способ очистки галлия от примесей

Классы МПК:C22B58/00 Получение галлия или индия
Автор(ы):,
Патентообладатель(и):Мельников Юрий Тихонович,
Веприкова Евгения Владимировна
Приоритеты:
подача заявки:
1992-12-16
публикация патента:

Изобретение относится к способу очистки галлия от примесей, обработкой в растворе смеси соляной и азотной кислот при повышенной температуре и перемешивании. Сущность: обработку ведут однократно в растворе, содержащем 30-35 г/л НCl и 5 г/л НNO3.

Формула изобретения

Способ очистки галлия от примесей, включающий обработку в растворе смеси соляной и азотной кислот при повышенной температуре и перемешивании, отличающийся тем, что обработку ведут однократно в растворе, содержащем 30 - 35 г/л соляной кислоты и 5 г/л азотной кислоты.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к области получения материалов высокой чистоты, в частности к способу очистки галлия от различных примесей.

Известен способ очистки галлия от примесей, предусматривающий обработку металла поочередно растворами НNO3 и НСl, разбавленными 1:3. Процесс ведут при температуре 60-70 град. C в течение 15 мин.

Недостатком известного способа является большая потеря галлия (3-5%) на стадии очистки [1]

Наиболее близким техническим решением является способ очистки галлия от примесей, предусматривающий обработку металла смесью кислот (НСl-НNO3 или НСl-НNO32SO4) при температуре 40-70 град. C в условиях перемешивания [2]

Данное решение выбрано в качестве прототипа. Однако известный способ имеет следующие недостатки. Для получения металлического галлия со степенью чистоты 99,9999% необходимо многократное повторение операции кислотной промывки, что приводит к значительным потерям галлия (до 10%).

Целью предложенного способа является обеспечение высокой степени очистки галлия от примесей и снижение потерь основного металла путем однократной кислотной очисткой в смеси соляной и азотной кислот.

Поставленная цель достигается тем, что в способе черновой галлий после фильтрации обрабатывается в смеси соляной и азотной кислоты с концентрацией 30-35 г/л НСl и 5 г/л НNO3. Процесс ведут при температуре 40-50 град. C в условиях перемешивания.

Снижение концентрации ЕСl ниже 30 г/л требует увеличения времени проведения процесса с целью достижения необходимой степени очистки, что сопровождается увеличением потерь галлия за счет его растворения в реакционной смеси, что технологически нецелесообразно.

Увеличение содержания HCl в растворе выше 35 г/л позволяет снизить продолжительность процесса очистки, но в этом случае повышается растворимость металлического галлия в реакционной смеси, что неприемлемо.

Аналогично повышение и понижение концентрации НNO3 (5 г/л) приводит в возрастанию потерь основного металла за счет увеличения продолжительности процесса и повышения скорости растворения галлия в смеси НCl-НNO3 соответственно.

Сопоставительный анализ заявляемого решения с прототипом показывает, что предлагаемый способ отличается от известного тем, что кислотную очистку галлия от примесей приводят в одну стадию, причем концентрация используемых кислот значительно ниже, чем принимается в известном решении. Таким образом, заявляемое техническое решение соответствует критерию изобретения "новизна".

ПРИМЕР 1. Металлический Ga, содержащий, Al 1способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-3, Zn - 1способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-2, в количестве 5 г помещали в 150 мл смеси НCl (35 г/л) - НNO3 (5 г/л) и выдерживали при температуре 50 град. C в течение 30 мин в условиях перемешивания. Содержание примесей составило: Al - 3способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-7% Zn 4способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-7% Потери галлия составили 1,25%

ПРИМЕР 2. Металлический Ga (состав указан в примере 1) в количестве 5 г поместили в реакционную смесь НCl (30 г/л) HNO3 (5 г/л) и выдерживали при температуре 50 град. C в течение 60 мин в условиях перемешивания. Содержание примесей составило: Al 1способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-7, Zn - 1,5способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-7% Потери галлия составили 1,5%

ПРИМЕР 3. Металлический Ga (состав указан в примере 1) в количестве 5 г поместили в реакционную смеси НCl (25 г/л) НNO3 (5 г/л) и выдерживали при температуре 50 град. С в течение 60 мин в условиях перемешивания. Содержание примесей составило: Al 5,38способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-6% Zn - 6,15способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-7% Потери галлия составили 0,6%

ПРИМЕР 4. Металлический Ga (состав указан в примере 1) в количестве 5 г поместили в реакционную смесь НСl (50 г/л) НNO3 (5 г/л) и выдерживали при температуре 50 град. В течение 30 мин в условия перемешивания. Содержание примесей составило Al 4способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-7% Zn 5способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-7% Потери галлия составили 9,5%

ПРИМЕР 5. Металлический Ga (состав указан в примере 1) в количестве 5 г поместили в реакционную смесь НCl (35 г/л) НNO3 (10 г/л) и выдерживали при температуре 50 град. С в течение 30 мин в условиях перемешивания. Содержание примесей составило: Аl 2способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-7% Zn - 3способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-7% Потери галлия составили 3,8%

ПРИМЕР 6. Металлический Ga (состав указан в примере 1) в количестве 5 г поместили в реакционную смесь НCl (35 г/л) НNO3 (2,5 г/л) и выдерживали при температуре 50 град. С в течение 30 мин в условиях перемешивания. Содержание примесей составило: Al 1,2способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-5% Zn - 2,9способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-6% Потери галлия составили 0,41%

ПРИМЕР (прототип). Металлический Ga (состав указан в примере 1) в количестве 5 г поместили в реакционную смесь НCl (100 г/л) НNO3 (50 г/л) и выдерживали при температуре 50 град. C в течение 15 мин в условиях перемешивания. Содержание примесей составило: Al 4,2способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-7% Zn - 5,09способ очистки галлия от примесей, патент № 207059410-7% Потери галлия составили 3,5%

Металл после I стадии очистки подвергли повторной операции при аналогичных условиях.

Расход галлия на II стадии составил 5,8%

Общий расход галлия составил 9,3%

Сопоставление и анализ примеров 1-7 позволяет сделать вывод, что использование предлагаемого способа позволяет достичь приемлемой глубины очистки галлия (99.9999%) от примесей и сократить потери галлия в результате осуществления однократной кислотной очистки.

Класс C22B58/00 Получение галлия или индия

способ получения индия высокой чистоты -  патент 2507283 (20.02.2014)
способ извлечения галлия из летучей золы -  патент 2507282 (20.02.2014)
способ извлечения галлия из летучей золы -  патент 2506332 (10.02.2014)
электролизер для извлечения индия из расплава индийсодержащих сплавов -  патент 2463388 (10.10.2012)
способ извлечения индия из отходов сплавов, электролит для извлечения индия из отходов сплавов и аппарат для осуществления способа -  патент 2400548 (27.09.2010)
способ экстракционного извлечения индия из сернокислых растворов -  патент 2359050 (20.06.2009)
электролизер для выделения галлия из растворов -  патент 2346085 (10.02.2009)
способ извлечения галлия из отходов электролитического рафинирования алюминия -  патент 2346067 (10.02.2009)
аппарат для цементации галлия галламой алюминия -  патент 2344185 (20.01.2009)
способ извлечения галлия из щелочных растворов цементацией галламой алюминия -  патент 2343215 (10.01.2009)
Наверх