способ определения дрейфовой подвижности полупроводников

Классы МПК:H01L21/66 испытания или измерения в процессе изготовления или обработки
G01N27/00 Исследование или анализ материалов с помощью электрических, электрохимических или магнитных средств
G01N21/00 Исследование или анализ материалов с помощью оптических средств, те с использованием инфракрасных, видимых или ультрафиолетовых лучей
Автор(ы):, ,
Патентообладатель(и):Институт физики Дагестанского научного центра РАН (RU)
Приоритеты:
подача заявки:
2002-08-05
публикация патента:

Изобретение относится к области полупроводниковой техники и электроники. Предложен способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, основанный на измерении времени достижения максимального (пикового) значения диффузионно-дрейфового тока неравновесных носителей, возбуждаемых короткими импульсами света из области сильного поглощения через один из контактов. При условии превышения дрейфового потока над диффузионным подвижность способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913 может быть вычислена по формуле: способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913=d 2(2Utmax)-1, где d - расстояние между контактами, U - приложенное напряжение, tmax - время достижения пикового значения фототока. В результате упрощаются измерения с использованием принципиально нового подхода к определению дрейфовой подвижности полупроводников. 2 ил.

способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913

способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913 способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913

Формула изобретения

Способ определения дрейфовой подвижности способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913 Е полупроводников, отличающийся тем, что на противоположных гранях образца в виде плоскопараллельной пластинки располагают два омических контакта, один из которых - прозрачный - выполнен в виде тонкой медной сетки, покрытой с обеих сторон слоями индия и прижатой между образцом и кварцевым стеклом с помощью диафрагмы, измеряют расстояние между контактами d (толщину образца), прилагают к контактам электрическое напряжение U, облучают образец через диафрагму и прозрачный контакт короткими (порядка 10-8 с) импульсами света из области сильного поглощения (способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913=0,337 мкм), стробоскопическим методом регистрируют изменение фототока со временем, находят время tmax достижения пикового значения фототока, изменяя U строят график зависимости t mах от U до прохождения участка с максимальной скоростью его спада, выбирают выше этого участка соответствующие друг другу значения tmax и U и по формуле способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913 Е=d2(2Utmax)-1 вычисляют дрейфовую подвижность.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к области полупроводниковой техники и электроники, может быть использовано в научно-исследовательских институтах и технологических лабораториях.

Для измерения подвижности полупроводников в основном используется метод, основанный на эффекте Холла. Этот метод встречается с большими трудностями, когда необходимо измерять подвижность высокоомных образцов (R>10 7 Ом), поскольку здесь требуются очень сильные постоянные магнитные поля, а также при измерениях в магнитных материалах, так как трудно адекватно оценить, в каких реально магнитных полях происходит перемещение носителей тока в материалах со спонтанной намагниченностью. Другие непосредственные способы определения дрейфовой подвижности [1, 2], основанные на использовании световых или инжекционных зондов, от которых неравновесные неосновные носители через какое-то время доходят до запирающего контакта, что фиксируется с помощью осциллографа, как правило, требует значительно больших дрейфовых и диффузионных длин, а значит, и подвижности.

Так, в [1] описан способ определения дрейфовой подвижности, основанный на инжекции в одном конце нитевидного кристалла неосновных носителей, которые, двигаясь во внешнем электрическом поле U, доходят до коллектора, представляющего собой обратно включенный запирающий контакт. Осциллографом определяется интервал времени t между началом движения электронного пакета “наводкой от инжектирования” и приходом их к коллектору, что проявляется в виде второго пика. Зная расстояние l между точкой инжекции и коллектором определяют подвижность способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913 как способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913=l 2(tU)-1.

Для материалов с малыми подвижностями (способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913<1 см2B-1с-1) приходится световой или инжекционный зонд и запирающий контакт устанавливать на очень близком расстоянии, что не исключает попадания рассеянного света в промежуток между зондом и запирающим контактом, а в случае инжекционного зонда случайных коротких замыканий.

Техническим результатом данного изобретения является разработка принципиально нового способа определения дрейфовой подвижности полупроводников, лишенного выше приведенных ограничений.

