способ напуска газа в вакуумную камеру

Формула изобретения

1. Способ напуска газа в вакуумную камеру, включающий пропускание газа через проницаемую стенку, отличающийся тем, что в качестве проницаемой стенки используют стенку из пористого материала с эффективными адсорбционными свойствами, выполненную с возможностью регулирования ее температуры.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в качестве пористого материала используют цеолит.

3. Способ по пп.1 и 2, отличающийся тем, что регулирование температуры осуществляют посредством систем нагрева и/или охлаждения, расположенных в стенке.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к области технологической обработки материалов в вакууме, а более конкретно к способам "мягкого" напуска газа в вакуумную камеру.

Известен способ "мягкого" напуска газа в вакуумную камеру [1] путем использования независимых каналов подачи газа.

Недостатком аналога является невозможность обеспечения равномерности подачи газа по всей поверхности обрабатываемого материала при регулировании потока газа.

Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату является способ "мягкого" напуска газа в вакуумную камеру [2] путем использования проницаемой для газообразных веществ стенки.

Недостатком прототипа является также невозможность обеспечения равномерности подачи газа по всей поверхности материала при регулировании потока газа.

В основу изобретения положена задача обеспечить равномерность подачи газа по всей поверхности обрабатываемого материала при регулировании потока газа.

Эта задача решается тем, что в качестве проницаемой стенки используют стенку из пористого материала с эффективными адсоpбционными свойствами, выполненную с возможностью регулирования ее температуры; в качестве пористого материала используют цеолит; регулирование температуры осуществляют посредством системы нагрева и/или охлаждения, расположенных в стене.

Введение в способ напуска газа в вакуумную камеру пористого материала с эффективными адсорбционными свойствами и систем нагрева и охлаждения обеспечивает условия, при которых газовый поток, проходящий через стенку из такого материала будет задерживаться или пропускаться в зависимости от режима работы, что и позволяет достичь положенную в основу изобретения задачу - обеспечить равномерность подачи газа по всей поверхности обрабатываемого материала при регулировании потока газа.

Сопоставительный анализ заявляемого способа напуска газа в вакуумную камеру и прототипа показывает, что предлагаемое техническое решение соответствует критерию изобретения "новизна".

Сравнение заявляемого решения не только с прототипом, но и с другими техническими решениями в данной области техники позволило выявить в нем совокупность признаков, отличающих заявляемое техническое решение от прототипа, что позволяет сделать вывод о соответствии критерию "существенные отличия".

Сущность способа и схема реализующего его устройства поясняется фиг. 1.

Устройство, реализующее способ (фиг. 1), содержит стенку 1 из пористого материала 2 с эффективными адсорбционными свойствами, например, цеолита 3. В стенке 1 из пористого материала 2 располагают систему охлаждения 4 и нагрева 5.

Способ реализуется следующим образом.

Поток газа направляют в сторону стенки 1 из пористого материала 2 и осуществляют газоподачу через цеолит 3. Для уменьшения газового потока через стенку 1 цеолит 3 охлаждают с помощью системы охлаждения 4, при этом происходит следующее:

1. Поры в материале 2 уменьшаются в размерах.

2. Эффект адсорбции возрастает.

3. Диффузия уменьшается, за счет заполнения пор молекулами воздуха.

Для увеличения газового потока через стенку 1 цеолит 3 нагревают с помощью системы нагрева 5, при этом происходит следующее:

1. Поры в материале 2 увеличиваются в размерах.

2. Эффект адсорбции снижается.

3. Диффузия возрастает, за счет увеличения диаметра проходных отверстий пор.

Применение предлагаемого способа напуска газа в вакуумную камеру обеспечивает равномерность подачи газа по всей поверхности обрабатываемого материала при регулировании потока газа.