способ образования двумерного линейного электрического поля и устройство для его осуществления

Классы МПК:H01J49/00 Спектрометры элементарных частиц или разделительные трубки
Автор(ы):,
Патентообладатель(и):Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Рязанский государственный радиотехнический университет" (RU)
Приоритеты:
подача заявки:
2011-09-20
публикация патента:

Изобретение относится к области электронной и ионной оптики и масс-спектрометрии, где используется движение заряженных частиц в статических и переменных двумерных линейных электрических полях, и может быть использовано для усовершенствования конструкций и технологий изготовления устройств пространственно-временной фокусировки и масс-разделения заряженных частиц. Способ образования двумерных линейных электрических полей заключается в формировании с помощью устройства из плоских дискретных и гиперболических электродов на границах рабочей области линейного по одной координате распределений среднего значения потенциала. Причем плоские дискретные электроды состоят из равномерно распределенных по границам области тонких заземленных металлических нитей, а расположенные в каждом квадранте по одному гиперболические электроды имеют малые размеры полуосей. Под действием противоположных потенциалов на смежных гиперболических электродах в плоскостях дискретных электродов создаются линейные по одной оси распределения среднего значения потенциала, под действием которых в рабочей области образуется двумерное линейное электрическое поле. Технический результат - минимизация размеров и улучшение конструктивно-технологических параметров электродных систем для образования двумерных линейных электрических полей с протяженными вдоль одной оси рабочими областями. 2 н.п. ф-лы, 2 ил. способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178

способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178

Формула изобретения

1. Способ образования двумерного линейного электрического поля, заключающийся в создании по границам x=±xc рабочей области |x|<xc, |y|<yc параллельных оси Z плоских дискретных проводящих поверхностей с размерами 2ya, L по осям Y, Z, состоящих из совокупности распределенных по оси Y параллельных оси Z тонких проводящих нитей, отличающийся тем, что по оси Y эквипотенциальные нити распределены равномерно с шагом способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 y, причем за границами рабочей области |x|>xc располагают по одной в каждом квадранте гиперболические проводящие поверхности способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 , где |x0|<|xc|, r0 - действительная полуось гипербол, и на смежных поверхностях устанавливают противоположные потенциалы способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 0 и -способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 0.

2. Устройство для образования двумерного линейного электрического поля, содержащее по границам рабочей области x=±xc параллельные оси Z электроды длиной L>>2xc из распределенных по оси Y параллельных оси Z проводящих тонких нитей, отличающееся тем, что используют два в плоскостях х=±xc дискретных с размером ya>>xc по оси Y электрода из равномерно распределенных с шагом способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 y по оси Y эквипотенциальных нитей диаметром d<<способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 y и четыре, по одному в каждом квадранте, гиперболических электрода с действительной полуосью r0, сдвинутых попарно по оси X на расстояние ±x0, с конечными координатами x=±xa,

y=±ya , где xaспособ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 (xc+1,5r0), yaспособ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 (yc+1,5xc).

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к областям электронно-ионной оптики и масс-спектрометрии, основанных на движении заряженных частиц в статических и переменных двумерных линейных электрических полях, и может быть использовано для усовершенствования конструкции и технологии изготовления устройств пространственно-временной фокусировки и масс-разделения заряженных частиц. Гиперболические электродные системы не эффективны для создания масс-анализаторов с протяженной вдоль одной оси рабочей областью из-за значительных размеров электродов по всем координатам [1]. Задачу решают системы из плоских электродов с дискретно-линейным распределением потенциала [2], с дискретно-изменяющейся электрической прозрачностью [3] и дискретно-изменяющейся плотностью зарядов [4]. Техническая задача предлагаемого изобретения состоит в усовершенствовании конструктивно-технологических характеристик устройств образования двумерных линейных электрических полей с протяженной вдоль одной оси рабочей областью, использующих гиперболические и плоские дискретные эквипотенциальные электроды.

Двумерные линейные электрические поля в рабочей области с размерами 2x c, 2yc, L по осям X, Y, Z при условии y c>>xc можно образовывать с помощью плоских дискретных поверхностей из неэквипотенциальных проводящих элементов, распределенных по оси Y с постоянным шагом способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 y [2] или эквипотенциальных проводящих элементов, неравномерно распределенных по оси Y [3, 4]. Наиболее близким к заявленному решению является способ, описанный в [4], заключающийся в образовании линейного электрического поля с помощью эквипотенциальных элементов, неравномерно распределенных по оси Y. Однако недостатками указанных систем являются трудности конструкторско-технологического характера, которые усложнят процесс изготовления ионно-оптических устройств и анализаторов ионов с использованием плоских дискретных электродов.

Во всех случаях при использовании плоских дискретных электродов задача образования двумерных линейных в плоскости XOY электрических полей сводится к созданию на границах области x=±xc линейных вдоль оси Y распределений среднего значения потенциала:

способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178

где способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 i(y) - распределение потенциала в плоскостях x=±x c i-го дискретного элемента, способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 yi - шаг дискретности электродов, способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 mср=способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 ср(yc).

