Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие: ...на другие неорганические подложки – C23C 14/18

МПКРаздел CC23C23CC23C 14/00C23C 14/18
Раздел C ХИМИЯ; МЕТАЛЛУРГИЯ
C23 Покрытие металлических материалов; покрытие других материалов металлическим материалом; химическая обработка поверхности; диффузионная обработка металлического материала; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще; способы предотвращения коррозии металлического материала, образования накипи или корок вообще
C23C Покрытие металлического материала; покрытие других материалов металлическим материалом; поверхностная обработка металлического материала диффузией в поверхность путем химического превращения или замещения; способы покрытия вакуумным испарением, распылением, ионным внедрением или химическим осаждением паров вообще
C23C 14/00 Покрытие вакуумным испарением, распылением металлов или ионным внедрением материала, образующего покрытие
C23C 14/18 ...на другие неорганические подложки

Патенты в данной категории

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ИЗДЕЛИЙ ИЗ КОМПОЗИЦИОННЫХ МАТЕРИАЛОВ И УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЕГО ОСУЩЕСТВЛЕНИЯ

Изобретение относится к производству изделий из композиционных материалов (КМ) с металлической и карбидно-металлической матрицами, а также из керметов. Технический результат - повышение степени и равномерности металлирования, а также повышение степени воспроизводимости результатов металлирования изделий, в том числе крупногабаритных, без существенной деградации свойств пропитываемого пористого материала. Получают заготовку из пористого термостойкого материала, размещают заготовку и тигли с металлом в замкнутом объеме реторты, нагревают, выдерживают и охлаждают в вакууме в парах металла. Тигли с металлом на стадии нагрева и/или охлаждения заготовки нагревают до более высокой температуры, чем температура заготовки; при этом выдержку заготовки производят при температуре, не превышающей температуру реиспарения металла из пор материала. Устройство для металлирования содержит нагреватель или систему нагревателей, расположенных вокруг наружной реторты, внутреннюю реторту замкнутого объема с размещенными внутри нее металлируемыми изделиями и тиглями с металлом, реактор проточного типа, теплоизоляцию из пористых углеграфитовых материалов и пневмо-газо-вакуумную систему. Наружная и внутренняя реторты выполнены из нескольких по высоте частей и расположены коаксиально друг к другу с зазором, а наружная реторта снабжена патрубками для соединения межретортного зазора с пневмо-газо-вакуумной системой. Данное устройство дополнительно содержит донный нагреватель, или расположенные вокруг наружной реторты нагреватели имеют в нижней части более высокотемпературную зону, расположенную напротив нижних частей наружной и внутренней реторты, где находятся тигли с металлом. 2 н. и 2 з.п. ф-лы, 1 табл., 1 ил.

2490238
патент выдан:
опубликован: 20.08.2013
РЕЖУЩАЯ ПЛАСТИНА С КЕРАМИЧЕСКИМ ПОКРЫТИЕМ

Изобретение относится к улучшенным системам покрытия, в частности к новым толстым покрытиям и способам их выполнения для получения режущих инструментов. Режущая пластина с многослойным керамическим покрытием, осажденным на ней по технологии CVD, содержит чередующиеся слои -Al2O3 с промежуточными слоями, адгезивно прикрепленными к слоям -Al2O3, причем промежуточные слои выполнены из материала, выбранного из группы, состоящей из TiAlON, TiAlOC и TiAlCON. Получаются режущие инструменты с улучшенными свойствами: с высокой вязкостью и низкой склонностью как к образованию трещин, так и к отслаиванию. 2 н. и 17 з.п. ф-лы, 4 пр., 3 ил., 1 табл.

2456126
патент выдан:
опубликован: 20.07.2012
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ НА ДИЭЛЕКТРИКИ В РАЗРЯДЕ

Изобретение относится к электротермическому машиностроению, а именно к вакуумным установкам для нанесения покрытий в разряде. Изобретение может быть использовано в машиностроении, автостроении и химической промышленности. Устройство содержит вакуумную камеру, электродуговой испаритель, подложку для размещения детали, соединенную с отрицательной клеммой источника питания, и размещенный на подложке изолятор с установленным на нем защитным корпусом и электрически изолированным экраном, расположенным между электродуговым испарителем и защитным корпусом. При этом экран выполнен в виде чередующихся прозрачных и непрозрачных концентрических колец. Внешние радиусы этих колец Rm соответствуют зонам Френеля и определяются по формуле , где а - расстояние от испарителя до электрически изолированного экрана, b - расстояние от электрически изолированного экрана до обрабатываемой детали, m - порядковый номер концентрического кольца, соответствующего зоне Френеля, - длина волны де Бройля иона осаждаемого покрытия. Диаметр электрически изолированного экрана равен максимальному геометрическому размеру проекции детали на подложку. Технический результат - повышение адгезии, плотности и прочности осаждаемого на диэлектрик покрытия. 2 з.п. ф-лы, 2 ил.

