии производства полупроводников. 10 с. и 56 з.п. ф-лы, 17 ил.
2138686
патент выдан:
опубликован: 27.09.1999
СПОСОБ СОЗДАНИЯ И ПОДДЕРЖАНИЯ В ПРИБОРЕ АВТОЭЛЕКТРОННОГО ЭМИТТЕРА (ПАЭЭ) УПРАВЛЯЕМОЙ ГАЗОВОЙ СРЕДЫ И СПОСОБ ВВЕДЕНИЯ ВОДОРОДА В ПАЭЭ

Использование: в дисплеях для телевизионных экранов. Описан способ создания и поддержания управляемой газовой среды в ПАЭЭ, по существу не имеющей окисляющих газов и содержащей водород под давлением 10-7 - 10-3 мбар (10-5 - 10-1 Па), который содержит в себе этап расположения внутри ПАЭЭ перед его спекаемым уплотнением, газопоглотительного материала, ранее заряженного водородным газом. После этого производят спекаемое уплотнение образующих ПАЭЭ двух частей, по их периметру и сам ПАЭЭ откачивают во время этой операции или позже через соответственным образом расположенный хвост, который после откачивания герметически закрывают посредством "отпая". Газопоглотительный материал заряжают посредством воздействия на него водородом под давлением 10-4 - 2 бар (10 - 2105 Па). Технический результат - создание внутри ПАЭЭ среды, оптимальной для его работы. 2 c. и 8 з.п. ф-лы, 7 ил.
2133995
патент выдан:
опубликован: 27.07.1999
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ИНДИКАТОРНОЙ ПАНЕЛИ ПЕРЕМЕННОГО ТОКА

Изобретение относится к области электронной техники и может быть использовано, в частности, при изготовлении газоразрядных индикаторных панелей (ГИП) переменного тока, предназначенных для отображения знаковой, графической и образной информации. Высокая чистота газовой смеси в ГИП переменного тока обеспечивается за счет предварительного охлаждения до температуры в пределах от 243 К до температуры кипения одного из компонентов газовой смеси, имеющей максимальное значение. Технический результат: создание ГИП с газовым наполнением высокой чиcтоты. 1 табл.
2133065
патент выдан:
опубликован: 10.07.1999
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ГАЗОРАЗРЯДНОЙ ИНДИКАТОРНОЙ ПАНЕЛИ ПЕРЕМЕННОГО ТОКА

Изобретение относится к газоразрядной технике и может быть использовано при изготовлении газоразрядных индикаторных панелей (ГИП). Высокая чистота очистки арматуры панели обеспечивается за счет проведения перед термообработкой при температуре обезгаживания, равной 330 - 400oC, термообработки при t = 150 - 400oC и обработки покрытия газовым разрядом в инертной газовой среде с операциями откачки, проводимыми после или во время проведения обработок. Технический результат заключается в создании ГИП с низким уровнем напряжения зажигания разряда за счет качества очистки от загрязнений.
2132582
патент выдан:
опубликован: 27.06.1999
ГАЗОРАЗРЯДНАЯ ИНДИКАТОРНАЯ ПАНЕЛЬ

Использование: изобретение относится к электронной технике и может быть использовано при разработке средств отображения информации на газоразрядных индикаторных панелях. Сущность изобретения: в конструкции панели за счет выполнения на внутренней поверхности пластины вокруг отверстия для откачки диэлектрического барьера с определенными параметрами исключено загрязнение ячеек, расположенных вокруг откачного отверстия, отравляющими веществами и тем самым стабилизированы из рабочие напряжения. 1 ил.
2103761
патент выдан:
опубликован: 27.01.1998
СПОСОБ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ПОВЕРХНОСТИ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Сущность изобретения: способ плазменной обработки поверхности заключается в том, что используют по крайней мере два рабочих газа, вступающих в химическое взаимодействие при комнатной температуре, которые подают к обрабатываемой поверхности автономными потоками. Устройство для плазменной обработки поверхности содержит узел ввода рабочих газов, выполненный в виде корпуса, полость которого разделена на секции, число которых равно числу используемых газов. Каждая секция имеет входное отверстие и снабжена множеством каналов с выходными отверстиями, ориентированными к обрабатываемой поверхности и распределенными по заданному закону. 2 с. и 8 з.п. ф-лы, 1 ил.
2094960
патент выдан:
опубликован: 27.10.1997
СПОСОБ ЭЛЕКТРОВАКУУМНОЙ ОБРАБОТКИ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ТРУБКИ

Использование: в электронных вакуумных приборах при электровакуумной обработке электронно-лучевых трубок (ЭЛТ). Сущность изобретения: при электровакуумной обработке ЭЛТ откачивают, обезгаживают, активируют катод и отпаивают. Затем распыляют газопоглотитель, производят высоковольтный прожиг и тренируют ЭЛТ с перегревом катода и расфокусировкой электронного пятна. На начальном этапе тренировки производят засветку экрана сфокусированным электронным пучком величиной путем подачи номинальных ускоряющих напряжений. Время засветки экрана определяется из соотношения, указанного в формуле. 1 табл.
2026585
патент выдан:
опубликован: 09.01.1995
СПОСОБ ЭЛЕКТРОВАКУУМНОЙ ОБРАБОТКИ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВЫХ ТРУБОК

Использование: в электровакуумной технике, в частности в производстве электронно-лучевых трубок (ЭЛТ). Способ электровакуумной обработки ЭЛТ включает откачку, обезгаживание газопоглотителя в процессе откачки, активировку катода и электроотпай. Обезгаживание газопоглотителя производят циклически с поддержанием температуры нагрева газопоглотителя и контроля давления остаточных газов в системе, а длительность циклов нагрева и откачки выделяющих газов устанавливается по давлению остаточных газов, равному P 2,010-2 мм рт.ст. 1 ил.
2024096
патент выдан:
опубликован: 30.11.1994
УСТРОЙСТВО ДЛЯ СБОРА И ОЧИСТКИ КСЕНОНА ИЗ ПЕЧИ

Сущность изобретения: в печь, содержащую две последовательно соединенные трубопроводом низкотемпературные ловушки, первый трубопровод, подключенный к входу печи и входу первой ловушки, второй трубопровод, подключенный к выходу второй ловушки и источнику ксенона, вакуумный насос для откачки печи, два сосуда для хладагента, каждый из которых установлен соосно ловушкам с возможностью вертикального перемещения в сторону ловушек, введены перфорированные перегородки, размещенные в каждой ловушке, и дополнительный трубопровод, соединенный с вторым трубопроводом и вакуумным насосом. 3 ил.
2017257
патент выдан:
опубликован: 30.07.1994
СПОСОБ ОЧИСТКИ ЭЛЕКТРОННОГО ПРОЖЕКТОРА В ВАКУУМНОЙ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ТРУБКЕ

Способ очистки электронных прожекторов в вакуумной электронно-лучевой трубке включает в себя приложение очистного напряжения между по крайней мере одним анодом и первым фокусирующим электродом, при этом остальные прожекторные элементы, включающие в себя подогреватель, катод, управляющий электрод, по крайней мере один экранирующий электрод и второй фокусирующий электрод, электрически плавают. 5 ил.
2010378
патент выдан:
опубликован: 30.03.1994
Наверх