стекло для активной части источников ионизирующего излучения на основе цезия-137 и способ его изготовления

Классы МПК:C03C3/21 содержащие титан, цирконий, ванадий, вольфрам или молибден
Автор(ы):, , , , ,
Патентообладатель(и):Федеральное государственное унитарное предприятие "Производственное объединение "Маяк" (RU),
Федеральное государственное унитарное предприятие "Научно-производственное объединение "Радиевый институт им. В.Г. Хлопина" (RU)
Приоритеты:
подача заявки:
2011-08-17
публикация патента:

Изобретение относится к области изготовления источников ионизирующего излучения (ИИИ) на основе изотопов цезия и может быть использовано в технологии остекловывания радиоактивных отходов. В качестве материала активной части ИИИ на основе цезия-137 предлагаются цезийалюмофосфатные стекла, которые помимо основных компонентов (оксиды цезия, алюминия и фосфора) содержат дополнительные компоненты (оксиды лития, натрия, титана и бора) в концентрациях, мас.%: Cs2O 55,00-62,50; Li2O 0,25-0,55; Na 2O 0,20-0,50; Al2O3 14,75-15,50; P2O5 21,30-25,95; B2O3 0,50-1,25; TiO2 0,50-1,25. Технический результат изобретения - снижение температуры варки стекла и повышение химической устойчивости стекла. Способ изготовления этих стекол включает смешение концентрата цезия-137 и фосфорной кислоты с последующим нагреванием полученного раствора до 500°С со скоростью 2,5°С/мин, добавление к сухому остатку нитратов алюминия, лития, титанила и борной кислоты с последующим ступенчатым нагреванием многокомпонентной смеси до 700°С со скоростью 5°С/мин, до 900°С со скоростью 2,5°С/мин и до температуры варки стекла 1150°С со скоростью 10°/мин с выдержкой расплава стекломассы в течение 2 ч. Стекла обладают высокой химической устойчивостью и относительно невысокой температурой варки стекломассы (1150°С), а способ их изготовления позволяет уменьшить вспучивание, а также снизить летучесть паров цезия на 25-30%. 2 н.п. ф-лы, 4 табл.

Формула изобретения

1. Стекло для активной части источников ионизирующего излучения на основе цезия-137, включающее основные компоненты: оксиды цезия, алюминия и фосфора, отличающееся тем, что в качестве дополнительных компонентов стекло содержит оксиды лития, натрия, титана и бора в следующем соотношении, мас.%:

Cs2O55,00-62,50
Li2 O0,25-0,55
Na2O 0,20-0,50
Al2O3 14,75-15,50
P2 O521,30-25,95
В2 О30,50-1,25
TiO2 0,50-1,25

2. Способ изготовления стекла по п.1, включающий смешение концентрата цезия, фосфорной кислоты, нитрата алюминия и дополнительных компонентов, нагревание полученного раствора до сухого остатка и варку стекла, отличающийся тем, что предварительно смешивают только концентрат цезия и фосфорную кислоту, полученный раствор нагревают до 500°С со скоростью 2,5°/мин, к сухому остатку добавляют дополнительные компоненты, полученную многокомпонентную смесь ступенчато нагревают до 700°С со скоростью 5°/мин, до 900°С со скоростью 2,5°/мин, а затем до температуры варки стекла 1150°С со скоростью 10°/мин с выдержкой расплава стекломассы в течение 2 ч.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к области изготовления источников ионизирующего излучения (ИИИ) на основе изотопов цезия, а также может быть использовано в технологии остекловывания радиоактивных отходов.

Основные области применения ИИИ:

- решение экологических проблем (водоподготовка, дезинфекция муниципальных отходов и сточных вод, отходов медицинских учреждений, морских и авиалайнеров, обработка дымовых газов для удаления оксидов серы и азота);

- промышленное применение (радиографическая аппаратура, приборы для измерения толщины, плотности, вязкости, блокирующая аппаратура, сшивание пластмасс, деструкция целлюлозы, крекинг нефти, стабилизация природного и синтетического каучука перед вулканизацией, обработка красок и полимерных покрытий, снятие статического электричества);

- радиационная обработка продуктов пищевой промышленности и сельского хозяйства для их сохранности (стерилизация, пастеризация, дезинфекция). Основные требования, предъявляемые к цезиевым ИИИ, - высокое содержание цезия-137, химическая, термическая и радиационная устойчивость, технологичность в изготовлении.

