Оптические элементы, отличающиеся по материалу: ..поверхностной обработкой, например облучением – G02B 1/12

Способ состоит в том, что излучение лазера, сфокусированное на поверхности фоточувствительного слоя, модифицируют по глубине пропорционально плотности мощности излучения, распространяющегося в фоточувствительном слое. Перед входом в фокусирующий объектив излучение лазера коллимируют в параллельный пучок диаметром менее входной апертуры упомянутого объектива и смещают параллельно оптической оси на величину, при которой одна из образующих продольного сечения экспонирующего конуса излучения в слое фоторезиста становится параллельной оптической оси фокусирующего объектива. Во втором варианте дополнительно в промежуток между выходной линзой фокусирующего объектива и поверхностью фоточувствительного слоя вводят иммерсионную жидкость. Технический результат - повышение дифракционной эффективности киноформных линз за счет снижения потерь на обратных скатах зон путем увеличения крутизны скатов, формируемых непосредственно в ходе прямой лазерной записи. 2 н.п. ф-лы, 4 ил., 1 табл.

Изобретение относится к системе ионной пушки, устройству парофазного осаждения и способу формирования многослойной просветляющей пленки на линзе. Система (60) ионной пушки содержит ионную пушку (14) для испускания пучка ионов; блок (61) электропитания для подачи электроэнергии на ионную пушку; два регулятора (64, 65) массового расхода для введения каждого из двух типов газов в ионную пушку; блок (12) управления, соединенный с блоком электропитания и работающий в качестве средства управления ионной пушкой для управления электроэнергией, подаваемой на ионную пушку из блока электропитания; и блок (12) управления, соединенный с регуляторами массового расхода и работающий в качестве средства управления массовым расходом для управления расходом газа, вводимого в ионную пушку из регуляторов массового расхода, при этом блок (12) управления в качестве средства управления массовым расходом снабжен такой функцией, что заданное значение для расхода каждого из двух типов вводимых газов пошагово изменяется в пределах диапазона устойчивой работы ионной пушки и реализуется изменение на другое заданное значение. В результате достигается сокращение времени формирования пленки. 3 н. и 24 з.п. ф-лы, 5 ил., 1 табл., 2 пр.

Изобретение относится к технологии микро- и оптоэлектроники. Сущность изобретения: в способе формирования плоской гладкой поверхности твердотельного материала на подложке твердотельного материала формируют лунку, с участками поверхности, отклоненными в диаметрально противоположных направлениях, обеспечивающими противоположную направленность фронтов атомных ступеней. Проводят термоэлектрический отжиг, пропуская электрический ток величиной, вызывающей резистивный нагрев материала подложки до температуры активируемой сублимации атомов верхнего атомного слоя с передвижением по поверхности моноатомных ступеней. При отжиге очищают рабочую поверхность от естественного окисла, загрязнений. Затем проводят основной этап или основной и дополнительный этапы термоэлектрического отжига в вакууме с уровнем 10^-8 Па. Ток пропускают параллельно рабочей поверхности подложки, в течение промежутка времени и при температурном режиме, формирующими по периферии внутренней части лунки скопление моноатомных ступеней с высокой плотностью, с появлением равномерно распределенных по периферии внутренней части лунки одиночных концентрических моноатомных ступеней, разделенных сингулярной террасой. Подачу электрического тока прекращают и снижают температуру подложки. В результате обеспечивается получение атомно-гладких поверхностей, снижение шероховатости до 0,4 ангстрема, управление размером плоской гладкой поверхности, ее увеличение в поперечнике до значения от 100 до 300 мкм. 8 з.п. ф-лы, 3 ил.

Изобретение может быть использовано при производстве дифракционных оптических линз (ДОЛ). Киноформный профиль на рабочей поверхности линзы изготавливают путем удаления материала линзы посредством ионного травления с образованием концентрических зон. Удаляют слои материала линзы равной толщины последовательно, начиная с зоны с наименьшим радиусом при положительной оптической силе киноформного элемента, и начиная с зоны с наибольшим радиусом - при его отрицательной оптической силе. Толщину удаляемого слоя материала определяют из соотношения

где - толщина удаляемого слоя материала линзы; n - показатель преломления материала линзы; ₀ - основная длина волны спектрального рабочего диапазона линзы. Радиусы концентрических ступенчатых зон определяют из соотношения: W(r_i)=i ₀, где r_i - радиус i-ой концентрической ступенчатой зоны; W - разность фаз оптического излучения с длиной волны ₀, вносимая киноформным профилем на рабочей поверхности линзы. Технический результат - повышение дифракционной эффективности ДОЛ с киноформным профилем. 2 ил.

Способ предназначен для коррекции аберраций путем создания градиента показателя преломления в оптических элементах из стекла. При реализации способа в несветочувствительном стекле предварительно изготавливается приповерхностный светочувствительный слой, в котором путем воздействия УФ-облучением с экспозицией, соответствующей расчетному градиенту, и ослабленным прохождением материала стекла оптического элемента, образуется переменная по концентрации кристаллическая фаза, которая используется в качестве кристаллической маски с переменной диффузионной прозрачностью, через которую осуществляют ионный обмен из расплава солей. Технический результат - обеспечение получения в стекле заранее расчитанного градиента показателя преломления для коррекции аберраций. 3 ил.