датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано- и микроэлектромеханической системы

Классы МПК:G01L9/04 резисторных тензометров 
B82B3/00 Изготовление или обработка наноструктур
Автор(ы):, , ,
Патентообладатель(и):Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Пензенский государственный университет" (ПГУ) (RU)
Приоритеты:
подача заявки:
2009-06-01
публикация патента:

Изобретение относится к области измерительной техники и может быть использовано для измерения давления в условиях воздействия нестационарных температур (термоудара) измеряемой среды. Техническим результатом изобретения является повышение точности измерения давления в условиях воздействия термоудара за счет улучшения линейности и уменьшения влияния температурных деформаций мембраны на выходной сигнал измерительного моста. Датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано- и микроэлектромеханической системы (НиМЭМС) содержит корпус, установленную в нем НиМЭМС, состоящую из упругого элемента - мембраны, жестко заделанной по контуру, сформированной на ней гетерогенной структуры из тонких пленок материалов, герметизирующей контактной колодки, соединительных проводников. Образованные в гетерогенной структуре тензорезисторы, установленные по дуге окружности и в радиальном направлении, состоят из идентичных тензоэлементов в форме квадратов, соединенных тонкопленочными перемычками, включенными в измерительный мост. Центры окружных и радиальных тензоэлементов размещены по окружности, радиус которой r0 определен по соответствующему соотношению. 8 ил. датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

Формула изобретения

Датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано- и микроэлектромеханической системы (НиМЭМС), содержащий корпус, установленную в нем НиМЭМС, состоящую из упругого элемента - мембраны, жестко заделанной по контуру, сформированной на ней гетерогенной структуры из тонких пленок материалов, герметизирующей контактной колодки, соединительных проводников, в которой образованные в гетерогенной структуре тензорезисторы, установленные по дуге окружности и в радиальном направлении, состоят из идентичных тензоэлементов в форме квадратов, соединенных тонкопленочными перемычками, включенными в измерительный мост, отличающийся тем, что центры окружных и радиальных тензоэлементов размещены по окружности, радиус которой r0 определен по соотношению датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 где rм - радиус мембраны; a - размер стороны квадратного тензоэлемента.

Описание изобретения к патенту

Предлагаемое изобретение относится к измерительной технике и может быть использовано для измерения давления в условиях воздействия нестационарных температур (термоудара) измеряемой среды.

Известны датчики давления с тензорезисторами, расположенными на мембране в радиальном направлении и соединенными в мостовую измерительную цепь [1, 2]. Недостатком таких датчиков является низкая точность в условиях воздействия нестационарных температур (термоудара) измеряемой среды. Это связано с появлением градиента температуры по радиусу мембраны, наличием температурного коэффициента сопротивления тензорезисторов, неравномерного нагрева тензорезисторов и его частей. В результате появляется разбаланс мостовой измерительной цепи, не связанный с измеряемым давлением, точность измерения давления резко снижается. Погрешность от воздействия термоудара может достигать 30-60%, тогда как в обычных условиях обеспечивается погрешность 0,5-1,5%.

Наиболее близким по технической сущности к предлагаемому решению является датчик давления [3], основой которого является тензорезисторная тонкопленочная нано- и микроэлектромеханическая система (НиМЭМС) с гетерогенной структурой. Под гетерогенными структурами в общем смысле понимают структуры, разнородные по своему составу или происхождению (принадлежности к той или иной форме, типу, группе, классу, системе). Датчики такого типа относятся к изделиям нано- и микросистемной техники [4].

Датчик давления [3] содержит вакуумированный корпус 1 (фиг.1), тензорезисторную тонкопленочную нано- и микроэлектромеханическую систему, состоящую из упругого элемента в виде круглой жесткозащемленной мембраны 2, выполненной за одно целое с основанием 3, на которой расположены соединенные в мостовую схему окружные 4 и радиальные 5 тензорезисторы. Они выполнены в виде соединенных низкоомными перемычками 6 и равномерно размещенных по периферии мембраны идентичных тензоэлементов 7. Каждый из них касается двумя вершинами 8 границы 9 мембраны. Диэлектрик 10 выполнен в виде тонкопленочной структуры Cr-SiO-SiO2, тензоэлементы 7 - в виде структуры Х20Н75Ю, перемычки 6 - в виде структуры V-Au.

