фотополимеризующаяся композиция

Классы МПК:C08L55/00 Композиции гомополимеров или сополимеров, получаемых реакциями полимеризации с участием только ненасыщенных углерод-углеродных связей, не отнесенные к группам  23/00
C08F2/48 ультрафиолетовыми или видимыми лучами
C08G75/20 полисульфоны
Автор(ы):, , , , ,
Патентообладатель(и):Государственное образовательное учреждение высшего профессионального образования Волгоградский государственный технический университет (ВолгГТУ) (RU)
Приоритеты:
подача заявки:
2008-12-24
публикация патента:

Изобретение относится к разработке реакционно-способных фотополимеризующихся композиций на основе растворов полисульфона, используемых для получения покрытий различного назначения. Техническая задача - разработка композиции, позволяющей ускоренное получение покрытия с меньшим количеством технологических операций, повышение эластичности фотополимерных материалов на основе ПСФ, а также минимизация количества улетучивающегося на стадии формирования покрытия растворителя. Предложена фотополимеризующаяся композиция, включающая (мас.ч.): полисульфон на основе 2,2-бис(4-оксифенил)пропана и 4,4фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856 -дихлордифенилсульфона с молекулярной массой 40000-56000 (35-50), стирол как растворитель (65-50), диакрилат или диметакрилат полиэтиленгликоля с молекулярной массой полиэтиленгликольного звена 400-600 в качестве полимеризационно-способного соединения (20-50) и 2,4,6-триметилбензоилдифенилфосфиноксид в качестве фотоинициатора (2-6). 2 табл.

Изобретение относится к промышленности полимеризационных пластмасс, в частности к разработке реакционно-способных фотополимеризующихся композиций на основе растворов полисульфона (ПСФ), и может быть использовано для получения покрытий различного назначения.

Целесообразность и возможность инвариантного применения этого полимера для покрытий как с точки зрения технологии их формирования, так и расширения ассортимента композиций на его основе, обусловлены тем, что это теплостойкий, прочный конструкционный термопласт с высокой ударной вязкостью. Как для основы пленкообразующих различного функционального назначения определяюще важным является его высокая химическая стойкость к воздействию большого ряда агрессивных сред. Вместе с тем, получение покрытий и пленок без применения высоких температур и специального оборудования реализуемо лишь путем растворения ПСФ в соответствующих растворителях. В частности, известны композиции, представляющие собой растворы полисульфона в кетонах, хлорированных углеводородах или полярных ароматических растворителях (Бюллер К.У. Тепло- и термостойкие полимеры. Пер. с нем. / Под ред. Я.С.Выгодского. - М., Химия, 1984. - 1056 с.). Кроме того, известен способ переработки ПСФ посредством растворения в циклогексаноне (пат. Великобритании № 2198440, МКИ C08L 81/06, 1989). В соответствии с этими техническими решениями возможно получение тонкомерных покрытий и пленок из растворов ПСФ методами лакокрасочной технологии за счет улетучивания растворителя и последующего пленкообразования.

Однако необходимость удаления растворителя обусловливает недостатки, связанные с диффузионными процессами, вызывающими значительные локальные внутренние напряжения в материале покрытий. В случаях использования высококипящих растворителей (циклогексанон, диметилформамид, диметилсульфоксид и др.) для ускорения стадии формирования покрытия требуется сушка посредством обдува горячим воздухом. При этом неизбежна повышенная усадка. Следствием этого может быть и низкий уровень адгезионного взаимодействия между субстратом и материалом покрытия. Ввиду большой доли безвозвратно теряемого растворителя существенны и эколого-экономические факторы.

Известны композиции, в которых ПСФ переводят в раствор, используя мономер в качестве полимеризационно-способного растворителя. Применяют стирол или его смесь с мономером акрилового ряда в определенных соотношениях. Объемное изделие получают путем полимеризации в массе мономеров в присутствии растворенного ПСФ под действием окислительно-восстановительных систем при комнатных и умеренно повышенных температурах в течение 16-24 часов (патент РФ № 2058339, С08G 75/20, опубл. 20.04.96).

Однако очевидно, что использование подобных растворных систем при именно таком способе инициирования для формирования защитных слоев неприемлемо из-за длительности процесса. Так как покрытия характеризуются большим отношением площади к толщине, то определяющим ограничением при полимеризации на подложке является ингибирующее влияние кислорода воздуха. Как следствие - торможение процесса, поверхностная липкость и неизбежное улетучивание мономера-растворителя.