2453628
патент выдан:
опубликован: 20.06.2012
ПОДЛОЖКА С АНТИМИКРОБНЫМИ СВОЙСТВАМИ

Изобретение относится к стеклоподобной или металлической подложке, обладающей антимикробными свойствами, а также к способу ее получения. Способ включает стадию осаждения не образующего геля слоя, содержащего неорганическое антимикробное средство, полученное из предшественника, в форме металла, коллоида, хелата или иона по меньшей мере на одну из поверхностей подложки; осаждение верхнего покрытия и стадию диффузии средства в указанное верхнее покрытие при термической обработке при температуре 200-750°С. В качестве варианта подложка может быть покрыта подслоем, причем диффузия происходит либо в подслой или в верхнее покрытие. Количество осажденного антимикробного средства на подложке составляет более 5 мг/м. Описаны также антимикробные свойства стеклянных и металлических подложек. В частности, подложка обладает бактерицидной активностью, измеренной в соответствии с требованиями стандарта JIS Z 2801, выше 2 log. Технический результат изобретения - получение подложки с антимикробными свойствами, которая легко используется и производство которой является недорогим. 2 н. и 18 з.п. ф-лы, 6 ил., 3 табл.

2423328
патент выдан:
опубликован: 10.07.2011
СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ МОДИФИЦИРОВАННОГО ПОВЕРХНОСТНОГО СЛОЯ В НИКЕЛИДЕ ТИТАНА В КРУПНОЗЕРНИСТОМ И НАНОСТРУКТУРНОМ СОСТОЯНИИ

Изобретение относится к металлургии, в частности к радиационному материаловедению. Способ получения модифицированного поверхностного слоя в никелиде титана с эффектом памяти формы включает предварительный подогрев никелида титана, ионную имплантацию, которую осуществляют ионами никеля, хрома, кобальта и меди, с получением толщины модифицированного поверхностного слоя глубиной 300-500 нм. При ионной имплантации никелида титана с эффектом памяти формы в крупнозернистом состоянии предварительный подогрев проводят до температуры в диапазоне 200-350°С. При ионной имплантации никелида титана с эффектом памяти формы в наноструктурном состоянии предварительный подогрев проводят до температуры в диапазоне 150-200°С. Обеспечивается улучшение механических характеристик и коррозионной стойкости никелида титана при сохранении у него эффекта памяти формы. 2 з.п. ф-лы, 1 ил., 1 табл.

2419681
патент выдан:
опубликован: 27.05.2011
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ НА ИЗДЕЛИЯ ИЗ КЕРАМИКИ В ВАКУУМЕ

Изобретение относится к области получения металлических покрытий методом магнетронного и дугового вакуумного распыления материала катода и может быть использовано для получения токопроводящих, защитных, износостойких покрытий на изделиях из керамики. Способ включает размещение изделий в рабочей камере, ее вакуумирование, предварительную плазменную обработку изделий путем ионной очистки изделий аргоном и воздействие на изделия плазмой газа, содержащего окислитель, и распыление катода из металла. Предварительную плазменную обработку изделий проводят в течение 1-14 минут, при этом при воздействии на изделие плазмой газа, содержащего окислитель, на поверхности изделия формируют мономолекулярный слой химического соединения из элементов материала основы и активных элементов газовой плазмы. После предварительной плазменной обработки в рабочей камере создают разрежение до остаточного давления 10 -3 Па, а для распыления используют катод, выполненный из металла с удельным сопротивлением не выше 16 мкОм×см. Получаются равномерные по толщине металлические покрытия, повышается адгезия покрытия на поверхности изделия. 5 з.п. ф-лы.

