способ определения параметра асимметрии градиента электрического поля в кристаллах

Классы МПК:G01N24/00 Исследование или анализ материалов с помощью ядерного магнитного резонанса, электронного парамагнитного резонанса или других спин-эффектов
Автор(ы):, ,
Патентообладатель(и):Пермский государственный университет
Приоритеты:
подача заявки:
1999-08-25
публикация патента:

Изобретение относится к радиоспектроскопии, а именно к ЯКР, и может быть использовано при анализе структуры и строения химических соединений. В способе определения параметра асимметрии градиента электрического поля в кристаллах, содержащих квадрупольные ядра, включающем воздействие двухимпульсной последовательностью с временным интервалом способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 между импульсами, с периодом следования То и с частотой заполнения, равной резонансной частоте возбуждаемого перехода, регистрацию сигналов спинового эха в момент времени 2способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 и определение параметра ассиметрии способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387, уменьшают период повторения То до тех пор, пока не наблюдают максимальный сигнал дополнительного эха в момент времени 3способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 и по отношению амплитуд дополнительного эха к основному по приведенной формуле определяют параметр асимметрии при разных временных задержках между импульсами. Техническим результатом изобретения является определения параметра асимметрии в условиях насыщения линии ЯКР без применения магнитного поля. 2 ил.
Рисунок 1, Рисунок 2

Формула изобретения

Способ определения параметра асимметрии градиента электрического поля в кристаллах, содержащих квадрупольные ядра, включающий воздействие двухимпульсной последовательностью с временным интервалом способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 между ними, с периодом повторения Т0 и с частотой заполнения, равной резонансной частоте возбуждаемого перехода, регистрацию сигналов спинового эха в момент времени 2способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 и определение параметра асимметрии ГЭП способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387, отличающийся тем, что уменьшают период повторения Т0 импульсной последовательности до тех пор, пока не наблюдают сигнал дополнительного эха в момент времени 3способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 и определяют параметр асимметрии по формуле

способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387

где m1 и m2 - отношение амплитуд дополнительного к основному эха при разных временных задержках способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 21513871 и способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 21513872 между импульсами.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к радиоспектроскопии, в частности к ядерному квадрупольному резонансу (ЯКР), и может быть использовано при анализе структуры и строения химических соединений.

Известен способ определения параметра асимметрии градиента электрического поля (ГЭП) в кристаллах, содержащих квадрупольные ядра, включающий воздействие двухимпульсной последовательностью с временным интервалом способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 между ними, с периодом повторения T0 (T0 способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 6T2, T1) и с частотой заполнения, равной резонансной частоте возбуждаемого перехода, и постоянным внешним магнитным полем, регистрацию сигналов эха и анализ формы линии ЯКР, полученной после преобразования Фурье, огибающей спинового эха /1/ - Ю.Е. Сапожников, Я.Б. Ясман / Влияние асимметрии тензора ГЭП на огибающую квадрупольного спинового эха в магнитном поле // Изв. АН СССР. Сер.физ. 1978. Т.42.С. 2148-2151.

Данный способ имеет недостатки:

1.) сложен, из-за того, что необходимо использование внешнего магнитного поля;

2.) ограниченный диапазон (0,03-0.4) определяемой величины;

3. ) не позволяет определять величину параметра асимметрии в условиях насыщения линии ЯКР.

Известен также способ определения параметра асимметрии градиента электрического поля (ГЭП) в кристаллах, содержащих квадрупольные ядра, включающий воздействие двухимпульсной последовательностью с временным интервалом способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 между ними, с периодом повторения T0 (T0 способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 6T2, T1) и с частотой заполнения, равной резонансной частоте возбуждаемого перехода, регистрацию сигналов эха в момент времени 2 способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 и определение асимметрии ГЭП способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 по характерным параметрам модуляционного эффекта, полученного при изменении длительностей возбуждающих импульсов. /2/-Патент РФ N2131121, МПК G 01 N 24/00. Способ определения параметра асимметрии градиента электрического поля в кристаллах. // А. С. Ажеганов, И. В. Золотарев, А.С. Ким // 1999. БИ N 15. Он взят нами за прототип.

Данный способ имеет недостаток - он не позволяет определять параметр асимметрии в условиях насыщения линии ЯКР.

Задачей данного изобретения является разработка способа определения параметра асимметрии градиента электрического поля в кристаллах в условиях насыщения линии ЯКР.