Известны композиции, базирующиеся на смеси ПСФ с молекулярной массой 44300 и диакрилатного полимеризационно-способного соединения. Компоненты растворяют в дихлорметане с добавкой фотоинициатора. В качестве диакрилатного соединения применяют 2,2-бис(4-акрилоксидиэтоксифенил)пропан, а фотоинициатором служит 1-гидроксициклогексилфенилкетон. Образцы приготавливаются методом полива, выдерживаются в течение 12 часов при комнатной температуре для удаления основного количества растворителя и окончательно высушиваются в вакууме при 50°С 3 часа. Далее образцы нагреваются до соответствующей температуры и облучаются источником УФ-излучения с интенсивностью 10 мВт/см2 в атмосфере азота. После этого осуществляется еще и деполимеризация с использованием металлогалогеновых ламп высокого давления с интенсивностью света в области 365 нм, равной 75 мВт/см2 (Morphology and mechanical properties of polymer blends with photochemical reaction for photocurable /linear polymers/ Kazutaka Murata, Takanori Anazawa // Polymer 43 (2002) 6575-6583).

К недостаткам данного аналога следует отнести большое количество используемого растворителя, который требует обязательного диффузионного удаления. Путем применения таких растворных композиций реализуемо получение лишь тонкомерных пленок и покрытий. Кроме того, композиции включают в качестве полимеризационно-способного соединения диакрилат этоксилированного бисфенола А с «жесткими» ароматическими фрагментами дифенилолпропана в цепи. Продукты гомополимеризации таких соединений характеризуются повышенной твердостью и хрупкостью. В комбинации с полисульфоновой фазой достигается высокая разрывная прочность (66-73 МПа). Вместе с тем, используемое качественно-количественное сочетание компонентов негативно отражается на эластичности смесевых композитов с ПСФ.

Наиболее близким к предлагаемому является техническое решение по заявке (JP 2001329027 от 27.11.2001, RESIN COMPOSITE, COMPOSITION, AND THEIR PRODUCTION METHODS), в соответствии с которым используют линейный полисульфон на основе 2,2-бис(4-оксифенил)пропана и 4,4'-дихлордифенилсульфона, (мет)акрилаты с 2-6 (мет)акриловыми группами (а), (мет)акрилаты с одной (мет)акриловой группой (b), фотоинициатор 1-гидроксициклогексилфенилкетон, растворенные в дихлорметане. Содержание последнего может достигать 86%.

К причинам, препятствующим достижению требуемого технического результата при использовании известной растворной фотополимеризующейся композиции на основе полисульфона, относятся следующие. Во-первых, покрытие формируется длительно, в несколько стадий, необходимы нагрев и вакуум. Во-вторых, материал не обладает достаточными упругодеформационными свойствами (относительное удлинение при разрыве составляет лишь 7-12%). В-третьих, велико количество удаляемого растворителя (до 86% от состава композиции).

Технический результат предлагаемого изобретения - обеспечение возможности ускоренного получения покрытия с меньшим количеством технологических операций, повышение эластичности фотополимерных материалов на основе ПСФ, а также минимизация количества улетучивающегося на стадии формирования покрытия растворителя.

Указанный технический результат достигается за счет использования фотополимеризующейся композиции, включающей полисульфон на основе 2,2-бис(4-оксифенил)пропана и 4,4фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856 -дихлордифенилсульфона с молекулярной массой 40000-56000, растворитель, добавку полимеризационно-способного соединения и фотоинициатор, отличающейся тем, что в качестве растворителя она содержит стирол, в качестве полимеризационно-способного соединения диакрилат или диметакрилат полиэтиленгликоля с молекулярной массой полиэтиленгликольного звена 400-600, а в качестве фотоинициатора 2,4,6-триметилбензоилдифенилфосфиноксид при следующем соотношении компонентов, мас.ч:

Полисульфон на основе 2,2-бис(4-оксифенил)пропана фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856
и 4,4фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856 -дихлордифенилсульфона 35-50
Стирол 65-50
Диакрилат или диметакрилат полиэтиленгликоля фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856
с молекулярной массой от 400 до 600 20-50
2,4,6-триметилбензоилдифенилфосфиноксид 2-6

Сущность изобретения заключается в использовании фотополимеризующейся композиции, состав которой обеспечивает возможность достаточно быстро формировать полисульфонсодержащие покрытия посредством ее облучения доступными источниками света с сохранением преимуществ нанесения композиций по лакокрасочной технологии. При этом ингибирующее влияние кислорода воздуха невелико, так как имеющийся в реакционной массе и на поверхности кислород способен переходить из синглетного состояния в триплетное (возбужденное) под действием квантов света ультрафиолетового диапазона. Вследствие этого его ингибирующая способность нивелируется, что приводит к увеличению скорости фотополимеризации и отсутствию поверхностной липкости в материале. Указанное обстоятельство обеспечивает возможность использовать даже стабилизированный (неочищенный от ингибитора) стирол.

