способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки

Классы МПК:H01J9/38 откачка, дегазация, наполнение или очистка баллонов 
Автор(ы):, , , ,
Патентообладатель(и):Львовское производственное объединение "Кинескоп"
Приоритеты:
подача заявки:
1992-04-20
публикация патента:

Использование: в электронных вакуумных приборах при электровакуумной обработке электронно-лучевых трубок (ЭЛТ). Сущность изобретения: при электровакуумной обработке ЭЛТ откачивают, обезгаживают, активируют катод и отпаивают. Затем распыляют газопоглотитель, производят высоковольтный прожиг и тренируют ЭЛТ с перегревом катода и расфокусировкой электронного пятна. На начальном этапе тренировки производят засветку экрана сфокусированным электронным пучком величиной способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 путем подачи номинальных ускоряющих напряжений. Время засветки экрана определяется из соотношения, указанного в формуле. 1 табл.
Рисунок 1, Рисунок 2

Формула изобретения

СПОСОБ ЭЛЕКТРОВАКУУМНОЙ ОБРАБОТКИ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ТРУБКИ, включающий откачку, обезгаживание, активировку катода, отпай, распыление газопоглотителя, высоковольтный прожиг и тренировку с перегревом катода и расфокусировкой электронного пятна, отличающийся тем, что на начальном этапе тренировки производят засветку экрана сфокусированным электронным лучом величиной способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 путем подачи номинальных ускоряющих напряжений в течение времени t, определяемого из соотношения

способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585

где K - константа (K = 2,3);

V - объем кинескопа, л;

S - скорость поглощения газов газопоглотителем и внутренними поверхностями оболочки кинескопа, л/с;

P1 и P2 - давление остаточных газов в кинескопе до и после засветки экрана, мм.рт.ст.,

способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 - максимальный ток катода при нулевом потенциале на модуляторе, А.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к электровакуумным приборам и может быть использовано в производстве электронно-лучевых трубок (ЭЛТ).

Известен способ электровакуумной обработки ЭЛТ, включающий откачку, обезгаживание, активировку катода, отпай, распыление газопоглотителя, высоковольтный прожиг и тренировку трубок [1].

Недостатком этого способа является то, что на тренировку ЭЛТ поступают со сравнительно низким вакуумом, примерно 1способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 202658510-4 - 1способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 202658510-5мм рт.ст., что может привести к частичному отравлению и разрушению катода положительными ионами.

Известен также способ электровакуумной обработки ЭЛТ, включающий откачку, обезгаживание, активировку катода, отпай, распыление газопоглотителя, высоковольтный прожиг и тренировку. Повышение вакуума в ЭЛТ достигается за счет включения накала и очистки ускоряющего электрода электрическим током при распылении газопоглотителя [2].

Недостатком данного способа является то, что в процессе очистки при распылении газопоглотителя электронный луч не достигает экрана ЭЛТ и очистка электродов ведется локально, т.е. происходит очистка катода и ускоряющего электрода, причем 70% всей остаточной газовой среды составляют углеводороды (СnНm). В дальнейшем в процессе тренировки углеводороды распадаются с непрерывным осаждением атомарного углерода на поверхность катода, поскольку тренировка происходит в триодном режиме (катод + модулятор + ускоряющий электрод). Область ионизации и соответственно разложения CnHm составляет примерно 1 см длиной и диаметром 0,6 мм.

Наиболее близким по технической сущности к предлагаемому является способ электровакуумной обработки ЭЛТ, включающий откачку, обезгаживание, активировку катода, отпай, распыление газопоглотителя, высоковольтный прожиг и тренировку ЭЛТ с перегревом катода и расфокусировкой электронного пятна. Этот способ выбран нами в качестве прототипа [3].

Недостатком этого способа является то, что создание электронного пятна на экране ЭЛТ производится без подачи напряжения на фокусирующий электрод и без включения развертки электронного луча. При этом только незначительная часть электронного тока достигает экрана в виде расфокусированного неподвижного пятна, что не создает условий для быстрого разложения углеводородов и роста вакуума перед тренировкой прибора.

Предлагаемый способ электровакуумной обработки ЭЛТ, включающий откачку, обезгаживание, активировку катода, отпай, распыление газопоглотителя, высоковольтный прожиг и тренировку ЭЛТ с перегревом катода и расфокусировкой электронного пятна, согласно изобретению, на начальном этапе тренировки ЭЛТ производят засветку экрана сфокусированным электронным лучом величиной 0,3 Iк max путем подачи номинальных ускоряющих напряжений в течение времени, определяемого из соотношения

t = K способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 ln способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 , где К - константа (К = 2,3);

V - объем кинескопа, л;

S - скорость поглощения газов газопоглотителем и внутренними поверхностями оболочки, л/с;

Р1 и Р2 - давления остаточных газов в кинескопе до и после засветки экрана, мм рт.ст.

