установка для плазмохимического травления

Классы МПК:H01L21/302 для изменения физических свойств или формы их поверхностей, например травление, полирование, резка
Автор(ы):
Патентообладатель(и):Гоминюк Сергей Борисович
Приоритеты:
подача заявки:
1991-03-26
публикация патента:

Изобретение относится к электронной промышленности и может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов. Сущность изобретения: установка содержит рабочую камеру, смеситель травителя, вакуумную систему и очистное устройство. Очистное устройство состоит из реакционной камеры, расположенной между длумя ВЧ-генераторами, один из которых соединен с выходом вакуумной системы, а другой с источником кислорода. 2 ил.
Рисунок 1, Рисунок 2

Формула изобретения

УСТАНОВКА ДЛЯ ПЛАЗМОХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ, содержащая рабочую камеру, смеситель травителя, вакуумную систему и очистное устройство, отличающаяся тем, что, с целью предотвращения загрязнения атмосферного воздуха за счет нейтрализации продуктов реакции, очистное устройство выполнено в виде блока нейтрализации фреона, состоящего из реакционной камеры, расположенной между двумя ВЧ-генераторами, один из которых соединен с выходом вакуумной системы, а другой с источником кислорода.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к электронной отрасли промышленности и может быть использовано при изготовлении полупроводниковых приборов.

Известны устройства для травления, имеющие камеру, в которой смонтирован улавливатель продуктов травления [1]

В известном устройстве улавливатель обеспечивает очистку газа лишь от твердых частиц.

Известны установки для травления, содержащие рабочую камеру, резервуар с травителем, трубопроводы и очистные фильтры [2]

Недостатком известных установок является то, что отработанный газ (фреон) ионизируется частично, остальное неотработанный фреон выбрасывается в атмосферу (в лучшем случае частично утилизируется).

Цель изобретения предотвращение загрязнения атмосферного воздуха за счет нейтрализации продуктов реакции.

Цель достигается тем, что очистное устройство выполнено в виде блока нейтрализации фреона, состоящего из реакционной камеры, расположенной между двумя ВЧ-генераторами, один из которых соединен с выходом вакуумной системы, а другой источником кислорода. Благодаря наличию блока нейтрализации фреона происходит полная ионизация фреона в закрытой камере.

На фиг.1 и 2 изображена установка для травления.

Установка для плазмохимического травления содержит реакционную камеру 1, в которой осуществляется травление пластин 2, смеситель 3, СВЧ генератор 4, вакуумный агрегат 5, дроссельную заслонку 6 и блок нейтрализации фреона 7, который включает в себя ВЧ-генератор 8, ВЧ-генератор 9 и реакционную камеру 10. Генератор 8 соединен с выходом вакуумного агрегата 5, а генератор 9 с источником кислорода 11.

Установка работает следующим образом.

В реакционной камере 1 размещают обрабатываемые пластины 2, закрепляя их на одном из электродов (заземленном). С помощью вакуумного агрегата 5 производят откачку воздуха из камеры 1 до необходимого остаточного давления (0,1-1 Па). После чего через смеситель 3 в камеру 1 подается газовая смесь, необходимая для процесса и состоящая в основном из фреона и газообразного азота, процентное соотношение их задается параметрами техпроцесса и зависит, в основном, от скорости, глубины травления, селективности и анизотропии процесса.

Дроссельной заслонкой 6 регулируют и поддерживают необходимое рабочее давление в камере 1. При достижении в камере рабочего давления включают СВЧ-генератор 4. Происходит процесс травления. После процесса травления образуются продукты реакции, которые при определенных условиях разрушают озоновый слой атмосферы. Чтобы избежать этого в установку включен блок нейтрализации фреона 7, который работает одновременно с другими узлами установки травления. Продукты реакции, проходящие через ВЧ-генератор 8, ионизируются и поступают в реакционную камеру-2 10, в которую подается ионизированный ВЧ-генератором кислород. В реакционной камере-2 10 осуществляется принудительное соединение ионизированного кислорода (озона) с продуктами реакции травления. Вследствие этого происходит их нейтрализации. На выходе улавливаются продукты реакции, не взаимодействующие с озоном. Далее отработанный газ может быть подвергнут утилизации или обработке в зависимости от его состава.

При использовании хлорсодержащих фреонов необходимо увеличивать количество подаваемого кислорода и мощность ВЧ-генератора. При использовании фторсодержащих газов на выходе ставятся фильтры с активированным углем.

Установка для плазмохимического травления нейтрализует продукты реакции фреонов, что предупреждает загрязнение атмосферного воздуха.

Класс H01L21/302 для изменения физических свойств или формы их поверхностей, например травление, полирование, резка

способ изготовления сквозных отверстий в кремниевой подложке -  патент 2525668 (20.08.2014)
способ изготовления микромеханического вибрационного гироскопа -  патент 2485620 (20.06.2013)
способ предэпитаксиальной обработки поверхности германиевой подложки -  патент 2483387 (27.05.2013)
способ полирования полупроводниковых материалов -  патент 2457574 (27.07.2012)
способ доводки ориентации пластин полупроводниковых и оптических материалов -  патент 2411606 (10.02.2011)
способ лазерного отжига кремниевой подложки, содержащей имплантированные слои -  патент 2368703 (27.09.2009)
способ формирования висящих конструкций -  патент 2367591 (20.09.2009)
способ изготовления пластин полупроводниковых и оптических материалов -  патент 2337429 (27.10.2008)
способ получения атомно-гладкой поверхности подложки арсенида галлия -  патент 2319798 (20.03.2008)
способ полировки кристаллов хлорида серебра -  патент 2311499 (27.11.2007)
Наверх