С этой целью для возбуждения неравновесных носителей была выбрана конфигурация освещения короткими импульсами из области сильного поглощения через один из электрических контактов. Схема освещения образца приведена на фиг.1а. Образец 1, к которому нанесен омический контакт 2, припаян к сапфировой пластинке 3 с нанесенным слоем индия 4. Пластинка 3 прикреплена к хладопроводу 5 оптического криостата. Прижим обеспечивался диафрагмой 6 через кварцевое стекло 7. Тонкая медная сетка 8, напыленная индием с обеих сторон, зажималась между образцом и кварцевым стеклом. Эта сетка выполняет роль прозрачного контакта. Возбуждение производилось лазером ЛГИ-21 (способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913=0,337 мкм) с длительностью импульсов 10-8 с. Используя технику стробоскопического интегрирования [3], записывались формы импульсов фототока, проявляющиеся вслед за импульсами света при синхронном включении интегратора и лазера (фиг.1б). Импульсы тока имеют колоколобразную форму с резко выраженными максимальными значениями. Время tmах достижения максимального значения тока в сотни раз превышает длительность импульсов света. Как показал проведенный нами вычислительный эксперимент, это время во внешних электрических полях, приводящих к подавлению диффузионных потоков дрейфовыми, связано с подвижностью способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913 носителей по формуле:

способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913

где d - размер образца от контакта до контакта, U - разность потенциалов, при которой наблюдается импульс тока. Формула (1) справедлива при выполнении условия:

способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913

где lE - дрейфовая длина; lD - диффузионная длина.

Для проведения вычислительного эксперимента формула распределения концентрации способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913n неравновесных носителей при данной конфигурации и режимах возбуждения, приведенная в [4]

способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913

использовалась нами для нахождения тока:

способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913

где t - текущее время; х - координата, отсчитываемая от освещаемого контакта на торце образца к неосвещаемому контакту; способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913 - время жизни неравновесных носителей; S - площадь поперечного сечения образца; D - коэффициент диффузии; Ex - проекция напряженности электрического поля на ось x; е - величина заряда электрона.

Переходя к безразмерных величинам

способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913

выражение (4) запишем в следующем виде:

способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913

Исследовать выражение (6) аналитически не удается, так как производная от него содержит аналитически невычисляемый интеграл. Поэтому вычисления производились с использованием ЭВМ. Расчеты при дискретных значениях L и В показывают, что кривая I(T) имеет такую же форму, как и на фиг.1б, и притом зависимость времени максимума Tmax=tmax/способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913 от L при Вспособ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 22399131, то есть при условии (2), имеет линейный характер с тангенсом угла наклона 1/2:

способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913

Зависимость Tmax от В для любых L имеет форму кривой насыщения, и стационарное значение Тmax равно половине L для данной кривой.

Подставляя (5) в (7), получим выражение (1) для подвижности.

Остается выяснить, какое необходимо взять значение U, чтобы реально удовлетворялось условие (2). Для этой цели, поскольку L и В можно менять, задавая различные значения Е (5), I(Т), вычислялось при различных значениях Е, фиксировалось время Tmах и строилась зависимость T mах(E), которая приведена на фиг.2. Здесь отметим, что способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913 и D задавались в соответствии с соотношением Эйнштейна:

способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913

где k - постоянная Больцмана; способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913 - температура.

Основной результат вычислительного эксперимента заключался в том, что условие (2) выполняется сразу после прохождения зависимости Тmax(Е) через точку С с максимальной скоростью падения (фиг.2). Таким образом, для определения дрейфовой подвижности в реальных образцах следует записать зависимость tmax (U), выбрать значения tmах и U после самого сильного участка спада tmax(U) и по формуле (1) произвести расчет искомой величины.

На фиг.1а приведена схема ячейки для образца, используемая при освещении образца через контакт: 1 - образец, 2 - омический контакт, 3 -сапфировая пластинка, 4 - слой индия, 5 - хладопровод оптического криостата, 6 - диафрагма, 7 - кварцевое стекло, 8 - медная сетка.

На фиг.1б показана зависимость фототока от времени после попадания на образец наносекундного импульса света от лазера ЛГИ-21 при комнатной температуре.

На фиг.2 приведена зависимость безразмерного времени T max достижения максимального значения безразмерного тока от напряженности Е приложенного электрического поля.

Кривая, приведенная на фиг.1б, была получена для CdCr2Se 4 с d=0,1 см при комнатной температуре, то есть выше точки Кюри, и при U=40 В. Максимум этой кривой приходится на t max=36 мкс. Значение подвижности, рассчитанное по формуле (1) для этих данных, равное способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913=3,47 см2В-1с-1, соответствует значению, полученному из холловских измерений способ определения дрейфовой подвижности полупроводников, патент № 2239913=2,8 см2B-1c-1, что можно считать в пределах ошибок измерения достаточно хорошим совпадением.

