термоэлектрическое устройство подготовки трансплантата тонкой кишки

Формула изобретения

Термоэлектрическое устройство подготовки трансплантата тонкой кишки, содержащее отслаиватель, отличающееся тем, что оно дополнительно содержит основание, при этом отслаиватель состоит из диэлектрической теплоизоляционной пластины, с которой сопряжена медная, выполненная в виде сегмента цилиндрической поверхности, пластина, с внутренней стороны которой с обеспечением теплового контакта расположены три термоэлектрических модуля, противоположные спаи которых сопряжены с трапециевидным жидкостным радиатором, широким основанием прилегающим к диэлектрической теплоизоляционной пластине, а узким основанием и боковыми сторонами находящимся в тепловом контакте со спаями трех термоэлектрических модулей, пространство между изогнутой медной пластиной и диэлектрической теплоизоляционной пластиной, свободное от термоэлектрических модулей и трапециевидного жидкостного радиатора заполнено теплоизоляцией, а на диэлектрической теплоизоляционной пластине со стороны, противоположной трапециевидному жидкостному радиатору, прикреплена ручка и выведены штуцера для подвода и отвода жидкости к трапециевидному жидкостному радиатору, а основание представляет собой корпус из теплоизоляционного материала, в котором расположен прямоугольный жидкостной теплообменник, снабженный штуцерами, к верхней поверхности которого, с обеспечением теплового контакта, подведены опорные спаи двух термоэлектрических модулей, а их рабочие спаи примыкают, с обеспечением теплового контакта, к металлической пластине, причем боковые стенки корпуса возвышаются над металлической пластиной на 2-3 мм с образованием двух параллельных бортиков.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к медицине и может быть использовано в восстановительной пластической хирургии.

Трансплантат тонкой кишки является хорошим пластическим материалом, так как хорошо моделируется, богат кровеносными сосудами и позволяет выкраивать лоскуты произвольных форм и размеров. Для использования его в пластической хирургии необходимо предварительно отделить слизистую от гладкомышечного слоя. В настоящее время для этого используются две методики: препарирование и отслаивание с помощью ползучего инфильтрата. По первой методике слизистая отслаивается (отсекается) с помощью скальпеля, по второй - с помощью шприца в подслизистый слой вводится инфильтрат (обычно новокаин), который по мере введения разрывает изнутри слизистую от самого трансплантата.

Обе эти методики имеют ряд недостатков:

- трудоемкость процесса (отнимает много времени в процессе операции);

- грубо травмируется подслизистый слой;

- иногда происходит перфорация трансплантата;

- остаются участки слизистого слоя, что загрязняет рану и участок пластики.

Целью изобретения является разработка устройства, позволяющего полностью удалить слизистый слой с извлеченного участка тонкой кишки, которое предохраняет трансплантат от перфорации и уменьшает трудоемкость процесса.

Для достижения поставленной цели предлагается термоэлектрическое устройство подготовки трансплантата тонкой кишки, структурная схема которого приведена на фиг.1.

Устройство состоит из двух частей: отслаивателя (фиг.1, а) и основания (фиг.1, б).

Отслаиватель состоит из пластины 1, выполненной из диэлектрического теплоизоляционного материала, с которой сопряжена изогнутая металлическая пластина 2, выполненная из меди и представляющая собой сегмент цилиндрической поверхности. С внутренней стороны пластины 2 с обеспечением теплового контакта распложены три термоэлектрических модуля 3. Противоположные спаи термоэлектрических модулей 3 сопряжены с трапециевидным жидкостным радиатором 4, который широким основанием прилегает к пластине 1, а узким основанием и боками находится в тепловом контакте со спаями трех термоэлектрических модулей 3. Пространство между металлической пластиной 2 и пластиной 1, свободное от термоэлектрических модулей 3 и трапециевидного жидкостного радиатора 4, заполнено теплоизоляцией 5. К пластине 1 со стороны, противоположной трапециевидному жидкостному радиатору 4, прикреплена ручка 6, а также с этой стороны выводятся штуцера 7 для подвода и отвода жидкости к трапециевидному жидкостному радиатору 4.

Основание представляет собой корпус 8, выполненный из теплоизоляционного материала. В корпусе 8 расположен прямоугольный жидкостный теплообменник 9, к верхней поверхности которого с обеспечением теплового контакта подведены опорные спаи двух термоэлектрических модулей 10. Рабочие спаи двух термоэлектрических модулей 10 примыкают с обеспечением теплового контакта к металлической пластине 11. Боковые стенки корпуса 8 несколько возвышаются над металлической пластиной 11 (на 2-3 мм) таким образом, что образуют два параллельных бортика 12. Циркуляция жидкости в прямоугольном жидкостном теплообменнике обеспечивается через штуцера 13. Свободное пространство вокруг термоэлектрических модулей 10 заполнено теплоизоляцией 14.

Принцип работы устройства следующий. При включении блока питания (на фиг. не показан) через термоэлектрические модули протекает ток и согласно эффекту Пельтье их рабочие спаи охлаждаются. Врач прикладывает трансплантат тонкой кишки к металлической пластине 11 основания слизистой вверх, которая примерзает к пластине и таким образом фиксируется. Теперь, приложив к поверхности слизистой изогнутую металлическую пластину 2 отслаивателя, врач прокатывает ее по поверхности трансплантата тонкой кишки. Слизистая, примерзая к охлажденной медной пластине, равномерно отслаивается от гладкомышечного слоя, который используется для пластической хирургии.

Устройство просто в изготовлении и использовании. Может использоваться непосредственно в операционной.