Применение стирола в составе композиции детерминировано его хорошей растворяющей способностью по отношению к ПСФ и термодинамической совместимостью компонентов раствора, в том числе и с добавками полимеризационно-способного соединения (ПСС). Благодаря тому, что в условиях фотоиндуцированной полимеризации стирол сам превращается в высокомолекулярное соединение и участвует в реакции сополимеризации с ди(мет)акрилатом полиэтиленгликоля обеспечивается результат в части минимизации доли улетучивающегося растворителя.

Добавки полимеризационно-способных соединений, используемые в заявляемой композиции, способствуют, с одной стороны, более быстрому протеканию процесса фотополимеризации из-за наличия двух (мет)акрилатных групп (то есть большей функциональности по двойным связям по сравнению со стиролом). С другой - основная цепь в молекулах акрилатных полимеризационно-способных соединений, входящих в составы по заявляемому изобретению, состоит из оксиэтиленовых звеньев с большим количеством «шарнирных» кислородных мостиков, обеспечивающих повышенную гибкость и эластичность как продуктам гомо- и сополимеризации, так и полисульфонсодержащему композиционному материалу, получаемому из заявляемой фотополимеризующейся композиции. При этом совокупность достигаемых эффектов зависит и от содержания ди(мет)акрилата полиэтиленгликоля, а также его молекулярной массы (ММ). Наиболее предпочтительно применение полимеризационно-способного соединения с ММ полиэтиленгликольного звена от 400 до 600 в заявляемых количествах. Если использовать в составе фотополимеризующейся композиции полимеризационно-способные соединения с меньшей ММ, то не обеспечивается результат в части необходимых физико-механических свойств. Последнее относится и к материалам на основе систем ПСФ-стирол, полученных с добавкой полимеризационно-способного соединения менее 20 мас. ч. При введении в фотополимеризующуюся композицию ди(мет)акрилата полиэтиленгликоля более 50 мас.ч. прочностные свойства материалов снижаются.

Применение в композиции в качестве фотоинициатора именно 2,4,6-триметилбензоилдифенилфосфиноксида обосновано тем, что он характеризуется высокой фотохимической активностью в области с длиной волны более 360 нм. Это позволяет использовать доступные источники света с невысокой мощностью излучения, не требующие организации охлаждения в процессе инсоляции объекта (например, ртутные дуговые и трубчатые лампы типа ДРЛ и ДРТ) и обусловливает практическую применимость технического решения.

В исходном виде заявляемая фотополимеризующаяся композиция представляет собой одноупаковочный состав с регулируемой вязкостью, который при условии невоздействия на него света обладает длительным сроком хранения. При нанесении на подложку и последующем УФ-облучении в течение 8-15 минут непосредственно на ней происходит образование покрытия, адгезионно связанного с субстратом. При необходимости, аналогичным путем могут быть получены материалы в виде свободных пленок толщиной до 600 мкм. Таким образом, количество технологических операций минимизируется. Стадии испарения растворителя и дополнительного нагрева отсутствуют. В целом, вышеизложенное и определяет сущность технического решения, которое в сравнении с аналогами и прототипом, по достигаемому результату более эффективно.

Заявляемые интервалы по содержанию ПСФ и стирола обусловлены двумя следующими основными факторами: во-первых, вязкость композиций, которая зависит главным образом от количества растворенного ПСФ, должна быть необходимой и достаточной для нанесения составов методами лакокрасочной технологии; во-вторых, так как свойства получаемого материала во многом определяются концентрацией исходно растворенного ПСФ, то предпочтительно максимально возможное содержание последнего в рецептуре композиции.

Если количество растворенного ПСФ меньше 35 массовых частей, то возможно получение технологичных низковязких растворов, но они склонны к отеканию с наклонных и вертикальных поверхностей, а продукты фотополимеризации обладают худшим комплексом свойств. В случаях использования в составе композиций полисульфона больше, чем в заявляемом соотношении, они характеризуются резким нарастанием вязкости. Такие полисульфонстирольные системы потенциально непригодны для формирования покрытий способами, применяемыми в лакокрасочной технологии. В целом, по указанным причинам, составы, содержащие менее 35 и более 50 массовых частей ПСФ, не иллюстрируются примерами.

