способ возбуждения рабочей среды проточного газового лазера
Классы МПК: | H01S3/097 с использованием газового разряда газового лазера |
Автор(ы): | Галеев И.Г., Тимеркаев Б.А. |
Патентообладатель(и): | Казанский авиационный институт им.А.Н.Туполева |
Приоритеты: |
подача заявки:
1990-01-10 публикация патента:
15.03.1994 |
Использование: в квантовой электротехнике, в частности в процессах возбуждения рабочей среды проточного газового лазера. Сущность изобретения: способ включает подачу напряжения на электроды разрядного промежутка, конвективную прокачку рабочего газа через область разряда поперек направления электрического поля, вдувание через перфорированную диэлектрическую пластину в прикатодную область разряда дополнительного газа со скоростью. Нормальная к направлению потока рабочего газа составляющая V1, которая удовлетворяет условию: l/bV0<V<0,1 V0, где l - длина катодного слоя, b - размер перфорированной пластины в направлении потока рабочей среды, V0 - скорость потока рабочей среды. Дополнительный газ обладает меньшими значениями прикатодного потенциала, нормальной плотности электрического тока и большим значением теплопроводности по сравнению с соответствующими величинами рабочего газа. 1 ил.
Рисунок 1
Формула изобретения
СПОСОБ ВОЗБУЖДЕНИЯ РАБОЧЕЙ СРЕДЫ ПРОТОЧНОГО ГАЗОВОГО ЛАЗЕРА, включающий подачу постоянного электрического напряжения на электроды возбуждения и конвективную прокачку рабочей среды через область разряда в направлении, перпендикулярном направлению электрического поля разряда, и вдув дополнительного газа в прикатодную область разряда, отличающийся тем, что, с целью повышения энерговклада, устойчивости разряда и мощности излучения лазера, в прикатодную область разряда вдувают дополнительный газ с меньшими по сравнению с рабочей средой значениями прикатодного падения потенциала и нормальной плотности электрического тока и большим значением теплопроводности, при этом вдув дополнительного газа осуществляют через перфорированную диэлектрическую пластину, расположенную выше катода по потоку рабочей среды, с нормальной по отношению к направлению потока рабочей среды составляющей скорости дополнительного газа v1, удовлетворяющей следующему соотношению:l/b v0 < v1 < 0,1v0,
где l - длина катодного слоя;
b - размер перфорированной пластины в направлении потока рабочей среды;
v0 - скорость потока рабочей среды.
Описание изобретения к патенту
Изобретение относится к квантовой электронике и может быть использовано в мощных проточных газовых лазерах с поперечным разрядом. Известен способ возбуждения разряда, который заключается в том, что разряд возбуждают с направлением вектора напряженности электрического поля перпендикулярным направлению прокачки рабочего газа. При данном способе возбуждения разряда наблюдается значительная неоднородность распределения характеристик как вдоль, так и поперек направления электрического поля. Напряженность электрического поля в прикатодной области значительно выше, чем в основной области разряда. За счет высокого катодного падения потенциала в прикатодной области происходит значительное энерговыделение. Ток разряда стремится сконцентрироваться в катодное пятно с нормальной плотностью тока. Вследствие повышенной напряженности поля у катода возможность развития неустойчивости в этой части разряда оказывается выше, чем в остальной части разряда. Целью изобретения является повышение устойчивости газового разряда в поперечном потоке рабочего газа. Известен способ возбуждения рабочей среды проточного газового лазера, включающий подачу постоянного электрического напряжения на электроды возбуждения и конвективную прокачку рабочей среды через область разряда в направлении, перпендикулярном направлению электрического поля разряда, и вдув дополнительного газа в прикатодную область разряда. Недостатком известного способа являются недостаточная устойчивость разряда, а соответственно, энерговклад и выходная мощность лазерного излучения. Целью изобретения является повышение энерговклада, устойчивости разряда и мощности излучения лазера. Поставленная цель достигается тем, что в известном способе в прикатодную область разряда вдувают дополнительный газ с меньшими по сравнению с рабочей средой значениями прикатодного падения потенциала и нормальной плотности электрического тока и большим значением теплопроводности, при этом вдув дополнительного газа осуществляют через перфорированную диэлектрическую пластину, расположенную выше катода по потоку рабочей среды, с нормальной по отношению к направлению потока рабочей среды составляющей скорости дополнительного газа V1, удовлетворяющей следующему соотношению:где l - длина катодного слоя;
