устройство для вакуумной обработки электронно-лучевой трубки

Формула изобретения

УСТРОЙСТВО ДЛЯ ВАКУУМНОЙ ОБРАБОТКИ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ТРУБКИ, содержащее гнездо для размещения трубки, соединенное со средствами откачки, высокочастотный генератор, один из выходов которого соединен с электродом для размещения на горловине трубки и заземлен, а другой выход снабжен клеммой для подключения к выводам электронно-оптической системы трубки, отличающееся тем, что, с целью повышения степени очистки трубки с боковыми выводами, электрод, размещенный на горловине трубки, выполнен в виде цилиндра с разрезом вдоль образующей и с возможностью плотной посадки и охвата всей боковой поверхности горловины трубки, а клемма для подключения к выводам электронно-оптической системы электрически соединена с дополнительной клеммой в виде скобы для соединения с боковыми выводами трубки, при этом цилиндрический электрод выполнен с вырезом, границы которого выбраны обеспечивающими зазор между электродом и дополнительной клеммой, превышающий 1,5 см.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано при производстве электронно-лучевых трубок (ЭЛТ) с боковыми выводами.

Известно устройство вакуумной обработки ЭЛТ, содержащее откачкой пост и гребенку с напаянными приборами [1]

Известное устройство не позволяет полностью удалять все виды загрязнений внутренних поверхностей ЭЛТ, а следовательно, имеет место невысокое качество обработки.

Известно также устройство для вакуумной обработки ЭЛТ, содержащее гнездо для размещения трубки, соединенное со средствами откачки, высокочастотный генератор, один из выходов которого соединен с электродом для размещения на горловине трубки и заземлен, а другой выход снабжен клеммой для подключения к выводам электронно-оптической системы трубки [2]

Известное устройство не позволяет использовать его для проведения плазменной обработки ЭЛТ с боковыми выводами электродов для повышения качества обработки, так как большой диаметр индуктора, используемого в существующей технологии вакуумной обработки ЭЛТ, и его малая протяженность не позволяют создать в приборе ВЧ-разряд требуемой интенсивности. Увеличить протяженность индуктора не представляется возможным, так как при существующей операции обработки арматуры ВЧ-токами произойдет распыление газопоглотителя. Уменьшить диаметр индуктора тоже нельзя, так как мешают боковые выводы. Кроме того, на боковые выводы при плазмо-химической очистке необходимо подведение ВЧ-энергии с целью увеличения интенсивности разряда. Использование известного устройства для очистки ЭЛТ с боковыми выводами обеспечивает слабый ВЧ-разряд, а, следовательно, невысокую степень очистки.

Цель изобретения повышение качества очистки ЭЛТ с боковыми выводами.

Это достигается тем, что в устройстве для вакуумной обработки ЭЛТ электрод, размещенный на горловине трубки, выполнен в виде цилиндра с разрезом вдоль образующей и с возможностью плотной посадки и охвата всей боковой поверхности горловины трубки, а клемма для подключения к выводам электронно-оптической системы электрически соединена с дополнительной клеммой для соединения с боковыми выводами трубки, при этом цилиндрический электрод выполнен с вырезом, границы которого обеспечивают зазор между электродом и дополнительной клеммой, превышающий 1,5 см.

На чертеже схематически изображено предлагаемое устройство для вакуумной обработки ЭЛТ с боковыми выводами.

Устройство для вакуумной обработки содержит колбу ЭЛТ 1 с боковыми выводами, гнездо 2 для размещения прибора, снабженное узлом, выполненным в виде контактного элемента, установленного с возможностью соединения с выводами прибора и с ВЧ-клеммой ВЧ-генератора, средства 3 и 4 откачки и напуска газа соответственно, генератор ВЧ-колебаний 5, установленный с возможностью создания в приборе ВЧ-разряда, электрод 6, выполненный в виде цилиндра с разрезом вдоль образующей и с возможностью плотной посадки и охвата всей поверхности горловины ЭЛТ, соединенный с "земляной" клеммой ВЧ-генератора и имеющий вырез в месте расположения боковых выводов шириной 1,5-2 см и длиной на 1,5-2 см больше, чем протяженность образующей горловины ЭЛТ, занятой боковыми выводами, и дополнительный электрод, выполненный в виде скобы 7, плотно облегающий боковые выводы.

Предлагаемое устройство для вакуумной обработки ЭЛТ работает следующим образом.

Колба 1 ЭЛТ через гнездо 2 откачивается средствами откачки 3 до давления 13,3 Па. Включается ВЧ-генератор 5, соединенный заземленным выходом с электродом 6, размещенным на горловине колбы 1 ЭЛТ, ВЧ-выходом соединенный с выводами электронно-оптической системы и с дополнительной клеммой 7, облегающей боковые выводы ЭЛТ. Частота генерируемого сигнала 13,56 1% 30 МГц.

В горловине колбы ЭЛТ формируется высокочастотный емкостной разряд и осуществляется плазменная очистка узлов и деталей ЭЛТ. Внутренняя поверхность колбы и арматура подвергаются бомбардировке потоком ионов остаточных газов, разрывающих связи в многоатомных молекулах загрязнений, химически связывающих их, образуя летучие соединения. Для удаления их из внутреннего объема прибора необходимо, чтобы откачка велась непрерывно.

Использование предлагаемого устройства вакуумной обработки повышает качество обработки внутренней поверхности горловины ЭЛТ и арматуры. Чистота поверхностей как металлических, так и стеклянных, проанализированная по углу смачивания и методом пара при использовании предлагаемого устройства, составляет 0,02-0,05 мкГ/см² при исходном состоянии 0,2-0,3 мкГ/см².