Монокристаллы или гомогенный поликристаллический материал с определенной структурой, отличающиеся материалом или формой: ....с формулой BMe2O4, где B - Mg, Ni, Co, Al, Zn или Cd, а Me - Fe, Ga, Sc, Cr, Co или Al – C30B 29/26

МПКРаздел CC30C30BC30B 29/00C30B 29/26
Раздел C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
C30 Выращивание кристаллов
C30B Выращивание монокристаллов; направленная кристаллизация эвтектик или направленное расслаивание эвтектоидов; очистка материалов зонной плавкой; получение гомогенного поликристаллического материала с определенной структурой; монокристаллы или гомогенный поликристаллический материал с определенной структурой; последующая обработка монокристаллов или гомогенного поликристаллического материала с определенной структурой; устройства для вышеуказанных целей
C30B 29/00 Монокристаллы или гомогенный поликристаллический материал с определенной структурой, отличающиеся материалом или формой
C30B 29/26 ....с формулой BMe2O4, где B - Mg, Ni, Co, Al, Zn или Cd, а Me - Fe, Ga, Sc, Cr, Co или Al

Патенты в данной категории

ИЗДЕЛИЯ ИЗ ШПИНЕЛИ

Изобретение относится к технологии производства изделий, имеющих шпинельную кристаллическую структуру, таких как пластины, подложки и активные устройства, в которые они входят. В соответствии с одним из вариантов монокристаллическая шпинельная пластина получена обработкой расплава и имеет нестехиометрический состав, определяемый общей формулой aAD·bE2О 3, в которой А выбирают из группы, в которую входят Mg, Са, Zn, Mn, Ва, Sr, Cd, Fe, а также их комбинации, Е выбирают из группы, в которую входят Al, In, Cr, Sc, Lu, Fe, а также их комбинации, a D выбирают из группы, в которую входят О, S, Se, а также их комбинации, причем отношение b:а>2,5:1, так что шпинель обогащена E2D3 . Кроме того, раскрыт монокристаллический шпинельный материал, имеющий нестехиометрическую композицию и имеющий окно прозрачности в диапазоне длин волн от 400 до 800 нм. Такие изделия имеют пониженные механические напряжения, что позволяет обеспечить повышенный выход годных изделий. 4 н. и 28 з.п. ф-лы, 6 табл., 14 ил.

2336372
патент выдан:
опубликован: 20.10.2008
МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКАЯ ШПИНЕЛЬНАЯ ПЛАСТИНА

Изобретение относится к производству изделий, имеющих шпинельную структуру, таких как були, пластины, подложки и т.д. Монокристаллическая шпинельная пластина имеет лицевую и обратную стороны, <111> кристаллографическую ориентацию и внешний периметр, имеющий первую и вторую грани, причем первая грань обозначает направление плоскости спайности пластины, которая проходит через переднюю поверхность геометрического места точек, простирающегося вдоль линии, которая параллельна первой грани, и вторая грань обозначает направление разлома плоскости спайности, при этом пластина выполнена из композиции в соответствии с общей формулой aAD bE2D3, в которой А выбирают из группы, в которую входят Mg, Ca, Zn, Mn, Ba, Sr, Cd, Fe, а также их комбинации, Е выбирают из группы, в которую входят Al, In, Cr, Sc, Lu, Fe, a также их комбинации, и D выбирают из группы, в которую входят О, S, Se, a также их комбинации. Буля и полученные из нее пластины состоят главным образом из единственной шпинельной фазы, без вторичных фаз и не содержат загрязнений и легирующих примесей, то есть обладают улучшенными технологическими характеристиками. Кроме того, изобретение обеспечивает повышенную степень выхода готовых изделий, а увеличение размера пластин снижает стоимость обработки при изготовлении полупроводниковых изделий. 17 з.п. ф-лы, 1 табл., 12 ил.