Источники информации

1. Рывкин С.М. Фотоэлектрические явления в полупроводниках. - М.: Наука, 1963, с.347-360.

2. Haynes J.R., Shockley W. Phys. Rev., 1951, vol.81, p.835.

3. Абдуллаев А.А., Гаджиев А.З. ФТП, 1991, т.25, №1, с.30-34.

4. Зеегер К. Физика полупроводников. - М.: Мир, 1977, с.161.

Класс H01L21/66 испытания или измерения в процессе изготовления или обработки

способ определения мольной доли li2o в монокристаллах linbo3 -  патент 2529668 (27.09.2014)
устройство для сортировки на группы по электрическим параметрам плоских хрупких изделий -  патент 2528117 (10.09.2014)
способ контроля качества алмазных пластин, предназначенных для изготовления детекторов ионизирующих излучений -  патент 2525636 (20.08.2014)
способ обнаружения скрытых дефектов матричных бис считывания -  патент 2523752 (20.07.2014)
термокамера для испытания электронных изделий -  патент 2523098 (20.07.2014)
способ контроля качества светодиодной структуры -  патент 2521119 (27.06.2014)
способ определения электропроводности и толщины полупроводниковых пластин или нанометровых полупроводниковых слоев в структурах "полупроводниковый слой - полупроводниковая подложка" -  патент 2517200 (27.05.2014)
способ контроля дефектности эпитаксиальных слоев кремния на диэлектрических подложках -  патент 2515415 (10.05.2014)
способ увеличения выхода годных при изготовлении высокоплотных электронных модулей -  патент 2511007 (10.04.2014)
способ определения стойкости электронных компонентов и блоков радиоэлектронной аппаратуры к воздействию ионизирующих излучений -  патент 2504862 (20.01.2014)

Класс G01N27/00 Исследование или анализ материалов с помощью электрических, электрохимических или магнитных средств

устройство контроля материалов и веществ -  патент 2529670 (27.09.2014)
прибор контроля трубопровода с двойной спиральной матрицей электромагнитоакустических датчиков -  патент 2529655 (27.09.2014)
способ и устройство для контроля над процессом лечения повреждения -  патент 2529395 (27.09.2014)
способ и устройство для определения доли адсорбированного вещества в адсорбирующем материале, применение устройства для определения или мониторинга степени насыщения адсорбирующего материала, а также применение устройства в качестве заменяемой вставки для поглощения влаги в технологическом приборе -  патент 2529237 (27.09.2014)
способ детекции аналита из раствора на частицах и устройство для его реализации -  патент 2528885 (20.09.2014)
стенд и способ контроля посредством магнитной дефектоскопии вала газотурбинного двигателя -  патент 2528856 (20.09.2014)
способ определения глутатиона в модельных водных растворах методом циклической вольтамперометрии на графитовом электроде, модицифированном коллоидными частицами золота -  патент 2528584 (20.09.2014)
способ анализа многокомпонентной газовой среды герметизированных контейнеров с электронными приборами и устройство для его реализации -  патент 2528273 (10.09.2014)
полупроводниковый газовый датчик -  патент 2528118 (10.09.2014)
способ изготовления чувствительного элемента датчиков газов с углеродными нанотрубками -  патент 2528032 (10.09.2014)

Класс G01N21/00 Исследование или анализ материалов с помощью оптических средств, те с использованием инфракрасных, видимых или ультрафиолетовых лучей

способ определения бензойной кислоты в воде -  патент 2529810 (27.09.2014)
способ определения мольной доли li2o в монокристаллах linbo3 -  патент 2529668 (27.09.2014)
сорбционно-спектрофотометрический способ определения свинца (ii) -  патент 2529660 (27.09.2014)
способ определения палеотемператур катагенеза безвитринитовых отложений по оптическим характеристикам микрофитофоссилий -  патент 2529650 (27.09.2014)
способ определения ориентации кристаллографических осей в анизотропном электрооптическом кристалле класса 3m -  патент 2528609 (20.09.2014)
антенна терагерцового частотного диапазона -  патент 2528243 (10.09.2014)
газоанализатор -  патент 2528129 (10.09.2014)
устройство для определения концентрации гемоглобина и степени оксигенации крови в слизистых оболочках -  патент 2528087 (10.09.2014)
способ определения отклонения угла наклона плоскости поляризации оптического излучения -  патент 2527654 (10.09.2014)
применение бис(2,4,7,8,9-пентаметилдипирролилметен-3-ил)метана дигидробромида в качестве флуоресцентного сенсора на катион цинка(ii) -  патент 2527461 (27.08.2014)
Наверх