Поскольку тензоэлементы идентичны и находятся на периферии мембраны на одинаковом расстоянии от ее центра, то, несмотря на нестационарный характер изменения температуры (Ti) на планарной стороне мембраны температуры тензоэлементов окружных и радиальных тензорезисторов, изменяясь, со временем будут одинаковы в каждый момент времени. Одинаковая температура радиальных и окружных тензорезисторов в каждый момент времени вызывает практически одинаковые изменения сопротивлений тензорезисторов, которые вследствие включения тензорезисторов в мостовую схему взаимно компенсируются.

Недостатком известной конструкции является сравнительно большая нелинейность измерительной цепи, которая обусловлена тем, что расположенные на периферии мембраны окружные и радиальные тензорезисторы неодинаково деформируются. Окружные тензорезисторы, находящиеся на периферии мембраны, испытывают меньшие деформации (окружные, датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 ), чем испытывают деформации (радиальные, датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 r) радиальные тензорезисторы. Вследствие этого происходит неодинаковое изменение сопротивлений тензорезисторов смежных плеч мостовой измерительной цепи. Появляется погрешность от нелинейности.

Между деформациями и приложенным давлением существует связь (функция преобразования) [1]:

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

где x - текущая координата радиуса; rM - радиус мембраны; Е - модуль упругости материала мембраны; µ - коэффициент Пуассона; Вдатчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 , Br - конструктивные коэффициенты чувствительности мембраны к давлению для случаев использования окружных и радиальных деформаций; Sдатчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 , Sr - чувствительности мембраны при использовании окружных и радиальных деформаций соответственно.

Как показывают выражения (1) и (2) функция преобразования определяется геометрическими размерами мембраны (радиусом и толщиной), характеристикой материала (модулем упругости) и коэффициентом Пуассона и зависит от того, какая деформация (радиальная или окружная) используется в качестве рабочей. Кроме того, она зависит от величины текущего радиуса.

Как видно из формул (1) и (2) функция преобразования прямо пропорциональна конструктивным коэффициентам чувствительности мембраны к давлению для случаев использования окружных и радиальных деформаций:

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

Приняв µ=0,3 (так как для изготовления упругих элементов обычно используются металлы), можно получить зависимости коэффициентов Bдатчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 и Br от текущего радиуса мембраны, которые представлены на фиг.2.

Из фиг.2 видно, что у мембраны имеются три зоны деформаций. Одна зона расположена в пределах датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 и соответствует использованию окружных деформаций. В этой зоне конструктивный коэффициент чувствительности имеет максимальное значение в центре мембраны и равен 0,341. Вторая и третья зоны деформаций соответствуют использованию радиальных деформаций и расположены в пределах датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 и датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 соответственно. Для второй зоны максимальное значение конструктивного коэффициента также равно 0,341, а для третьей зоны - 0,683.

Очевидно, что при расположении окружных и радиальных тензорезисторов на периферии мембраны в области различных по величине относительных деформаций датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 и датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 r, относительные изменения сопротивлений окружных и радиальных тензорезисторов будут различны. При этом возникает нелинейность измерительной цепи датчика, которая зависит от коэффициента симметрии k и относительных изменений сопротивлений плеч измерительной цепи датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 1, датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 2, датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 3, датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 4 [5]. На фиг.3 показан измерительный мост с тензорезисторами R1, R2, R3 и R4, которым соответствуют относительные изменения сопротивлений датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 1 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 2, датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 3, датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 4 при воздействии деформаций.

Для тензорезисторных датчиков, у которых относительное изменение сопротивления одного плеча обычно не превышает 0,01, при k=1 величина нелинейности составляет ~0,3÷0,6%, если рабочими являются два плеча.

Таким образом, в прототипе при размещении тензорезисторов на периферии мембраны возникает погрешность от нелинейности измерительной цепи, которая обусловлена возникновением несимметрии сопротивлений и различием относительных изменений сопротивлений окружных и радиальных тензорезисторов при деформациях мембраны, так как восприятие относительных деформаций радиальными и окружными тензоэлементами отличаются друг от друга.

