фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции и применение

Классы МПК:C07D487/04 орто-конденсированные системы
C07D519/00 Гетероциклические соединения, содержащие несколько систем из двух или более релевантных гетероциклических колец, конденсированных непосредственно или с общей карбоциклической системой, не отнесенные к группам  453/00 или  455/00
G03F7/004 светочувствительные материалы
Автор(ы):, ,
Патентообладатель(и):ЦИБА СПЕШИАЛТИ КЕМИКЭЛЗ ХОЛДИНГ ИНК. (CH)
Приоритеты:
подача заявки:
2002-10-08
публикация патента:

Изобретение относится к новым соединениям формулы I, которые могут использоваться в фотополимеризующейся композиции, отверждаемой в присутствии каталитических количеств оснований, возможно при излучении, и в качестве фотоинициаторов для получения покрытий. В формуле (I)

фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419

R1 обозначает фенил, нафтил, фенантрил, антрил, пиренил, 5,6,7,8-тетрагидро-2-нафтил, 5,6,7,8-тетрагидро-1-нафтил, тиенил, тиантренил, антрахинонил, ксантенил, тиоксантил, феноксантиинил, карбазолил, фенантридинил, акридинил, флуоренил или феноксазинил, причем эти радикалы являются незамещенными или один или несколько раз замещенными С118 алкилом, С218алкенилом, С118галоалкилом, NO2, NR10R 11, CN, OR12, SR12 , атомом галогена или радикалом формулы II

фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419

или радикал R1 обозначает радикал формулы III

фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419

R2 и R3 независимо друг от друга обозначают водородный атом; R 10, R11 R12 независимо друг от друга обозначают водородный атом или С 118алкил; R4 и R6, совместно образуют С 212алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими C 14алкильными радикалами, или R 5 и R7 совместно образуют С 212алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С 14алкильными радикалами, R 15 обозначает H или радикал формулы II. 4 н. и 7 з.п. ф-лы, 4 табл.

Формула изобретения

1. Соединение формулы I

фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419

в которой R1 обозначает фенил, нафтил, фенантрил, антрил, пиренил, 5,6,7,8-тетрагидро-2-нафтил, 5,6,7,8-тетрагидро-1-нафтил, тиенил, тиантренил, антрахинонил, ксантенил, тиоксантил, феноксантиинил, карбазолил, фенантридинил, акридинил, флуоренил или феноксазинил, причем эти радикалы являются незамещенными или один или несколько раз замещенными С 118алкилом, C218алкенилом, С118галоалкилом, NO2 , NR10R11, CN, OR 12, SR12, атомом галогена или радикалом формулы II

фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419

или радикал R1 обозначает радикал формулы III

фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419

R2 и R3 независимо друг от друга обозначают водородный атом;

R 10, R11, R12 независимо друг от друга обозначают водородный атом или С 118алкил;

R 4 и R6 совместно образуют С 212алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С 14алкильными радикалами, или

R5 и R7 совместно образуют С212алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими С14алкильными радикалами,

R15 обозначает Н или радикал формулы II;

при условии, что

(I) 11-бензил-1,11-диазабицикло[8,4,0]тетрадекан,

(II) 10-бензил-8-метил-1,10-диазабицикло[7,4,0]тридекан,

(III) 9-бензил-1,9-диазабицикло[6,4,0]додекан,

(IV) 8-бензил-6-метил-1,8-диазабицикло[5,4,0]ундекан,

(V) 8-бензил-1,8-диазабицикло[5,4,0]ундекан,

(VI) 7-бензил-2-метил-1,7-диазабицикло[4,3,0]нонан и

(VII) 7-бензил-2-этил-1,7-диазабицикло[4,3,0]нонан исключаются.

2. Соединение формулы I по п.1, у которого R 1 обозначает фенил, нафтил, антрил, антрахинонил, тиантренил, флуоренил или тиоксантил, причем эти радикалы являются незамещенными или замещенными один или несколько раз С14алкилом, С2 4алкенилом, CN, NR10R 11, NO2, CF3 , SR12, OR12, атомом галогена или радикалом формулы II, или R1 обозначает радикал формулы III; а R10, R11 и R12 независимо друг от друга обозначают водородный атом или C 16алкил.

3. Соединение формулы 1 по п.1, у которого

R1 обозначает фенил, нафтил, антрил или антрахинонил, причем эти радикалы являются незамещенными или являются замещенными один или несколько раз атомом галогена, C14 алкилом, С24алкенилом, NO2,CN, OR12 или радикалом формулы II, а R12 обозначает водородный атом или С1 4алкил.