В настоящее время широко применяется технология изготовления цезиевых ИИИ с использованием в качестве активной части хлорида цезия [«Химия долгоживущих осколочных элементов» под редакцией А.В.Николаева. - М.: Атомиздат, 1970]. Хлорид цезия обладает высокой концентрацией по цезию (79,4 мас.%), что позволяет достичь удельной стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 -активности ИИИ до 80 Ки/см3. Однако при его производстве используются концентрированные растворы соляной кислоты, выделяющие крайне агрессивные газы. Это приводит к быстрому коррозионному износу оборудования и образованию большого количества вторичных отходов. Хлорид цезия хорошо растворим в воде (186,5 г CsCl в 100 мл Н2О при 25°С) и поэтому не удовлетворяет требованиям экологической безопасности. Кроме того, отработавшие свой срок ИИИ на основе хлорида цезия-137 не подлежат окончательному захоронению без дополнительной переработки.

Вышеперечисленные недостатки отсутствуют при использовании в качестве активной части цезиевых ИИИ стекла и керамики, однако их удельная активность меньше, чем у хлорида цезия-137, высокотемпературный синтез сопровождается летучестью паров цезия-137.

Известна технология изготовления ИИИ с активной частью из насыщенных цезием и прокаленных цеолитов, из синтетического поллуцита (CsAlSi2O 6) и из цезийсодержащей керамики. Процессы изготовления этих материалов технически сложны и многостадийны (измельчение, смешение, «холодное» прессование с последующим спеканием). Кроме того, эти материалы обладают удельной стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 -активностью не более 25-42 Ки/см3 [В.П.Сытин, Ф.П.Теплов, Г.А.Череватенко «Радиоактивные источники ионизирующих излучений» М., Энергоиздат, 1984].

Однофазная цезиймагнийфосфатная керамика (CsMgPO4) также изготавливается в несколько стадий, одна из которых горячее прессование [Патент РФ № 1389563, Бюл. № 12, 1994]. Концентрация оксида цезия в этой керамике составляет 56.0 мас.%, а расчетная удельная стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 -активность - 30,7 Ки/см3. Недостатком этой керамики является ее чувствительность к технологическим примесям, обязательно присутствующим в исходном высокоактивном концентрате цезия-137. Даже небольшие количества примесей натрия, железа, хрома, никеля и др. приводят к образованию дефектной структуры керамики и ухудшению ее характеристик.

Стекло в отличие от керамики имеет аморфную структуру и потому гораздо менее чувствительно к химическому составу концентрата цезия-137.

Известны силикатные и боросиликатные стекла с высокой концентрацией цезия-137, требующие высоких температур варки (1250-1450°С), которые приводят к значительной летучести паров цезия (более 10%). Кроме того, скорость выщелачивания цезия-137 в дистиллированную воду при 20°С из лучших боросиликатных стекол, содержащих до 45 мас.% оксида цезия, выше 10-5 г/см2 ·сут [D.M.Strachan. Report Atlantic Richfield Hanford Co., ARH-SA-246, 1976].

Перспективными матрицами для включения значительных количеств цезия-137 являются алюмофосфатные стекла, содержащие оксиды лития, натрия, калия и железа [Р.А.Абакумова, А.С.Алой, А.В.Трофименко и др. «Водостойкость алюмофосфатных стекол с повышенным содержанием цезия» Физика и химия стекла, т.22, № 2, 1996]. Концентрация оксида цезия в этих стеклах составляет 42,7-55,3 мас.%, а расчетная удельная стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 -активность 42-50 Ки/см3. Составы этих стекол и их основные характеристики представлены в таблице 1.