Недостатком известной конструкции является также и то, что при расположении окружных и радиальных тензорезисторов на периферии мембраны температурные деформации окружных (датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 (T)) и радиальных (датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 r(T)) тензорезисторов при воздействии нестационарных температур (термоудара) различны. Так в начальный момент времени при заполнении приемной полости датчика жидкостью с температурой, отличающейся от температуры датчика, возникает неравномерное температурное поле по поверхности мембраны. Градиент температуры между центром мембраны и ее периферией в первые секунды с момента начала действия термоудара может превышать десятки градусов [6]. При воздействии криогенных температур происходит сжатие центральной части мембраны, которое влечет за собой растяжение радиальных тензорезисторов, установленных на периферии мембраны. При этом, вследствие разной ориентации относительно радиуса мембраны сопротивления окружных и радиальных тензоэлементов меняются на разные величины. В результате возникает температурная погрешность, обусловленная различным восприятием тензоэлементов температурных деформаций мембраны.

Задачей предлагаемого изобретения является повышение точности измерения путем улучшения линейности выходной характеристики в условиях воздействия нестационарных температур (термоудара) измеряемой среды за счет расположения окружных тензорезисторов в зонах, одинаковых по величине интегральных положительных деформаций, равных по модулю интегральным отрицательным деформациям зон, в которых расположены радиальные тензорезисторы. Кроме того, задачей предлагаемого изобретения является повышение точности измерения путем уменьшения температурной погрешности, обусловленной температурными деформациями мембраны при воздействии нестационарных температур, за счет расположения окружных и радиальных тензорезисторов в зонах, близких по величине интегральных температурных деформаций и компенсации влияния температурных деформаций мембраны в мостовой измерительной цепи.

Поставленная задача достигается тем, что в датчике давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано- и микроэлектромеханической системы (НиМЭМС), содержащем корпус, установленную в нем НиМЭМС, состоящую из упругого элемента - мембраны, жестко заделанной по контуру, сформированной на ней гетерогенной структуры из тонких пленок материалов, герметизирующей контактной колодки, соединительных проводников, в которой образованные в гетерогенной структуре тензорезисторы, установленные по дуге окружности и в радиальном направлении, состоят из идентичных тензоэлементов в форме квадратов, соединенных тонкопленочными перемычками, включенными в измерительный мост, центры окружных и радиальных тензоэлементов размещены по окружности, радиус которой r0 определен по соотношению: датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 где rM - радиус мембраны; а - размер стороны квадратного тензоэлемента.

Датчик давления содержит корпус 1 со штуцером 2 (фиг.4), установленную в нем тензорезисторную тонкопленочную нано- и микроэлектромеханическую систему (НиМЭМС) 3, выводные проводники 4, кабельную перемычку 5. Тензорезисторная тонкопленочная НиМЭМС 3 представляет собой конструктивно законченный модуль, обеспечивающий высокую технологичность сборки датчика.

На фиг.5 отдельно показана тензорезисторная тонкопленочная нано- и микроэлектромеханическая система (НиМЭМС) датчика. Она состоит из упругого элемента - круглой мембраны 6, жестко заделанной по контуру, с периферийным основанием 7 за границей 8 мембраны, гетерогенной структуры 9, контактной колодки 10, герметизирующей втулки 11, соединительных проводников 12, выводных колков 13, диэлектрических втулок 14. Гетерогенная структура 9 из тонких пленок материалов (тонкопленочные диэлектрические, тензорезистивные, контактные и т.п. слои материалов) сформирована на мембране 6 методами нано- и микроэлектронной технологии.

К примеру, гетерогенная структура 9 состоит из четырех нано- и микроразмерных слоев, сформированных на металлической мембране 6 (в качестве материала мембраны может быть сталь 36НХТЮ) с высотой микронеровностей не более 50-100 нм (при высоте микронеровностей мембраны более 100 нм становится принципиально невозможным получение устойчивых тонкопленочных структур, а следовательно, и новых качественных показателей, характерных для датчика).

Первый слой - подслой диэлектрика. Подслой диэлектрика, во-первых, служит демпфером между упругим элементом и диэлектриком для снятия температурных напряжений, возникающих в процессе напыления, а, во-вторых, обеспечивает адгезию диэлектрической пленки с материалом упругого элемента. Толщина подслоя равна 150-300 нм. Материалом подслоя диэлектрика может быть хром, Cr.

Второй - диэлектрический слой. Его задачей является обеспечение электрической изоляции между тензосхемой и упругим элементом в широком диапазоне температур. Поэтому к диэлектрику предъявляются жесткие требования по пористости, высокому удельному сопротивлению и в связи с тем, что он работает при воздействии значительных механических нагрузок, высоким прочностным характеристикам. В качестве диэлектрического слоя может быть тонкопленочная структура SiO-SiO2.