2407820
патент выдан:
опубликован: 27.12.2010
ПРОСВЕТЛЯЮЩЕЕ ПОКРЫТИЕ ДЛЯ ЛИНЗ, ИМЕЮЩЕЕ МАЛЫЕ ВНУТРЕННИЕ НАПРЯЖЕНИЯ И УЛЬТРАНИЗКУЮ ОСТАТОЧНУЮ ОТРАЖАЮЩУЮ СПОСОБНОСТЬ

Изобретение относится к отражающим покрытиям для оптических линз, в частности к композициям для формирования просветляющих покрытий. Размещают оптические линзы и одну контрольную оптическую линзу на одной и той же поверхности напыления в вакуумной камере напыления, содержащей взаимодействующее с указанной контрольной оптической линзой устройство непрерывного оптического контроля и источник с композицией для просветляющего покрытия. Сначала напыляют слой композиции с высоким коэффициентом преломления, представляющей собой смесь оксидов церия и титана с долей оксида церия меньше, чем приблизительно 25% общей массы композиции. Затем напыляют слой с низким коэффициентом преломления, содержащий оксид кремния, например смесь оксидов кремния и алюминия с долей оксида алюминия меньше, чем приблизительно 10% общей массы композиции. Посредством устройства непрерывного оптического контроля определяют момент достижения требуемой оптической толщины просветляющего покрытия и осуществляют регулирование луча света таким образом, чтобы соотношение интенсивностей синей, зеленой и красной компонент отраженного света обеспечивало практически белое отражение. Получают оптические изделия с покрытием, имеющим малую отражательную способность, практически не окрашивающим отраженный свет и обладающим малыми внутренними напряжениями. 6 н. и 7 з.п. ф-лы, 3 ил.

2324763
патент выдан:
опубликован: 20.05.2008
СПОСОБ ФОРМИРОВАНИЯ ТЕПЛООТРАЖАЮЩЕГО ПОКРЫТИЯ НА СТЕКЛЕ

Изобретение относится к способам нанесения теплоотражающих покрытий на стекло напылением в вакууме. Сущность изобретения: стекло предварительно очищают, а теплоотражающее покрытие наносят путем напыления в вакууме, совмещая процесс напыления с ионной обработкой. Покрытие напыляют состоящим из трех слоев, а именно буферного, отражающего и защитного. Для нанесения покрытия используют дуговое или магнетронное напыление. Покрытие, получаемое по предлагаемому изобретению, обладает химической стойкостью и износостойкостью, а также адгезионной прочностью. Поэтому стекла с таким теплоотражающим покрытием возможно использовать для остекления жилых и производственных зданий как в стеклопакетах, так и в обычных рамах. 6 з.п. ф-лы, 2 табл.
2165998
патент выдан:
опубликован: 27.04.2001
СПОСОБ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЯ НА АЛМАЗЫ

Способ нанесения покрытия на алмазы осуществляется распылением материала покрытия в вакуумной камере при температурах, нижний предел которых ограничен температурой максимума десорбции адсорбционного слоя с поверхности алмаза, а верхний - температурой начала химического взаимодействия материала покрытия с алмазом. 1 з.п. ф-лы, 3 табл., 5 ил.
2090648
патент выдан:
опубликован: 20.09.1997
ЭКЗОТЕРМИЧЕСКОЕ СТЕКЛО И СПОСОБЫ ЕГО ИЗГОТОВЛЕНИЯ

Изобретение касается способа изготовления экзотермического отражающего стекла, которое может излучать тепло приблизительно при 50oC, путем покрытия стеклянной матрицы тонким слоем такого металла, как Cr, Ni, Au, Ag, Al и Cu при использовании плазменной технологии распыления, и способа изготовления экзотермического прозрачного стекла, температуру поверхности которого можно регулировать до заданного уровня путем соединения с источником энергии, после покрытия стеклянной матрицы тонким слоем прозрачного материала оксида индия-олова при использовании технологии ионного распыления, а также стекла, получаемого при использовании этих способов. 4 с. и 1 з.п. ф-лы, 1 табл., 6 ил.
2075537
патент выдан:
опубликован: 20.03.1997
УСТРОЙСТВО ДЛЯ НАНЕСЕНИЯ ПОКРЫТИЙ В РАЗРЯДЕ НА ДИЭЛЕКТРИКИ

Устройство для нанесения покрытий в разряде на диэлектрики относится к электротермическому машиностроению, в частности к вакуумным установкам для нанесения покрытий в разряде. Задачей изобретения является снижение температуры конденсации покрытий на диэлектрики в разряде, а также предотвращение повреждений обрабатываемой поверхности микродугами. Решение задачи достигается тем, что располагают электрически изолированный экран между электродуговым испарителем и обрабатываемой деталью, а деталь и подложка разделены изолятором с защитным корпусом, причем геометрические размеры и форма экрана соответствуют проекции детали на подложку. 1 ил.
2066703
патент выдан:
опубликован: 20.09.1996
Наверх