Таблица 1
Составы цезийалюмофосфатных стекол аналога и их основные характеристики
Состав стекла, мас.% стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 Равновесная скорость выщелачивания Cs, (20°C) г/см2 ·сут
стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 Плотность, г/см3
Cs2O Li2O Na2O K2OAl 2O3 P2O5 Fe2O3 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499
стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499
42,70,7 1,60,5 18,035,0 1,53,21 0,9·10-5
47,90,6 1,60,3 16,731,9 1,13,25 1,8·10-5
52,60,5 1,20,2 15,029,8 0,83,33 4,0·10-5
55,30,2 0,60,2 13,729,4 0,53,41 2,0·10-3

Температура варки этих стекол не превышает 1100°С, а летучесть паров цезия при выдержке расплава стекломассы в течение 2 ч около 0,5%, а равновесные скорости выщелачивания цезия в дистиллированную воду при 20°С находятся в пределах 10 -6-10-3 г/см2·сут. Недостатком этих стекол является то, что при увеличении концентрации оксида цезия до ~55 мас.% скорость выщелачивания цезия из них увеличивается в 50 и более раз (до 2,0·10-3 г/см2 ·сут). Это ограничивает их применение в качестве активной части для ИИИ вместо хлорида цезия-137.

В качестве прототипа можно использовать цезийалюмофосфатные стекла с добавлением или без добавления оксидов кремния, лантана, циркония [Патент US 3161601 от 15.12.1964]. Эти стекла получали упариванием до сухого остатка смешанного раствора хлорида цезия, нитрата алюминия и фосфорной кислоты с добавлением или без добавления нитратов лантана, циркония и силикагеля в необходимых концентрациях и последующим нагреванием сухого остатка со скоростью 10°С/мин до температуры варки стекла (1200-1375°С) с выдержкой расплава стекломассы в течение 4 ч. Стекла отливали в виде таблеток, отжигали и выщелачивали в кипящей воде в течение 4 ч. Составы полученных стекол и их растворимости в кипящей воде приведены в табл.2.

Таблица 2
Составы цезийалюмофосфатных стекол прототипа и их растворимости в кипящей дистиллированной воде
Состав стекла, мас.% Растворимость в воде (100°С, 4 ч), мас.%
стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499
Cs2O Al2O3 P2O5 SiO2 La2O3 ZrO2
стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499
42,512,0 30,2- -15,4 0,60
45,2 12,7 30,4- 11,6- 0,65
53,7 15,0 30,11,2 -- 22
54,3 15,3 30,4- -- 21
61,4 11,3 27,6- -- Стекла полностью разрушились
62,511,3 26,3- --

Химически устойчивыми оказались стекла, содержащие 42,5 мас.% Cs2O с добавлением оксида циркония или оксида лантана. Эти стекла позволяют достичь расчетной удельной стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 -активности до 45 Ки/см3. Увеличение концентрации оксида цезия в стекле до 53,7 и 54,3 мас.% привело к увеличению его растворимости в кипящей воде до 22 и 21 мас.% соответственно. Стекла, содержащие 61,4 и 62,5 мас.% Cs2O, непригодны для использования в качестве активной части ИИИ из-за их полного разрушения в кипящей воде.

Основными недостатками цезийалюмофосфатных стекол прототипа являются высокие температуры варки (1200-1375°С), которые неизбежно приведут к значительной летучести паров цезия и использованию в качестве исходной соли хлорида цезия-137, приводящее к выделению коррозионно-активных хлора и хлористого водорода.

Задачами настоящего изобретения являются разработка составов химически устойчивых стекол для активной части ИИИ на основе цезия-137 с концентрацией оксида цезия от 55,0 до 62,5 масс.% и способа их изготовления.

Для решения поставленных задач:

1. Предложены составы стекол (табл.3), содержащие помимо основных компонентов (оксиды цезия, алюминия и фосфора) дополнительные компоненты (оксиды лития, натрия, титана и бора) в следующих концентрациях, мас.%: Cs2O 55,00-62,50; Li2 O 0,25-0,55; Na2O 0,20-0,50; Al2O3 14,75-15,50; P2O5 21,30-25,95; В2 О3 0,50-1,25; TiO2 0,50-1,25.