Третий - резистивный слой. Его толщина составляет 40датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 100 нм. К нему предъявляются очень жесткие требования: максимальный коэффициент тензочувствительности; высокие механические характеристики; большое удельное сопротивление; высокая температурная стабильность; хорошая адгезия с диэлектрическим слоем и материалом контактных групп; низкое значение температурного коэффициента сопротивления (ТКС); широкий рабочий диапазон температур (от криогенных до 300°С); его температурный коэффициент тензочувствительности (ТКТ) должен быть близок к температурному коэффициенту модуля упругости (ТКМУ) материала упругого элемента и др. Материалом резистивного слоя может быть Х20Н75Ю.

Четвертый слой - контактная группа (площадки, перемычки, проводники). К нему предъявляются следующие требования: хорошая адгезия и низкое переходное сопротивление с материалом тензорезистора; низкое удельное сопротивление; малый уровень тепловой и электромиграции; хорошая свариваемость с выводными проводниками при минимальной толщине; широкий диапазон рабочих температур; низкий уровень окисления при воздействии рабочих температур и во времени. Толщина контактных площадок и проводников для исключения отслоения от диэлектрика, особенно при воздействии широкого диапазона температур, должна быть не более 100 нм. В качестве контактной группы может быть структура V-Au.

В гетерогенной структуре 9 (фиг.6а, б) образованы тензорезисторы 15-18 (фиг.6, а), установленные по дуге окружности (15, 18) и в радиальном направлении (16, 17), состоящие из идентичных тензоэлементов в форме квадратов, соединенных тонкопленочными перемычками 19. Тензорезисторы 15-18 объединены в измерительный мост. Контактные площадки 20 служат для подключения напряжения питания и съема выходного сигнала с измерительного моста из тензорезисторов 15-18.

Тензорезисторы, установленные в окружном направлении 15, 18 и в радиальном направлении 16, 17 и, соответственно, идентичные тензоэлементы в форме квадратов размещены вдали от периферии (периферийного основания 7) мембраны в зоне с одинаковыми, но противоположными по знаку окружными и радиальными деформациями (0,577rм<r<r м), причем так, что центры окружных и радиальных тензоэлементов тензорезисторов 15-18 размещены по окружности, радиус которой г определен по соотношению: датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 где rм - радиус мембраны; а - размер стороны квадратного тензоэлемента.

Датчик давления работает следующим образом. Измеряемое давление приводит к деформации мембрану 6, на которой расположены тензорезисторы 15-18, возникают окружные и радиальные деформации, которые воспринимаются тензоэлементами окружных 15, 18 и радиальных 16, 17 тензорезисторов. Воздействие деформации от измеряемого давления на окружные тензорезисторы 15, 18 приводит к увеличению их сопротивлений, а воздействие деформации от измеряемого давления на радиальные тензорезисторы 16, 17 приводит к уменьшению их сопротивлений. Так как окружные 15, 18 и радиальные 16, 17 тензорезисторы включены соответственно в противоположные плечи измерительного моста, то при подаче на него питающего напряжения формируется выходной сигнал, величина которого связана с измеряемым давлением.

При измерении давления в условиях воздействия нестационарной температуры измеряемой среды, например, при воздействии на датчик, установленный на агрегате жидкостного реактивного двигателя, находящегося в нормальных климатических условиях, давления жидкого кислорода или водорода, на поверхности мембраны возникает нестационарное температурное поле. Нестационарное температурное поле возникает и при резком воздействии на датчик жидкого азота. На фиг.7 представлен график температурных полей на мембране в различные моменты времени с начала действия термоудара (воздействие жидкого азота) для случая, когда окружающей средой между мембраной и корпусом датчика является вакуум. Кривые построены для мембраны с диаметром d=5 мм, заделкой z=1,5 мм, толщиной h=0,31 мм с использованием алгоритма и программы [7].

В предлагаемом тензорезисторном датчике давления на основе тензорезисторной тонкопленочной НиМЭМС, как и в прототипе, тензоэлементы идентичны, но тензорезисторы 15, 18 и 16, 17, составленные из идентичных тензоэлементов, расположены по окружности не на периферии мембраны вблизи ее границы 8 (см. фиг.6), а вдали от периферии по окружности с радиусом датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 При таком расположении, также как и в прототипе, несмотря на нестационарный характер изменения температуры (T i) на планарной стороне мембраны температуры тензоэлементов окружных и радиальных тензорезисторов, изменяясь, со временем будут одинаковы в каждый момент времени. Одинаковая температура радиальных и окружных тензорезисторов в каждый момент времени вызывает практически одинаковые изменения сопротивлений тензорезисторов, которые вследствие включения тензорезисторов в мостовую схему взаимно компенсируются.