b - размер перфорированной пластины в направлении потока рабочей среды;
Vo - скорость потока рабочей среды. При организации газового разряда по данному способу в прикатодной области разряда оказывается газ, отличный от рабочего газа, обладающий меньшими значениями катодного падения потенциала и нормальной плотности электрического тока для фиксированного материала катода. При этом для фиксированного общего тока разряда площадь катодного пятна увеличивается, уменьшается неоднородность разряда вдоль тока. Катодное падение потенциала и напряженность поля в приэлектродной области уменьшаются, что обусловливает увеличение времени развития неустойчивости в прикатодной области и соответственно увеличение устойчивости разряда. Более высокая теплопроводность дополнительного тока обеспечивает эффективное охлаждение катода и рассасывание тепловых неоднородностей, являющихся причиной перегревно-ионизационной неустойчивости. Выбор диапазона компоненты скорости V1 дополнительного газа в направлении, перпендикулярном потоку рабочего газа, значения которой лежат в диапазоне
обусловлен тем, что исключает перемешивание дополнительного и рабочего газа в основном объеме и обеспечивает требуемые заданные свойства рабочего газа. При значениях V1 меньших нижнего предела, прикатодная область заполнена дополнительным газом не полностью, что приводит к увеличению катодного падения потенциала, что не позволит повысить устойчивость разряда по сравнению с прототипом. При значениях V1 больше верхнего предела появляется возможность проникновения дополнительного газа в основной объем разряда и изменения заданных свойств рабочего газа. На чертеже показано устройство, реализующее способ. Анод 1 разрядной камеры выполнен сплошным, заделан заподлицо в диэлектрическую стенку 2. Катодный узел, расположенный между диэлектрическими пластинами 3, выполнен секционированным. Катоды 4 заделаны заподлицо в пористую диэлектрическую пластину 5 и через балластные сопротивления Р подключены к отрицательному полюсу источника питания. Разрядная камера подключена к системам прокачки рабочего газа и вдува дополнительного газа (показаны стрелками). Здесь реализован случай вдува дополнительного газа, нормального к основному потоку рабочего газа. Данный способ осуществляют следующим образом. Через разрядную камеру подают основной поток рабочего газа, подают расход дополнительного газа через пористую диэлектрическую пластину в прикатодную область со скоростью, нормальная к направлению основного потока составляющая которой удовлетворяет условию
Причем дополнительный газ обладает меньшим значением прикатодного падения потенциала, нормальной плотности электрического тока и большим значением теплопроводности по сравнению с соответствующими величинами для рабочего газа. Например, рабочим газом может служить азот, а дополнительным газом может служить гелий. Затем подают напряжение на электроды от источника питания. В результате вдува дополнительного газа в прикатодную область разряда, если в качестве дополнительного газа использован гелий, а в качестве рабочего газа - азот, и катод был выполнен из железа, у катода плотность электрического тока уменьшается более чем в 180 раз, плотность тепловыделения на единицу длины вдоль направления основного потока уменьшается более чем в 300 раз, теплопроводность газа увеличивается более чем в 5 раз, что уменьшает вероятность развития ионизационно-перегревной неустойчивости у катода и соответственно повышает устойчивость разряда в рабочем газе. (56) Райзер Ю. П. Основы современной физики газоразрядных процессов. М. : Наука, 1981, с. 544. Патент США N 4152672, кл. 331-94.5, опублик. 1979.
Класс H01S3/097 с использованием газового разряда газового лазера