Согласно изобретению в качестве полисульфона применяется продукт взаимодействия динатриевой соли дифенилолпропана (бисфенола А) и 4,4'-дихлордифенилсульфона (ТУ-6-06-66-88) с молекулярной массой 40000-56000 и со следующей структурной формулой элементарного звена:

фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856

Фотоинициатором служит 2,4,6-триметилбензоилдифенилфосфиноксид, производимый под торговой маркой Esacure TPO

фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856

В качестве полимеризационно-способных соединений используют следующие продукты:

фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856

Диметакрилат полиэтиленгликоля с молекулярной массой (ММ) ПЭГ-звена 600, n=14

фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856

Диакрилат полиэтиленгликоля, с молекулярной массой (ММ) ПЭГ-звена 400-600, n=9-14

Активным растворителем выступает стирол, соответствующий ГОСТ 10003-90.

Рецептуры предлагаемых и контрольных композиций, а также по прототипу приведены в таблице 1.

Таблица 1
Составы композиций по примерам и прототипу
Компоненты композиций Составы композиций по примерам, мас. ч.
Предлагаемые Контрольные Прототип (примеры 1-3)
12 34 56 78 910 1112
Полисульфон 4035 5040 4040 4040 4040 4040 3-4
Стирол 60 6550 6060 6060 6060 6060 60-
Диакрилат полиэтиленгликоля с ММ ПЭГ-звена 600 3020 5038 -- -- -- 3030 -
Диметакрилат полиэтиленгликоля ММ ПЭГ-звена 600 -- -- 38- 10- 60- -- -
Диакрилат полиэтиленгликоля ММ ПЭГ-звена 400 -- -- -38 -10 -60 -- -
2,4,6-триметилбензоилдифенилфосфиноксид 4 26 44 4- -- -1 7-
1-гидроксициклогексилфенилкетон - -- -- -- -- -- -0,2-0,3
Дихлорметан -- -- -- -- -- -- 83-86
Смесь дициклопентанилдиакрилата с монофункциональными (мет)акрилатами - -- -- -- -- -- -10-13

Изобретение иллюстрируется следующими примерами.

Пример 1. Используют соотношения, близкие к средним (предпочтительная рецептура). Для этого к 40 г полисульфона добавляют 60 г стирола. При нагревании до 80°С и периодическом перемешивании получают однородный раствор. Добавляют 30 г диакрилата полиэтиленгликоля с ММ=600 и 4 г фотоинициатора (2, 4, 6-триметилбензоилдифенилфосфиноксида). Смесь гомогенизируют и часть ее после охлаждения отбирают для определения динамической вязкости на вискозиметре Брукфильда. Другую часть наносят свободнолитьевым методом в толщине 500-600 мкм на взвешенную силиконовую или фторопластовую подложку и подвергают облучению под действием полного спектра источника УФ-света типа ДРТ-400 с расстояния 25 см (энергетическая освещенность поверхности составляет 40 Вт/м2) в течение 15 минут. Затем подложку вместе с составом вновь взвешивают на аналитических весах и по разности масс определяют количество (долю) улетучившейся компоненты. Полученный таким образом материал отслаивают и испытывают по ГОСТ 11262-80 для оценки упругопрочностных свойств, фиксируя условную прочность при разрыве и относительное удлинение. Свойства растворов и продуктов фотополимеризации приведены в таблице 2.

Пример 2. В отличие от примера 1 используют минимальные заявляемые соотношения компонентов. Исследуют раствор, отверждают и испытывают материал аналогично примеру 1.

Пример 3. Готовят и исследуют раствор ПСФ в стироле, подвергают облучению и тестируют материал по примеру 1, но используют максимальные дозировки всех компонентов.

Пример 4. По аналогии с примером 1 готовят композицию, в которую в качестве полимеризационно-способного соединения вводят 38 г (среднее содержание) диакрилата полиэтиленгликоля с ММ полиэтиленгликольного звена 600.

Пример 5. По аналогии с примером 4 для сравнения готовят композицию, но в качестве полимеризационно-способного соединения используют диметакрилат полиэтиленгликоля с ММ полиэтиленгликольного звена 600 в количестве 38 г.