Таблица 3
Предлагаемые составы цезийалюмофосфатных стекол
№ стекла Состав стекла, мас.%
Cs2O Li2O Na2O Al2O3 P2O5 B2O3 TiO2
I55,00 0,550,50 15,5025,95 1,25 1,25
II 57,00 0,450,40 15,2524,90 1,00 1,00
III 60,00 0,350,30 15,0022,85 0,75 0,75
IV 62,50 0,250,20 14,7521,30 0,50 0,50

Введение в состав стекол оксидов лития, натрия, титана и бора позволяет снизить температуру варки стекол до 1150°С.

2. Предложен следующий способ изготовления стекол:

- Смешение концентрата цезия-137 (раствор нитрата цезия) и фосфорной кислоты с последующим нагреванием полученного раствора до 500°С со скоростью 2,5°С /мин, приводящее к образованию фосфатов цезия, термически более устойчивых в отличие от нитрата цезия. Проведение этой операции позволяет снизить летучесть паров цезия при варке стекла на 25-30%.

- Добавление к сухому остатку нитратов лития, натрия, алюминия, титанила и борной кислоты с последующим трехступенчатым нагреванием полученной многокомпонентной смеси до 700°С со скоростью 5°С/мин (первая ступень) до 900°С со скоростью 2,5°/мин (вторая ступень) и до температуры варки стекла 1150°С со скоростью 10°/мин с выдержкой расплава стекломассы в течение 2 ч (третья ступень). Трехступенчатая варка стекла в указанном температурно-временном режиме по сравнению с одноступенчатой позволяет уменьшить вспучивание многокомпонентной смеси (первая ступень), интенсивное пенообразование непроваренной стекломассы (вторая ступень), способное привести к ее выбросу, и снизить летучесть паров цезия при варке стекломассы (третья ступень).

Предлагаемый трехступенчатый температурно-временной режим является оптимальным. При более высоких скоростях нагрева в результате вспучивания и пенообразования происходит разбрызгивание и выброс реакционной смеси из тигля, а при более низких скоростях нагрева значительно увеличивается продолжительность изготовления стекла.

Преимуществом предполагаемого изобретения по сравнению с прототипом является получение химически устойчивого цезийалюмофосфатного стекла для активной части ИИИ с высокой концентрацией оксида цезия при относительно невысоких температурах варки.

Обоснования предполагаемого изобретения представлены в примерах и в табл.4.

Пример 1

Предлагаемые составы стекол и способ их изготовления испытывали в лабораторных условиях. Для изготовления стекла состава I (табл.3) в платиновом тигле смешивали кислый (0,25М HNO3) модельный концентрат цезия-137 (200 г/л CsNO3), допированный 137CsNO3 , и концентрированную фосфорную кислоту в необходимом соотношении. Полученный раствор нагревали до 500°С со скоростью 2,5°С/мин. К сухому остатку добавляли смесь нитратов лития, натрия, алюминия, титанила и борной кислоты в необходимых количествах для изготовления стекла состава I (табл.3). Многокомпонентную смесь ступенчато нагревали до 700°С со скоростью 5°С/мин, затем до 900°С со скоростью 2,5°С/мин и, наконец, до температуры варки стекла 1150°С со скоростью 10°С/мин, с последующей выдержкой расплава стекломассы в течение 2 ч. Расплав выливали на нагретую стальную плиту для отжига полученного стекла.

Основные характеристики стекла состава I и способа его изготовления:

- фазовый состав - аморфная стеклофаза (метод рентгенофазового анализа);

- растворимость стекла в кипящей дистиллированной воде в течение 4 ч - 0,07 мас.% (методика прототипа), а равновесная скорость выщелачивания в дистиллированную воду при 20°С-2,5·10 -5 г/см2·сут (стандартная методика МАГАТЭ);

- плотность - 3,42 г/см3 (метод гидростатического взвешивания);

- вспучивание и пенообразование при изготовлении стекла - незначительные;

- летучесть паров цезия - 0,47% (метод стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 -спектрометрии);

- расчетная удельная стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 -активность - 49,4 Ки/см3.

