устройство для светолучевой обработки

Классы МПК:B23K1/005 пайка с использованием лучистой энергии
Автор(ы):, ,
Патентообладатель(и):Научно-производственная фирма "МГМ"
Приоритеты:
подача заявки:
1992-06-15
публикация патента:

Использование: изобретение относится к оборудованию для светолучевой обработки и может быть применено при пайке. Сущность изобретения: устройство содержит отражатель, в излучающем фокусе которого установлен дуговой источник света. Отражатель состоит из основных элементов, соединенных посредством сферического элемента, меньшим своим диаметром сопряженного с одним из основных элементов, большим основанием - с другим элементом. Фокус отражателя, в котором помещен дуговой источник света, расположен между вершиной элемента, в котором установлен источник света, и плоскостью его сопряжения со сферическим элементом отражателя. Устройство обеспечивает охват светового потока отражателем свыше 180устройство для светолучевой обработки, патент № 2062684, уменьшается доля участия сферы в формировании светового пучка, обеспечивается охват светового потока отражателем в целом до 300устройство для светолучевой обработки, патент № 2062684, что увеличивает КПД. 1 ил.
Рисунок 1

Формула изобретения

Устройство для светолучевой обработки, содержащее отражатель, состоящий из двух основных элементов с отражающей поверхностью в виде части эллипсоида, и дуговой источник света, установленный в одном из фокусов отражателя, отличающееся тем, что дно снабжено дополнительным элементом, смонтированным между двумя основными, с отражающей поверхностью в виде части сферы, большим своим диаметром сопряженной с элементом, установленным со стороны размещения дугового источника света, при этом эта поверхность сопряжения расположена ниже дугового источника света.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к оборудованию для светолучевой обработки и может найти применение для пайки световым лучом различных изделий электротехнической промышленности.

Известно устройство для пайки, содержащее отражатель, нагревательный элемент, расположенный в фокусе отражателя, и механизм для регулирования светового потока (1).

Наиболее близким к данному изобретению является известное устройство для светолучевой обработки, содержащее отражатель, состоящий из двух основных элементов с отражающей поверхностью в виде части эллипсоида, и дуговой источник света, установленный в одном из фокусов отражателя (2).

Недостатком этого устройства является недостаточный угол охвата одного из элементов отражателя и сравнительно большая доля участия отражателя в формировании светового пучка, что вызывает нерациональное использование излучения источника света и повышенные потери света в оптической системе.

Целью изобретения является повышение КПД оптической системы устройства.

Для этого устройство для светолучевой обработки, содержащее отражатель, состоящий из двух основных элементов с отражающей поверхностью в виде части эллипсоида, и дуговой источник света, установленный в одном из фокусов отражателя, снабжено дополнительным элементом, смонтированным между двумя основными с отражающей поверхностью в виде части сферы, большим своим диаметром сопряженной с элементом, установленным со стороны размещения дугового источника света, при этом эта поверхность сопряжения расположена ниже дугового источника света.

На чертеже представлена схема устройства.

Устройство для светолучевой обработки содержит отражатель 1, состоящий из двух основных элементов 2 и 3 с отражающей поверхностью в виде части эллипсоида и дополнительного элемента 4 с отражающей поверхностью в виде части сферы. Этот дополнительный элемент 4 сопряжен большим своим диаметром с элементом 3, в фокусе f1 которого установлен дуговой источник света 5. Поверхность сопряжения элемента 4 с элементом 3 расположена ниже дугового источника 5. Это обеспечивает увеличение угла охвата элемента 3 отражателя 1 2устройство для светолучевой обработки, патент № 2062684 свыше 180o (устройство для светолучевой обработки, патент № 2062684 > 90устройство для светолучевой обработки, патент № 2062684) и уменьшает осевой размер и соответственно долю участия сферического элемента 4 отражателя, что приводит к увеличению КПД.

Устройство работает следующим образом.

При включении дугового источника света 5 световой поток частично попадает на основной элемент 2, фокусируется последним в рабочем фокусе. Часть светового потока, попавшая на элемент 3, фокусируется последним в рабочем фокусе. Часть светового потока, попавшая на сферический элемент 4, переотражается через фокус f1 на элемент 3 и фокусируется в рабочем фокусе f2. Отражатель выполнен из алюминиевого сплава с полированной отражающей поверхностью. Расположение фокуса f1 между вершиной элемента 3 и плоскостью сопряжения со сферическим элементом 4 отражателя 1 дозволяет увеличить угол охвата элементов 3 свыше 180o, уменьшает осевой размер сферы и долю ее участия в формировании светового потока, что увеличивает КПД устройства.

Класс B23K1/005 пайка с использованием лучистой энергии

устройство для пайки или отпайки микросхем на печатной плате -  патент 2516365 (20.05.2014)
способ изготовления трубчатого соединения алюмооксидной керамики с металлом -  патент 2515722 (20.05.2014)
способ изготовления щеточного уплотнения роторов -  патент 2497645 (10.11.2013)
способ ремонта поверхностных дефектов пера лопаток турбины гтд -  патент 2419526 (27.05.2011)
способ пайки изделия, преимущественно теплообменника -  патент 2362657 (27.07.2009)
способ пайки теплообменника сканирующим электронным лучом и устройство для его осуществления -  патент 2355526 (20.05.2009)
способ изготовления алюминийсодержащих сотовых элементов с применением радиационных нагревателей -  патент 2355525 (20.05.2009)
способ лазерно-световой термической обработки металлических материалов с регулируемым нагревом -  патент 2323265 (27.04.2008)
способ лазерно-световой термической обработки металлических материалов с регулируемым охлаждением -  патент 2323264 (27.04.2008)
способ лазерно-световой термической обработки металлических материалов с регулируемым изменением температуры -  патент 2322513 (20.04.2008)
Наверх