Эта задача решается с помощью существенных признаков, указанных в формуле изобретения: общих с прототипом - способ определения параметра асимметрии градиента электрического поля в кристаллах, содержащих квадрупольные ядра, включающий воздействие двухимпульсной последовательностью с временным интервалом способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 между ними, с периодом повторения T0 и с частотой заполнения, равной резонансной частоте возбуждаемого перехода, регистрацию сигналов эха в момент времени 2 способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 и определение параметра асимметрии ГЭП способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 и отличительных от наиболее близкого аналога существенных признаков - уменьшают период повторения T0 импульсной последовательности до тех пор, пока не наблюдают сигнал дополнительного эха в момент времени 3 способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 и определяют параметр асимметрии по формуле

способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387

где m1 и m2 - отношения амплитуд дополнительного к основному эха при разных временных задержках способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 21513871 и способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 21513872 между импульсами.

Ниже раскрывается наличие причинно-следственной связи с совокупностью существенных признаков заявляемого изобретения с достигаемым результатом.

Во-первых, впервые предложен способ определения параметра асимметрии градиента электрического поля в условиях насыщения линии ЯКР.

Во-вторых, предложенный способ позволяет определять необходимый параметр в пределах от нуля до единицы.

Анализ всех отличительных признаков предлагаемого изобретения показал, что изобретательский уровень высок - раньше такие приемы не использовались для решения такой задачи.

Способ реализован с помощью устройства, описанного в а.с. N1132207, МПК G 01 N 4/10, 1984. Бюл. N48.

На фиг. 1 приведена импульсная программа, которая используется при реализации способа, на фиг.2 приведены огибающие сигналов основного (2способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387) и дополнительного эха (3способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387) в KReO4 (резонанс ядер 187Re, J=5/2, T=77K, переход 3/2-5/2, способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 = 55.651 МГц, T0=700 мксек, T1=4800 мксек, T2=390 мксек).

Рассмотрим реализацию предлагаемого изобретения. Экспериментальное наблюдение обычного квадрупольного спинового эха предполагает периодическое воздействие на образец, содержащий квадрупольные ядра, двухимпульсной последовательностью с временным интервалом способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 между первым и вторым импульсами с периодом повторения T0 (T0 способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387 6(T2, T1), где T2 и T1 - времена поперечной и продольной релаксации возбуждаемого перехода). Частота заполнения РЧ импульсов равна частоте возбуждаемого перехода. Регистрацию сигналов спинового эха проводят на этой же частоте в момент времени 2 способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387. После этого уменьшают период повторения T0 двухимпульсной последовательности до тех пор, пока не наблюдают сигнал дополнительного эха в момент времени 3 способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387. При этом значении периода повторения T0 двухимпульсной последовательности регистрируют амплитуды основного (2способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387) и дополнительного (3способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387)зха при разных значениях способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387.

Параметр асимметрии определяют по формуле

способ определения параметра асимметрии градиента   электрического поля в кристаллах, патент № 2151387

Находим, что в условиях насыщения линии ЯКР (переход 3/2-5/2, ядер 187Re, T=77 K) параметр асимметрии в KReO4 в среднем равен 0.625.

Таким образом, данный способ позволяет определять параметр асимметрии градиента электрического поля в кристаллах (поликристаллах) в условиях насыщения линии ЯКР.

Класс G01N24/00 Исследование или анализ материалов с помощью ядерного магнитного резонанса, электронного парамагнитного резонанса или других спин-эффектов

устройство для воздействия инфракрасным излучением на коллагеновый слой кожи человека с визуализацией процесса -  патент 2527318 (27.08.2014)
мрт с гиперполяризационным устройством, использующим фотоны с орбитальным угловым моментом -  патент 2526895 (27.08.2014)
способ дистанционного обнаружения вещества -  патент 2526594 (27.08.2014)
способ оценки качества кварцевого сырья -  патент 2525681 (20.08.2014)
способ оперативного контроля качества нефти и нефтепродуктов -  патент 2519496 (10.06.2014)
импульсная последовательность для измерения параметров самодиффузии методом ядерного магнитного резонанса -  патент 2517762 (27.05.2014)
способ геохимической разведки для геоэкологического мониторинга морских нефтегазоносных акваторий -  патент 2513630 (20.04.2014)
способ дистанционного обнаружения вещества -  патент 2510015 (20.03.2014)
способ определения содержания твердого жира по данным ямр-релаксации -  патент 2506573 (10.02.2014)
способ определения содержания твердого жира по данным ямр-релаксации, прямой метод -  патент 2506572 (10.02.2014)
Наверх