фотоприемник (варианты)
Классы МПК: | H01L31/00 Полупроводниковые приборы, чувствительные к инфракрасному излучению, свету, электромагнитному, коротковолновому или корпускулярному излучению, специально предназначенные либо для преобразования энергии такого излучения в электрическую энергию, либо для управления электрической энергией с помощью такого излучения; способы или устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки таких приборов или их частей; конструктивные элементы приборов |
Автор(ы): | Шестаков Н.П., Иваненко А.А., Сысоев А.М. |
Патентообладатель(и): | Институт физики им. Л.В.Киренского СО РАН |
Приоритеты: |
подача заявки:
2001-11-23 публикация патента:
20.02.2004 |
Изобретение относится к оптоэлектронике, голографии, интерферометрии, спектроскопии Фурье и предназначено для электронного измерения пространственно-временного распределения амплитуд и фаз световых волн. Фотоприемник, содержащий фотоэлектрический слой, подложку и подводящие электроды, выполнен из элементов, которые в пределах рабочей площади фотоприемника имеют суммарное пропускание больше 10% и суммарное отклонение от равномерного изменения оптической толщины по рабочей площади и по рабочей длине фотоприемника меньше min/4, а фотоэлектрический слой в пределах рабочей площади фотоприемника имеет оптическую толщину меньше min/2, или больше 0/2 и не кратную 0/2, где min - длина волны коротковолновой границы рабочего спектрального диапазона фотоприемника, 0 - рабочая длина волны фотоприемника. Технический результат - упрощение оптической схемы, уменьшение габаритов оптических приборов. 2 с.п. ф-лы, 7 ил.
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4, Рисунок 5, Рисунок 6, Рисунок 7, Рисунок 8, Рисунок 9, Рисунок 10, Рисунок 11, Рисунок 12, Рисунок 13, Рисунок 14
Формула изобретения
1. Фотоприемник, содержащий тонкопленочный фотоэлектрический слой, подложку и подводящие электроды, отличающийся тем, что состоит из элементов, которые в пределах рабочей площади фотоприемника имеют суммарное пропускание больше 10% и суммарное отклонение от равномерного изменения оптической толщины по рабочей площади и по рабочей длине фотоприемника меньше min/4, а фотоэлектрический слой в пределах рабочей площади фотоприемника имеет оптическую толщину меньше min/2, где min - длина волны коротковолновой границы рабочего спектрального диапазона фотоприемника.2. Фотоприемник, содержащий тонкопленочный фотоэлектрический слой, подложку и подводящие электроды, отличающийся тем, что состоит из элементов, которые в пределах рабочей площади фотоприемника имеют суммарное пропускание больше 10% и суммарное отклонение от равномерного изменения оптической толщины по рабочей площади и по рабочей длине фотоприемника меньше 0/4, а фотоэлектрический слой в пределах рабочей площади фотоприемника имеет оптическую толщину больше 0/2 и не кратную 0/2, где 0 - рабочая длина волны фотоприемника.Описание изобретения к патенту
Текст описания в факсимильном виде (см. графическую часть)иКласс H01L31/00 Полупроводниковые приборы, чувствительные к инфракрасному излучению, свету, электромагнитному, коротковолновому или корпускулярному излучению, специально предназначенные либо для преобразования энергии такого излучения в электрическую энергию, либо для управления электрической энергией с помощью такого излучения; способы или устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки таких приборов или их частей; конструктивные элементы приборов