Сопоставительный анализ показывает, что заявленное решение отличается от прототипа тем, что на начальном этапе тренировки производят засветку экрана сфокусированным электронным пучком величиной 0,3 Iк max путем подачи номинальных ускоряющих напряжений в течение времени, определяемого из соотношения

t = K способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 ln способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 .

Сравнение заявляемого решения не только с прототипом, но и с другими техническими решениями в данной области техники не позволило выявить в них признаки, отличающие заявленное решение от прототипа, что позволяет сделать вывод о соответствии критерию "Существенные отличия". Признак о времени засветки экрана электронным лучом вытекает из соотношения

t = K способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 ln способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 .

Скорость повышения вакуума зависит от объема прибора V и скорости поглощения ионизированных газов газопоглотителем и внутренними поверхностями колбы S. Это существенный признак.

Признак о величине тока луча 0,3 Iк max во время засветки экрана выбран исходя из необходимости создания условий режима работы ЭЛТ близкого к рабочему. Величина тока луча 0,3 Iк max несколько превышает рабочий ток ЭЛТ, что ускоряет процесс разложения углеводородов и повышение вакуума. Ток Iк max - это максимальный ток катода, когда на модулятор по отношению к катоду подается нулевой потенциал, а на ускоряющие электроды подают номинальные напряжения. Это также существенный признак.

Учитывая, что после распыления газопоглотителя определяющим компонентом остаточной газовой среды прибора являются углеводороды (свыше 70%), после засветки экрана ЭЛТ электронным лучом и подачи повышенного напряжения накала происходит бурное разложение углеводородов на газообразный водород, который поглощается газопоглотителем, и атомарный углерод, который оседает на внутренние поверхности прибора (например, для метана:

CH4 -> C + 2H2).

Предлагаемый способ обеспечивает при растровой засветке экрана ЭЛТ перед тренировкой быстрое разложение углеводородов CnHm и осаждение углерода на внутреннюю поверхность конуса и экрана прибора, а не на катод, как это имеет место в триодном режиме.

Применение предлагаемого способа электровакуумной обработки позволяет повысить вакуум в приборе примерно на порядок и тем самым достичь высоких и стабильных эмиссионных характеристик катода в процессе тренировки ЭЛТ.

П р и м е р. Опробование способа электровакуумной обработки проводилось на кинескопах 16ЛК8Б. В процессе электровакуумной обработки в откачанных кинескопах после обезгаживания покрытий, активировки катода, отпая и распыления газопоглотителя на начальном этапе тренировки на подогреватель катода подается напряжение, равное 1,3-1,4 Uн ном., и производится засветка экрана сфокусированным электронным пучком величиной 30 мкА в течение 20с. Экспериментальным образом установлено, что величина t = 20 с является достаточной для повышения вакуума тренировкой более чем на порядок. Величина S определяется из экспериментальных данных, исходя из скорости падения давления остаточных газов dP/dt. В нашем случае S = 0,28 л/с, а объем кинескопа 16ЛК8Б равен 0,85 л. Соответственно время засветки будет равно:

t = K способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 ln способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 = 2,3 способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 ln способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 2026585 = 6,08способ электровакуумной обработки электронно-лучевой трубки, патент № 20265853,0 = 20,9 c .

Значения Р1 и Р2 взяты из таблицы.

В таблице приведены значения давления остаточных газов в текущих и пробных приборах.

Как видно из данных таблицы, давление остаточных газов в пробных приборах перед тренировкой на порядок ниже, чем в текущих. Соответственно в этих приборах ниже давление остаточных газов после тренировки и выше эмиссионные параметры оксидного катода.

Использование предлагаемого способа электровакуумной обработки ЭЛТ обеспечивает по сравнению с существующими способами следующие преимущества:

- улучшение эмиссионных и вакуумных характеристик;

- повышение долговечности ЭЛТ;

- повышение выхода годных ЭЛТ.

Класс H01J9/38 откачка, дегазация, наполнение или очистка баллонов 

высоковакуумный пост для откачки электровакуумных приборов -  патент 2515937 (20.05.2014)
способ откачки и наполнения прибора газом -  патент 2505883 (27.01.2014)
способ очистки поверхностей диэлектрических изделий (варианты) -  патент 2332268 (27.08.2008)
способ измерения изменения парциальных давлений газов в мощном электровакуумном приборе -  патент 2306551 (20.09.2007)
способ изготовления газоразрядной индикаторной панели переменного тока -  патент 2285974 (20.10.2006)
способ извлечения ртути из ртутных ламп и изделий, содержащих ртуть или пары ртути -  патент 2231856 (27.06.2004)
способ откачки и наполнения прибора газом -  патент 2195041 (20.12.2002)
способ откачки электровакуумных приборов -  патент 2185676 (20.07.2002)
способ вакуумной обработки малогабаритных моноблочных газоразрядных лазеров -  патент 2155410 (27.08.2000)
модуль и система геттеронасоса -  патент 2138686 (27.09.1999)
Наверх