Пример 6. По аналогии с примером 4 для сравнения готовят композицию, но в качестве полимеризационно-способного соединения используют 38 г диакрилата полиэтиленгликоля, имеющего ММ полиэтиленгликольного звена 400.

Пример 7. Готовят и исследуют раствор и материал как в примере 1, но количество диакрилата составляет 10 г (заграничная дозировка по минимальному содержанию ПСС).

Пример 8. Готовят и исследуют раствор и материал как в примере 1, но количество диметакрилата составляет 10 г (заграничная дозировка по минимальному содержанию данного типа ПСС).

Пример 9. Готовят и исследуют раствор и материал как в примере 1, но количество диакрилата с ММ полиэтиленгликольного звена 600 составляет 60 г (заграничная дозировка по максимальному содержанию ПСС).

Пример 10. Готовят и исследуют раствор и материал как в примере 1, но количество диметакрилата с ММ полиэтиленгликольного звена 600 составляет 60 г (заграничная дозировка по максимальному содержанию данного типа ПСС).

Пример 11. Получают материал в соответствии с примером 1, но содержание 2,4,6-триметилбензоилдифенилфосфиноксида в композиции составляет 1 г (заграничное соотношение по минимальному количеству фотоинициатора).

Пример 12. Получают материал в соответствии с примером 1, но содержание 2,4,6-триметилбензоилдифенилфосфиноксида в композиции составляет 7 г (заграничное соотношение по максимальному количеству фотоинициатора).

Таблица 2
Свойства растворов и материалов, полученных из фотополимеризующихся композиций
Свойства растворов и материалов Фотополимеризующиеся композиции по примерам
предлагаемые контрольные прототип
12 34 56 78 910 11*12**
Динамическая вязкость при 20°С, Па·с 12,45,0 210,010,0 22,69,3 29,333,2 16,018,1 12,412,4 2-9
Доля улетучивающейся компоненты, % 1,04,0 1,01,5 1,51,6 2,42,5 1,01,0 180,7 83-86
Условная прочность при разрыве, МПа 29,816,0 35,031,4 29,131,9 23,218,0 14,613,6 -- 46,0-68,0
Относительное удлинение при разрыве, % 4560 1522 2015 129 6520 -- 4,3-10,3
Время, необходимое для формирования покрытия из готового раствора, мин15 1515 1515 1515 1515 15- 2>180
* Материал за 15 минут облучения не формируется из-за низкой скорости процесса.
** Через 2 минуты облучения с поверхности образуется слой «шагрени» ввиду высокой скорости фотополимеризации; материал дефектен и не имеет технической ценности.

Данные таблицы 2 свидетельствуют о том, что вязкость растворов (а следовательно, и их технологичность) поддается регулированию за счет изменения соотношения компонентов в рамках заявляемых. Путем использования растворов ПСФ в стироле с добавками ПСС и обоснованно подобранного фотоинициатора возможно получение материалов, процесс формирования которых в отличие от композиции-прототипа характеризуется минимальной долей улетучивающихся компонентов. Создание материала из предлагаемой растворной композиции не требует специального подвода тепла извне и применения вакуума для диффузионного отделения растворителя. Количество технологических операций сокращается. Принципиальное отличие в части технического результата заключается еще в том, что наряду с ПСС растворяющий агент в условиях фотоиндуцированной полимеризации также превращается в полимерный продукт, а посредством использования ди(мет)акрилатных соединений определенной природы в обозначенных рецептурных соотношениях с другими компонентами, достижимо получение материалов с показателями относительного удлинения в пределах 45-60% с достаточно высокими прочностными свойствами и соизмеримыми значениями ударной вязкости. При этом предпочтительно применение диакрилатов и диметакрилатов полиэтиленгликоля с ММ=600, так как материалам свойственен лучший баланс упругопрочностных характеристик.

Таким образом, вышеизложенные сведения свидетельствуют о выполнении при использовании заявленного изобретения следующей совокупности условий: средство, воплощающее заявленное изобретение при его осуществлении, предназначено для использования в производстве покрытий и свободных пленок на основе растворов ПСФ в стироле с добавками ПСС и фотоинициатора путем фотоиндуцированной полимеризации; для заявляемого технического решения в том виде, как оно охарактеризовано в независимом пункте формулы изобретения, подтверждена возможность его осуществления с помощью вышеописанных в заявке или известных до даты приоритета средств и методов; средство, воплощающее заявленное изобретение при его осуществлении, способно обеспечить достижение усматриваемого заявителем технического результата.