Кроме того, при расположении окружных и радиальных тензорезисторов по окружности с радиусом датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 улучшается линейность и уменьшается влияние температурных деформаций мембраны на выходной сигнал датчика.

Обоснование заявляемого соотношения проведем исходя из следующих соображений.

Структурная схема тонкопленочного тензорезисторного датчика давления представлена на фиг.8.

Измеряемое давление действует на мембрану, которая деформируется и на ее поверхности возникают относительные окружные датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 и радиальные деформации датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 r, определяемые выражениями (1) и (2).

Деформации датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 и датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 r воспринимаются тензорезисторами, установленными на мембране в окружном и радиальном направлении и преобразуются в относительное изменение сопротивления тензорезисторов:

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

где S - коэффициент тензочувствительности.

Измерительная схема является выходным преобразователем датчика и преобразует относительное изменение сопротивления тензорезисторов в величину выходного напряжения датчика.

Функция преобразования мембранного упругого элемента, преобразующего давление в деформацию [1]:

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

где BмP=|Bдатчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 |+|Br| - конструктивный коэффициент чувствительности мембраны к давлению Р.

Самой оптимальной, с точки зрения повышения линейности и уменьшения погрешности от температурных деформаций, областью мембраны, где следует располагать тензорезисторы, является область, в которой значения Bдатчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 и Br равны.

Если бы идентичные тензоэлементы были бесконечно малых размеров и представляли собой точку, то при, приравняв выражения (3) и (4):

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

можно найти относительный радиус, при котором датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

Однако идентичные тензоэлементы имеют конечные размеры и нельзя не учитывать различие деформаций ближайшей стороны квадратного тензоэлемента и наиболее удаленной стороны квадратного тензоэлемента, которое связано с нелинейным характером изменения конструктивных коэффициентов чувствительности Вдатчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 и Br (фиг.2).

Введем следующие обозначения: r1 - расстояние от центра мембраны до ближайшей стороны квадратного тензоэлемента; r 2_ расстояние от центра мембраны до наиболее удаленной стороны квадратного тензоэлемента; а - размер стороны квадратного тензоэлемента.

Для того чтобы окружные и радиальные деформации были равны при любых размерах тензоэлементов, должно выполняться условие:

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

Подставляя формулы (3) и(4) в выражение (8), получим:

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

Учитывая, что

r1 =r0-0,5a; r2=r0+0,5a,

где r0 - расстояние от центра тензоэлемента до центра мембраны,

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

Необходимую величину расстояния от центра тензоэлемента до центра мембраны можно определить методом последовательного приближения

Таким образом, при определении расстояния от центра тензоэлемента до центра мембраны по формуле (9) будет выполняться условие (8). Располагая идентичные тензоэлементы в форме квадратов по окружности с радиусом датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 интегральные значения окружных и радиальных деформаций будут равны. Соответственно будут равны относительные изменения сопротивлений идентичных тензоэлементов и тензорезисторов, образованных из них.

Преимуществом заявляемой конструкции является улучшение линейности выходной характеристики в условиях действия нестационарных температур (термоудара) измеряемой среды, тем самым повышается точность и достоверность получаемой информации о величине давления.

В предлагаемой конструкции при размещении всех тензорезисторов на мембране по окружности с радиусом r, равным датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

и равенстве их номинальных значении не возникает погрешность от нелинейности измерительной цепи, так как не возникает несимметрия плеч измерительного моста при деформации благодаря равенству интегральных значений окружных и радиальных деформаций в местах установки тензорезисторов. При этом относительные изменения сопротивлений окружных и радиальных тензорезисторов равны при любых разумных размерах идентичных тензоэлементов, выполненных в форме квадрата.

При размещении всех тензорезисторов на мембране по окружности с радиусом, равным

датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460

и равенстве их номинальных значений не возникает погрешность от нелинейности измерительной цепи, так как не возникает несимметрия плеч измерительного моста при деформации благодаря равенству окружных и радиальных деформаций в местах установки тензорезисторов. При этом относительные изменения сопротивлений окружных и радиальных тензорезисторов равны.