4. Фотополимеризующаяся композиция, включающая

А) по меньшей мере одно соединение формулы I

фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419

в которой R1 обозначает фенил, нафтил, фенантрил, антрил, пиренил, 5,6,7,8-тетрагидро-2-нафтил, 5,6,7,8-тетрагидро-1-нафтил, тиенил, тиантренил, антрахинонил, ксантенил, тиоксантил, феноксантиинил, карбазолил, фенантридинил, акридинил, флуоренил или феноксазинил, причем эти радикалы являются незамещенными или один или несколько раз замещенными C 118алкилом, C218алкенилом, C118галоалкилом, NO2 , NR10R11, CN, OR 12, SR12, атомом галогена или радикалом формулы II

фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419

или R1 обозначает радикал формулы III

фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419

R2 и R3 независимо друг от друга обозначают водородный атом,

R 10, R11, R12 независимо друг от друга обозначают водородный атом или C 118алкил;

R 4 и R6 совместно образуют С 212алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими C 14алкильными радикалами;

R5 и R7 совместно образуют С212алкиленовый мостик, который не замещен или замещен одним или несколькими C14алкильными радикалами;

R15 обозначает Н или радикал формулы II; и

Б) по меньшей мере одно органическое соединение, которое способно вступать в катализируемую основаниями реакцию или которое превращают в другую форму катализируемой основанием реакцией, выбранное из группы, состоящей из а) акриловых сополимеров с алкоксисилановыми и/или алкоксисилоксановыми боковыми группами;

б) двухкомпонентных систем, включающих гидроксилсодержащие полиакрилаты, сложные полиэфиры и/или простые полиэфиры и алифатические или ароматические полиизоцианаты;

в) двухкомпонентных систем, включающих полиакрилаты с функциональными группами и полиэпоксид, полиакрилат, содержащий тиоловые, амино-, карбоксильные и/или ангидридные группы;

г) двухкомпонентных систем, включающих модифицированные фтором или модифицированные кремнием гидроксилсодержащие полиакрилаты, сложные полиэфиры и/или простые полиэфиры и алифатические или ароматические полиизоцианаты;

д) двухкомпонентных систем, включающих (поли)кетимины и алифатические или ароматические полиизоцианаты;

е) двухкомпонентных систем, включающих (поли)кетимины и ненасыщенные акриловые смолы или ацетоацетатные смолы или метил-фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 -акриламидометилгликолят;

з) двухкомпонентных систем, включающих (поли)оксазолидины и полиакрилаты, содержащие ангидридные группы, или ненасыщенные акриловые смолы или полиизоцианаты;

и) двухкомпонентных систем, включающих полиакрилаты с функциональными эпоксигруппами и карбоксилсодержащие или содержащие аминогруппы полиакрилаты;

м) полимеры на основе аллилглицидилового эфира;

н) двухкомпонентных систем, включающих (многоатомный)спирт и/или (поли)тиол и (поли)изоцианат;

о) двухкомпонентных систем, включающих фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 ,фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 -этиленовоненасыщенное карбонильное соединение и полимер, содержащий активированные группы СН2;

п) двухкомпонентных систем, включающих полимер, содержащий активированные группы СН2, причем эти активированные группы СН2 находятся либо в главной цепи, либо в боковой цепи, либо и в той, и в другой, или полимер, содержащий активированные группы СН2, такой как (поли)ацетоацетаты и (поли)цианоацетаты, и полиальдегидный сшивающий агент.

р) эпоксидной смолы или смеси разных эпоксидных смол.

5. Фотополимеризующаяся композиция по п.4, в которой компонент (А) содержится в количестве от 0,01 до 20 мас.%, в частности от 0,01 до 10 мас.%, в пересчете на компонент (Б).

6. Фотополимеризующаяся композиция по п.4, включающая в дополнение к компонентам (А) и (Б) сенсибилизатор (В).

7. Способ отверждения фотополимеризующейся композиции путем проведения катализируемых основаниями реакций, который включает воздействие на композицию по одному из пп.4-6 излучением, длина волны которого составляет от 200 до 650 нм.

8. Способ по п.7, в котором во время или после воздействия излучением проводят нагревание.

9. Применение соединения формулы I, как оно охарактеризовано в п.4, в качестве фотоинициатора для фотохимически индуцированных, катализированных основаниями реакций полимеризации, присоединения или замещения.

