катодный узел

Классы МПК:C23C14/35 с использованием магнитного поля, например распыление магнетроном
Автор(ы):, , , ,
Патентообладатель(и):Московский государственный институт электроники и математики (технический университет)
Приоритеты:
подача заявки:
1993-03-22
публикация патента:

Задача повышения равномерности магнитного поля решается тем, что магнитная система выполнена в виде электромагнитов с замкнутым магнитным полем, каждый электромагнит содержит катушку индуктивности и сердечник, один конец которого связан с общим ярмом, а другой - с общим наконечником, число электромагнитов не менее трех и каждый из них имеет автономную систему питания. Устройство используется для нанесения тонких пленок в вакууме. 3 ил.
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3

Формула изобретения

Катодный узел, содержащий электрод-мишень, конструктивно связанную с ним магнитную систему с полюсными наконечниками, отличающийся тем, что магнитная система выполнена в виде электромагнитов с общим ярмом и общим наконечником, имеющих автономную систему питания каждого элетромагнита, причем количество электромагнитов не менее трех.

Описание изобретения к патенту

Изобретение касается нанесения тонких пленок в вакууме, более конкретно катодных узлов.

Известен катодный узел [1] содержащий катод, мишень, анод, магнитную систему, нагреватель, расположенный со стороны анода, противолежащей рабочей поверхности катода.

Недостатком аналога является неравномерность индукции по всей длине магнитной системы, что приводит к неравномерности нанесения тонкой пленки на поверхность подложки.

Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату является катодный узел [2] содержащий электрод-мишень конструктивно с ним взаимосвязанную магнитную систему, экраны и элементы охлаждения и напуска газа.

Недостатком прототипа является то, что в магнитной системе индукция поля неравномерна, что приводит к неравномерности нанесения тонкой пленки на поверхность подложки.

Задача изобретения повысить равномерность магнитного поля по всей длине магнитной системы.

Эта задача решается тем, что магнитная система выполнена в виде электромагнитов с замкнутым магнитным полем, каждый электромагнит содержит катушку индуктивности и сердечник, один конец которого связан с общим ярмом, а другой с общим наконечником, число электромагнитов не менее трех и каждый из них имеет автономную систему питания.

Введение в катодный узел электромагнитов с автономной системой питания, общим ярмом и наконечником обеспечивает возможность регулирования величины индукции на различных участках магнитной системы, что и позволяет достичь высокой равномерности магнитного поля по всей длине магнитной системы.

На фиг. 1 показан общий вид катодного узла; на фиг. 2 схема магнитной системы; на фиг. 3 продольный разрез магнитной системы.

Катодный узел содержит электрод-мишень 1, конструктивно с ним взаимосвязанную магнитную систему 2, экраны 3, элементы охлаждения 4 и напуска газа 5. Магнитная система 2 выполнена в виде электромагнитов 6 с замкнутым магнитным полем. Каждый электромагнит 6 содержит катушку индуктивности 7 и сердечник 8, один конец 9 которого связан с общим ярмом 10, а другой 11 с общим наконечником 12, число электромагнитов 6 не менее трех и каждый из них имеет автономную систему питания 13.

Катодный узел работает следующим образом. При выполнении технологического процесса напыления на электромагниты 6 подается напряжение U1, U2,Un. Величина этих напряжений регулируется в зависимости от требуемой равномерности и величины рабочей индукции.

Применение предлагаемого катодного узла позволяет повысить равномерность и обеспечивает возможность регулирования величиной магнитной индукции поля магнитной системы.

Источники информации:

1. Заявка ФРГ N 3619194, С 23 С 14/34, 1987.

2. Б.С.Данилин.Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. М. Энергоатомиздат, 1989, с.72-74.

Класс C23C14/35 с использованием магнитного поля, например распыление магнетроном

магнитный блок распылительной системы -  патент 2528536 (20.09.2014)
способ защиты поверхности алюминия от коррозии -  патент 2522874 (20.07.2014)
устройство для ионно-плазменного нанесения многокомпонентных пленок в вакууме -  патент 2522506 (20.07.2014)
терморегулирующий материал, способ его изготовления и способ его крепления к поверхности корпуса космического объекта -  патент 2515826 (20.05.2014)
способ транспортировки с фильтрованием от макрочастиц вакуумно-дуговой катодной плазмы и устройство для его осуществления -  патент 2507305 (20.02.2014)
способ получения электропроводящего текстильного материала -  патент 2505256 (27.01.2014)
распылительный узел плоского магнетрона -  патент 2500834 (10.12.2013)
способ получения прозрачного проводящего покрытия из оксида металла путем импульсного высокоионизирующего магнетронного распыления -  патент 2499079 (20.11.2013)
способ вакуумно-плазменного осаждения покрытия на режущую пластину из твердосплавного материала -  патент 2494173 (27.09.2013)
способ получения градиентного каталитического покрытия -  патент 2490372 (20.08.2013)
Наверх