Следовательно, заявленное изобретение соответствует требованию "Промышленная применимость" по действующему законодательству.

ФОРМУЛА ИЗОБРЕТЕНИЯ

Фотополимеризующаяся композиция, включающая полисульфон на основе 2,2-бис(4-оксифенил)пропана и 4,4фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856 -дихлордифенилсульфона с молекулярной массой 40000-56000, растворитель, добавку полимеризационноспособного соединения и фотоинициатор, отличающаяся тем, что в качестве растворителя она содержит стирол, в качестве полимеризационноспособного соединения диакрилат или диметакрилат полиэтиленгликоля с молекулярной массой полиэтиленгликольного звена 400-600, а в качестве фотоинициатора - 2,4,6-триметилбензоилдифенилфосфиноксид при следующем соотношении компонентов, мас.ч:

Полисульфон на основе 2,2-бис(4-оксифенил)пропана фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856
и 4,4фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856 -дихлордифенилсульфона 35-50
Стирол 65-50
Диакрилат или диметакрилат полиэтиленгликоля фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856
с молекулярной массой полиэтиленгликольного фотополимеризующаяся композиция, патент № 2394856
звена от 400 до 60020-50
2,4,6-триметилбензоилдифенилфосфиноксид 2-6


Скачать патент РФ Официальная публикация
патента РФ № 2394856

patent-2394856.pdf
Патентный поиск по классам МПК-8:

Класс C08L55/00 Композиции гомополимеров или сополимеров, получаемых реакциями полимеризации с участием только ненасыщенных углерод-углеродных связей, не отнесенные к группам  23/00

Патенты РФ в классе C08L55/00:
стабилизаторы для полимеров, содержащих бром алифатического присоединения -  патент 2528677 (20.09.2014)
сополимер малеимида, процесс получения указанного сополимера и термостойкие композиции смол, содержащие указанный сополимер -  патент 2513100 (20.04.2014)
усиленный каучуком винилароматический (со) полимер, обладающий оптимальным сочетанием физико-механических свойств и высокого блеска -  патент 2506278 (10.02.2014)
гидроксиарилфункционализованные полимеры -  патент 2497835 (10.11.2013)
функционализованный полимер и способы его получения и применения -  патент 2492189 (10.09.2013)
бромированные полимеры в качестве пламягасителей и содержащие их полимерные системы -  патент 2483088 (27.05.2013)
полимерная композиция -  патент 2477297 (10.03.2013)
композиция термопластичной смолы с низким глянцем и мягкой на ощупь поверхностью и формованное изделие из нее -  патент 2471828 (10.01.2013)
термопластичная композиция с низкой светоотражающей способностью и хорошими показателями ударной прочности при низкой температуре -  патент 2458088 (10.08.2012)
ударопрочная огнестойкая термопластичная формовочная композиция -  патент 2448993 (27.04.2012)

Класс C08F2/48 ультрафиолетовыми или видимыми лучами

Патенты РФ в классе C08F2/48:
фотополимеризующаяся композиция для одностадийного получения полимерного нанопористого материала с гидрофобной поверхностью пор, нанопористый полимерный материал с селективными сорбирующими свойствами, способ его получения, способ одностадийного формирования на его основе водоотделяющих фильтрующих элементов и способ очистки органических жидкостей от воды -  патент 2525908 (20.08.2014)
эмульсионный пеноматериал с высоким содержанием дисперсной фазы, имеющий низкие уровни неполимеризованных мономеров -  патент 2509090 (10.03.2014)
применение фотополимеризующейся композиции для коннектирования световодов, способ коннектирования световодов и устройство для осуществления способа -  патент 2472189 (10.01.2013)
способ получения политетрафторэтилена методом фотохимической полимеризации -  патент 2409594 (20.01.2011)
фотохромная полимеризационноспособная композиция, фотохромный сетчатый оптический материал и способ его получения -  патент 2402578 (27.10.2010)
способ получения политетрафторэтиленоксида -  патент 2397181 (20.08.2010)
способ полимеризации светоотверждаемого композита и полимеризационный прибор для его осуществления -  патент 2363708 (10.08.2009)
новые поверхностно-активные полисилоксановые фотоинициаторы -  патент 2351615 (10.04.2009)
способ получения полимеров акрилатного типа -  патент 2313539 (27.12.2007)
отверждаемая облучением композиция смолы -  патент 2223281 (10.02.2004)

Класс C08G75/20 полисульфоны



Наверх