10. Применение соединения формулы I, как оно охарактеризовано в п.4, в качестве фотоинициатора для получения покрытий.

11. Способ отверждения фотополимеризующейся композиции по одному из пп.7 и 8, предназначенный для получения покрытий.

Описание изобретения к патенту

Текст описания приведен в факсимильном виде. фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419 фотоактивируемые азотистые основания, фотополимеризующиеся композиции   и применение, патент № 2332419

Класс C07D487/04 орто-конденсированные системы

5-метил-6-нитро-7-оксо-4,7-дигидро-1,2,4-триазоло[1,5-альфа]пиримидинид l-аргининия моногидрат -  патент 2529487 (27.09.2014)
хиназолиноны как ингибиторы пролилгидроксилазы -  патент 2528412 (20.09.2014)
новое производное пиразол-3-карбоксамида, обладающее антагонистической активностью в отношении рецептора 5-нт2в -  патент 2528406 (20.09.2014)
6-замещенные 3-азолилимидазо[1,2-b][1,2,4,5]тетразины, проявляющие противоопухолевую активность -  патент 2527258 (27.08.2014)
гетероциклические соединения и способы применения -  патент 2525116 (10.08.2014)
соединения азаазулена -  патент 2524202 (27.07.2014)
замещенные пиразоло[1,5-a]пиримидиновые соединения как ингибиторы трк киназы -  патент 2523544 (20.07.2014)
соли производных тетерагидро-имидазо[1,5-a]пиразина, способы их получения и их медицинское применение -  патент 2523543 (20.07.2014)
замещенные аминоинданы и их аналоги, и их применение в фармацевтике -  патент 2522586 (20.07.2014)
способы и композиции для стимулирования нейрогенеза и ингибирования дегенерации нейронов с использованием изотиазолопиримидинонов -  патент 2521333 (27.06.2014)

Класс C07D519/00 Гетероциклические соединения, содержащие несколько систем из двух или более релевантных гетероциклических колец, конденсированных непосредственно или с общей карбоциклической системой, не отнесенные к группам  453/00 или  455/00

производные 5-амино-2-(1-гидроксиэтил)тетрагидропирана -  патент 2525541 (20.08.2014)
производные 2,3-дигидро-1н-инден-1-ил-2,7-диазаспиро[3.5]нонана и их применение в качестве антагонистов или обратных агонистов грелинового рецептора -  патент 2524341 (27.07.2014)
n-7 замещенные пурины и пиразолопиримидины, их композиции и способы применения -  патент 2515541 (10.05.2014)
оксазолопиримидины как агонисты рецептора edg-1 -  патент 2503680 (10.01.2014)
пирролопиразиновые ингибиторы киназы -  патент 2503676 (10.01.2014)
поизводные оксазолидинона -  патент 2501799 (20.12.2013)
замещенные гетероциклом пиперазинодигидротиенопиримидины -  патент 2500681 (10.12.2013)
новый моногидрат производного нафтиридина и способ его получения -  патент 2485127 (20.06.2013)
соединения хинолина, пригодные для лечения нарушений, являющихся ответом на модуляцию рецептора 5-ht6 серотонина -  патент 2483068 (27.05.2013)
конденсированное гетероциклическое соединение -  патент 2480473 (27.04.2013)

Класс G03F7/004 светочувствительные материалы

светочувствительная полимерная композиция, способы получения структуры и головка для подачи жидкости -  патент 2526258 (20.08.2014)
фотополимеризующаяся композиция для печати по текстильным материалам -  патент 2472197 (10.01.2013)
индикаторы дозы уф-излучения -  патент 2453886 (20.06.2012)
новые материалы для покрытий офсетных печатных форм, офсетные печатные формы и покрытия, содержащие эти материалы, способы получения и применение -  патент 2443683 (27.02.2012)
фотоотверждаемые композиции для получения абс-подобных изделий -  патент 2431879 (20.10.2011)
способ изготовления прецизионных оптических шкал методом фотолитографии с запуском (варианты) -  патент 2430391 (27.09.2011)
композиции с высоким удельным сопротивлением -  патент 2408041 (27.12.2010)
термореактивные, ик-поглощающие полимеры и их использование в термочувствительной офсетной печатной форме -  патент 2387676 (27.04.2010)
необратимые светочувствительные органические системы на основе производных хромона для фотоники -  патент 2374237 (27.11.2009)
фоточувствительная смола для гравируемой лазером печатной матрицы -  патент 2327195 (20.06.2008)
Наверх