Пример 2

Предлагаемый состав стекла II (табл.3) и способ его изготовления испытывали, как описано в примере 1, только после термообработки смешанного раствора модельного концентрата цезия-137 и фосфорной кислоты к сухому остатку добавляли смесь нитратов лития, натрия, алюминия, титанила и борной кислоты в количествах, необходимых для изготовления стекла состава II (табл.3).

Основные характеристики стекла состава II и способа его изготовления:

- фазовый состав - аморфная стеклофаза;

- растворимость стекла в кипящей дистиллированной воде в течение 4 ч - 0,19 мас.%, а равновесная скорость выщелачивания в дистиллированную воду при 20°C - 6,2·10-5 г/см2·сут;

- плотность - 3,46 г/см3;

- вспучивание и пенообразование при изготовлении стекла - незначительные;

- летучесть паров цезия - 0,56%;

- расчетная удельная стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 -активность (с учетом уноса паров цезия) - 52,0 Ки/см 3.

Пример 3

Предлагаемый состав стекла III (табл.3) и способ его изготовления испытывали, как описано в примере 1, только после термообработки смешанного раствора модельного концентрата цезия-137 и фосфорной кислоты к сухому остатку добавляли смесь нитратов лития, натрия, алюминия, титанила и борной кислоты в количествах, необходимых для изготовления стекла состава III (табл.3).

Основные характеристики стекла состава III и способа его изготовления:

- фазовый состав - аморфная стеклофаза;

- растворимость стекла в кипящей дистиллированной воде в течение 4 ч - 0,29 мас.%, а равновесная скорость выщелачивания в дистиллированную воду при 20°C - 8,7·10-5 г/см2·сут;

- плотность - 3,51 г/см3;

- вспучивание и пенообразование при изготовлении стекла - незначительные;

- летучесть паров цезия - 0,68%;

- расчетная удельная стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 -активность - 54,5 Ки/см3.

Пример 4

Предлагаемый состав стекла IV (табл.3) и способ его изготовления испытывали, как описано в примере 1, только после термообработки смешанного раствора модельного концентрата цезия-137 и фофорной кислоты к сухому остатку добавляли смесь нитратов лития, натрия, алюминия, титанила и борной кислоты в количествах, необходимых для изготовления стекла состава IV (табл.3).

Основные характеристики стекла состава IV и способа его изготовления:

- фазовый состав - аморфная фаза;

- растворимость стекла в кипящей дистиллированной воде в течение 4 ч - 2,6 мас.%, а равновесная скорость выщелачивания в дистиллированную воду при 20°С - 8,1·10-4 г/см2·сут;

- плотность - 3,56 г/см3;

- вспучивание и пенообразование при изготовлении стекла - незначительные;

- летучесть паров цезия - 0,85%;

- расчетная удельная стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 -активность - 56,9 Ки/см3

В табл.4 представлены величины летучести паров цезия при варке стекол составов I-IV по прототипу (А) и по предлагаемому способу (Б).

Таблица 4
Летучесть паров цезия при варке стекол составов I-IV по прототипу (А) и по предлагаемому способу (Б)
Состав стеклаI-A I-Б II-АII-Б III-AIII-Б IV-A IV-Б
Летучесть паров цезия,% стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499
0,630,47 0,760,56 0,960,68 1,210,85
стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499

Как видно из примеров и табл.4 по сравнению с прототипом предлагаемые составы цезийалюмофосфатного стекла для активной части ИИИ с концентрацией оксида цезия 55,0-62,5 мас.% могут быть изготовлены при более низкой температуре варки стекломассы 1150°С (на 50-225°С ниже, чем в прототипе) и обладают более высокой химической устойчивостью (в 300 раз и выше, чем в прототипе, см. табл.2), а предлагаемый способ изготовления стекла уменьшает вспучивание и пенообразование при варке стекломассы и снижает летучесть паров цезия на 25-30%.

Расчетные удельные стекло для активной части источников ионизирующего излучения   на основе цезия-137 и способ его изготовления, патент № 2479499 -активности предлагаемых составов стекла (49,4-56,9 Ки/см 3) позволяют рекомендовать их для использования в качестве маловыщелачиваемой активной части цезиевых ИИИ.

Наверх