В предлагаемой конструкции при размещении всех тензорезисторов на мембране по окружности с радиусом, равным датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 и равенстве их номинальных значении не возникает погрешность от температурных деформаций мембраны. При расположении тензорезисторов не на периферии, а вдали от места заделки, по окружности с радиусом, равным датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано-   и микроэлектромеханической системы, патент № 2397460 окружные и радиальные температурные деформации мембраны практически равны. Одинаковые температурные деформации радиальных и окружных тензорезисторов при воздействии нестационарных температур приводят к одинаковым изменениям сопротивлений тензорезисторов и разбаланс мостовой измерительной цепи не происходит. В результате не возникает температурная погрешность, обусловленная температурными деформациями мембраны. Тем самым повышается точность и достоверность получаемой информации о величине давления.

В результате испытаний экспериментальных образцов тонкопленочных датчиков давления, изготовленных в соответствии формулой изобретения, установлено, что датчики позволяют повысить точность измерения в условиях воздействия нестационарных температур (термоудара). При воздействии нестационарной температуры от 25±10°С до минус 196°С погрешность не превышает 0,4% от предела измерений.

Заявляемое техническое решение позволяет обеспечить точностные свойства датчика давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано- и микроэлектромеханической системы при воздействии нестационарных температур.

Предлагаемый датчик давления на основе тензорезисторной тонкопленочной нано- и микроэлектромеханической системы выгодно отличается от известных и может найти широкое применение для измерения давлений в условиях действия нестационарных температур (термоудара) измеряемой среды.

Источники информации

1. Васильев В.А. Технологические особенности твердотельных мембранных чувствительных элементов // Вестник Московского государственного технического университета. Сер. Приборостроение. - М., 2002. - № 4. - С.97-108.

2. Белозубое Е.М. Патент РФ № 2031355, 6G01B 7/16. Способ термокомпенсации тензомоста. Бюл. № 8 от 20.03.95.

3. Белозубов Е.М. Патент РФ № 1615578, 5G01L 9/04. Датчик давления. Опубл. 23.12.90. Бюл. № 47.

4. Белозубов Е.М., Белозубова Н.Е. Тонкопленочные тензорезисторные датчики давления - изделия нано- и микросистемной техники // Нано- и микросистемная техника - М., 2007. - № .12. - С.49-51.

5. Васильев В.А., Тихонов А.И. Анализ и синтез измерительных цепей преобразователей информации на основе твердотельных структур // Метрология. - М., 2003. - № 1. - С.3-20.

6. Белозубов Е.М., Васильев В.А., Измайлов Д.А. Моделирование термоударных характеристик тонкопленочных тензорезисторных датчиков давления // Приборы и системы. Управление, контроль, диагностика. - М., 2008. - № 12. - С.16-21.

7. Белозубов Е.М., Васильев В.А., Измайлов Д.А. Алгоритм и программа «Моделирование влияния нестационарных температур на датчики мембранного типа». Св-во об отрасл. рег. разработки в отраслевом фонде алгоритмов и программ № 10700 от 26.05.2008 г. Зарегистрировано в «Национальном информационном фонде неопубликованных документов» ФАО ГКЦИТ, г.Москва, 02.06.2008 г., гос. рег. № 50200801123.

Класс G01L9/04 резисторных тензометров 

высокотемпературный полупроводниковый преобразователь давления -  патент 2526788 (27.08.2014)
датчик давления -  патент 2523754 (20.07.2014)
датчик давления на основе нано- и микроэлектромеханической системы для прецизионных измерений -  патент 2516375 (20.05.2014)
способ измерения давления и интеллектуальный датчик давления на его основе -  патент 2515079 (10.05.2014)
способ изготовления тензорезисторного датчика давления на основе тонкопленочной нано- и микроэлектромеханической системы -  патент 2512142 (10.04.2014)
высокотемпературный полупроводниковый преобразователь давления -  патент 2507491 (20.02.2014)
датчик абсолютного давления повышенной точности на основе полупроводникового чувствительного элемента с жестким центром -  патент 2507490 (20.02.2014)
способ изготовления тензорезисторного датчика давления на основе тонкопленочной нано- и микроэлектромеханической системы -  патент 2505791 (27.01.2014)
преобразователь давления -  патент 2502970 (27.12.2013)
способ измерения давления, калибровки и датчик давления на основе нано- и микроэлектромеханической системы -  патент 2498250 (10.11.2013)

Класс B82B3/00 Изготовление или обработка наноструктур

Наверх