2335582
патент выдан:
опубликован: 10.10.2008
СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ МОНОКРИСТАЛЛИЧЕСКИХ ШПИНЕЛЬНЫХ ПЛАСТИН (ВАРИАНТЫ)

Изобретение относится к производству изделий, имеющих шпинельную кристаллическую структуру, в том числе таких изделий как були, пластины и подложки, а также к созданию активных устройств, в которые они входят. В соответствии с одним из вариантов способ изготовления монокристаллических шпинельных пластин включает следующие операции: получение порции расплава в тигле; образование шпинельной монокристаллической були из расплава при технологическом коэффициенте формы, определяемом как отношение среднего диаметра були к внутреннему диаметру тигля, составляющем ориентировочно не меньше чем 0.44, причем буля имеет общую формулу aAD.bE 2D3, в которой А выбирают из группы, в которую входят Mg, Ca, Zn, Mn, Ba, Sr, Cd, Fe, а также их комбинации, Е выбирают из группы, в которую входят Al, In, Cr, Sc, Lu, Fe, а также их комбинации, a D выбирают из группы, в которую входят О, S, Se, a также их комбинации, причем отношение b:а>1,5:1, так что шпинель обогащена Е2D 3 и резку були на множество пластин. Такие изделия имеют пониженные механические напряжения, что позволяет повысить степень выхода готовых изделий. 3 н. и 14 з.п. ф-лы, 1 табл., 11 ил.

2334835
патент выдан:
опубликован: 27.09.2008
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК НА ОСНОВЕ СЛОЖНЫХ ОКСИДОВ

Использование: в каталитической, сверхпроводящей, лазерной, СВЧ-технике, магнитооптике, интегральной оптике. Сущность изобретения: готовят рабочий раствор, содержащий 5 20 мас. поливинилового спирта, 0,1 5 мас. солей металлических компонентов пленки и воду и дополнительно вводят 1 20 мас. полимерного компонента из группы водорастворимых, например метилцеллюлозу или поливинилпирролидон. Рабочий раствор наносят послойно с промежуточной сушкой слоев при комнатной температуре и нагревом не менее двух слоев при 400 550°С до удаления органической компоненты. Затем проводят окончательный отжиг при 600 960°С. Введение дополнительного полимерного компонента, имеющего код температурной зависимости относительных линейных размеров, противоположный поливиниловому спирту, приводит к тому, что в процессе нагрева пленка деформируется незначительно, в ней уменьшаются механические напряжения, чем предотвращается ее разрушение. 1 табл.
2048618
патент выдан:
опубликован: 20.11.1995
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ПЛЕНОК НА ОСНОВЕ СЛОЖНЫХ ОКСИДОВ

Использование: в каталитической, сверхпроводящей, лазерной, СВЧ-технике, магнитооптике, интегральной оптике. Сущность изобретения: готовят рабочий растовор, содержащий следующие компоненты, мас. соли металлических компонентов в пересчете на металлы 0,1 5; поливиниловый спирт 5 20; поливинилпирролидон 1 20; вода остальное. Перед нанесением рабочего раствора обрабатывают подложку в 5 30%-ном водном растворе аммиака при 60 100°С в течение 10 60 мин. Затем ее промывают 5 - 15 мин в воде и сушат до полного удаления влаги при 20 40°С. Рабочий раствор наносят на обработанную подложку послойно с промежуточной сушкой каждого слоя при комнатной температуре и нагревом не менее двух слоев до удаления органической компоненты. Окончательный отжиг проводят при 600 960°С. Введение поливинилпирролидона повышает адгезию пленок к подложке и подавляет кристаллизацию солей за счет комплексообразования, что повышает химическую однородность пленок. Обработка подложек в аммиаке дает дополнительное увеличение адгезии пленок за счет адсорбции на поверхности подложек гидроксильных групп. 1 табл.
2048617
патент выдан:
опубликован: 20.11.1995
СПОСОБ ВЫРАЩИВАНИЯ МОНОКРИСТАЛЛОВ ХРИЗОБЕРИЛЛА, АКТИВИРОВАННЫХ ИОНАМИ ТРЕХВАЛЕНТНОГО ТИТАНА

Использование: получение кристаллов для изготовления лазерных элементов, ювелирных вставок. Сущность изобретения монокристаллы выращивают методом Чохральского. Затравливание ведут в инертной атмосфере, после чего вводят в атмосферу водород и продолжают вытягивание. Увеличивают концентрацию трехвалентного титана в хризоберилле до 1,5 ат.%.
2038433
патент выдан:
опубликован: 27.06.1995
Наверх