Для практической реализации ионно-оптических систем с двумерными линейными электрическими полями представляют интерес использование плоских дискретных поверхностей, образованных из равномерно распределенных по оси Y с шагом способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 y, параллельных оси Z, одинаковых эквипотенциальных проводящих элементов - нитей или полосок. Однако использование только плоских дискретных с постоянным шагом способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 y эквипотенциальных поверхностей не решает проблему образования двумерных линейных электрических полей. Задача решается с помощью дополнительных 4-х гиперболических потенциальных поверхностей, позволяющих сформировать линейные по оси Y распределения среднего значения потенциала в плоскостях x=±xc дискретных поверхностей. Гиперболические поверхности 2 располагают в области |x|>xc и на смежных поверхностях устанавливают противоположные потенциалы способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 0 и -способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 0 (Фиг.1). Наличие дискретных поверхностей 1 позволяет сместить начала координат гиперболических поверхностей 2 по оси Х на расстояние x0 для поверхностей в I и IV квадрантах и на расстояние - x0 для поверхностей во II и III квадрантах и тем самым существенно уменьшить значение их геометрического параметра r0 - действительной полуоси гипербол. Величина смещения определяется соотношением:

способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178

Гиперболические поверхности в этом случае описываются уравнением:

способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178

Под действием противоположных потенциалов способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 0 и -способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 0 на смежных гиперболических поверхностях в сечениях x=±xc формируются распределения потенциала способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 (±xc,y) - (кривая 1, Фиг.2), средние значения которых способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 ср(±xc,y) при выполнении условия (2), будут изменяться по линейному закону (кривая 2, Фиг.2):

способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178

где способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 . При этом в рабочей области |x|<xc, |y|<y c образуется поле с распределением потенциала вида:

способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178

которое соответствует двумерному линейному электрическому полю с проекциями напряженности поля на оси X и Y:

способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178

Из (5) и (6) следует, что система из 2-х плоских с постоянным шагом способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 y эквипотенциальных дискретных и 4-х гиперболических поверхностей позволяет образовывать двумерные линейные электрические поля в рабочих областях 4 |x|<xc, |yc|<y с произвольным соотношением параметров xc, yc . Причем при фиксированной длине полуосей r0 гиперболических поверхностей выбором параметров xc и способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 y размеры рабочей области по оси X могут изменяться в широких пределах.

Устройство для образования двумерного линейного электрического поля по предлагаемому в п.1 формулы изобретения способу состоит из 2-х плоских дискретных электродов 1 длиной L>>2xc и 4-х гиперболических электродов 2 длиной L>>2xc (Фиг.1). Дискретные электроды 1 с размером ya>>xc по оси Y расположены в плоскостях x=±xc и образованы из равномерно распределенных по оси Y с шагом способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 y тонких диаметром d<<способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 y параллельных оси Z эквипотенциальных нитей. Начала координат гиперболических электродов сдвинуты попарно по оси Х на расстояние ±x0 и имеют конечные координаты х=±x a, y=±ya, где xaспособ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 (xc+1.5r0), yaспособ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 (yc+1.5xc). Гиперболические электроды расположены за пределами рабочей области 4 (Фиг.1) |x|>x c по одному в каждом квадранте. Геометрический параметр r0 гиперболических электродов определяется шагом дискретности способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 y плоских электродов и их размером ya по оси Y:

способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 .

При заданных параметрах xc, yc рабочей области геометрический параметр r0 гиперболических электродов, используемых в совокупности с плоскими дискретными электродами с постоянным значением шага способ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 y, оказывается значительно меньше параметра r0 гиперболических электродов 3 (Фиг.1), создающих такое же поле в отсутствии дискретных электродов. Это позволяет в анализаторах с вытянутыми вдоль оси Y рабочими областями 4 (Фиг.1), когда yc>>xc путем минимизации значения параметра r0 гиперболических электродов в 2-2,5 раза сократить размеры электродных систем анализаторов по оси X. Размер L электродов 1 и 2 по оси Z выбирается исходя из допустимого уровня отклонения поля от линейного в рабочей области анализатора из-за краевых эффектов:

Lспособ образования двумерного линейного электрического поля и   устройство для его осуществления, патент № 2496178 4xc.

Использование в качестве плоских дискретных электродов равномерно распределенных по оси Y металлических нитей в совокупности с гиперболическими электродами упрощает конструкцию и технологию изготовления, а также снижает размеры анализаторов с двумерными линейными электрическими полями.

ЛИТЕРАТУРА

1. Гуров B.C., Мамонтов Е.В., Дягилев А.А. Электродные системы с дискретным линейным распределением высокочастотного потенциала для масс-анализаторов заряженных частиц // Масс-спектрометрия. 2007. № 4 (2). - С.139-142.

2. Патент RU № 2327245 от 03.05.2006, Способ масс-селективного анализа ионов по времени пролета и устройство для его осуществления.

3. Патент RU № 2387043 от 10.04.2008, Способ формирования линейного поля и устройство для его осуществления.

4. Патент RU № 2422939 от 25.11.2009, Способ образования двумерного линейного электрического поля и устройство для его осуществления.

Класс H01J49/00 Спектрометры элементарных частиц или разделительные трубки

создающий изображение энергетический фильтр для электрически заряженных частиц и спектроскоп с подобным энергетическим фильтром -  патент 2529463 (27.09.2014)
способ масс-спектрометрического анализа газовой пробы в тлеющем разряде и устройство для его осуществления -  патент 2529009 (27.09.2014)
трубка для измерения подвижности ионов -  патент 2518055 (10.06.2014)
ионный источник тлеющего разряда с повышенной светосилой -  патент 2504859 (20.01.2014)
времяпролетный масс-спектрометр с нелинейным отражателем -  патент 2504045 (10.01.2014)
циклический масс-спектрометр газовых частиц -  патент 2504044 (10.01.2014)
дифференциальный спектрометр ионной подвижности -  патент 2503083 (27.12.2013)
способ анализа смесей химических соединений на основе разделения ионов этих соединений в линейной радиочастотной ловушке -  патент 2502152 (20.12.2013)
источник ионов для масс-спектрометра (варианты) -  патент 2499323 (20.11.2013)
метод масс-спектрометрического секвенирования пептидов и определения их аминокислотных последовательностей -  патент 2498443 (10.11.2013)
Наверх