способ получения высокотемпературных сверхпроводниковых соединений

Классы МПК:C30B9/12 солевые растворители, например выращивание из флюсов
C30B29/22 сложные оксиды
H01L39/24 способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки предусмотренных в  39/00 приборов или их частей
Автор(ы):, ,
Патентообладатель(и):Физический институт им. П.Н. Лебедева РАН
Приоритеты:
подача заявки:
2001-03-01
публикация патента:

Изобретение относится к технологии получения монокристаллов сверхпроводниковых соединений для производства устройств сверхпроводниковой электроники. Сущность изобретения: смешивают предварительно синтезированную сверхпроводниковую шихту заданного фазового состава и газообразующую добавку, необходимую для формирования парогазовой каверны в растворе-расплаве. Затем смесь материала заданного фазового состава в количестве не менее 20 вес.%, газообразующей добавки в количестве не менее 20 вес.% и флюса загружают в ростовой тигель, нагревают до 800-875oС, выдерживают в течение нескольких часов, осуществляют выращивание монокристаллов в каверне при вертикальном градиенте в растворе-расплаве 1-3oС/см и температуре 795-860oС, после чего проводят охлаждение в 2 этапа. Получены чистые, обладающие сверхпроводимостью после выращивания, нелегированные зеркально-гладкие монокристаллы с линейными размерами до 5 мм, свободно выросшие в парогазовых кавернах раствора-расплава. 2 з.п. ф-лы.

Формула изобретения

1. Способ получения высокотемпературных сверхпроводниковых соединений, включающий нагрев смеси предварительно синтезированной шихты заданного фазового состава и флюса с последующим ростом монокристаллов в кавернах, отличающийся тем, что шихту приготавливают путем измельчения исходных солей и/или оксидов, после чего отжигают, охлаждают, повторно измельчают, отжигают в растворе флюса при температуре 800-875oС, а рост монокристаллов осуществляют при 795-860oС при вертикальном градиенте температур внутри раствора-расплава 1-3oС/см из смеси шихты в количестве не менее 20 вес. % и газообразующей добавки в количестве не менее 20 вес. %, отожженной при 795-845oС.

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что для получения кристаллов Bi-2223 отжиг шихты проводят при 800oС в течение 4 ч, отжиг в растворе КСl концентрацией 60 вес. % осуществляют в течение 100 ч при 870oС, отжиг газообразующей добавки в количестве 25 вес. % проводят при 815oС в течение 24 ч, а рост монокристаллов осуществляют при температуре в каверне 834-846oС.

3. Способ по п. 1, отличающийся тем, что для получения кристаллов Bi-2212 отжиг шихты проводят при 795oС в течение 28 ч, отжиг в растворе КСl концентрацией 50 вес. % осуществляют в течение 14 ч при 840oС, отжиг газообразующей добавки в количестве 25 вес. % проводят при 820oС, а рост монокристаллов осуществляют при температуре в каверне 838-850oС.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к технологии изготовления высокотемпературных сверхпроводников (ВТСП), в частности к технологии получения монокристаллов сверхпроводниковых соединений, необходимых не только для прецизионных фундаментальных исследований, но и для производства устройств сверхпроводниковой электроники. Решение этих задач для столь сложных материалов, как, например, соединения системы Bi-ВТСП с общей формулой Bi2Sr2Can-1O2n+4 (n=1, 2, 3) - многокомпонентных соединений (фаз) переменного состава с широкой областью гомогенности и инконгруэнтным плавлением обычными способами - с использованием расплава - оказалось невозможным.

Известны способы получения кристаллов спеканием керамик (1) и из растворов-расплавов (2).

Малые размеры получаемых кристаллов (порядка нескольких микрон), трудности их извлечения из матричного твердого материала - спека и отсутствие свободных поверхностей у кристаллов служат препятствием для практического использования способа спекания.

Существенным расширением возможностей получения монокристаллов Bi-ВТСП /2/ явилось выращивание из растворов-расплавов в хлоридах щелочных металлов, из последних наиболее пригодным оказался легкоплавкий флюс хлористый калий (Тпл.=770oС), растворимость в котором соединений Bi-ВТСП при 820oС составляет около 20%.

К недостаткам этого способа следует отнести необходимость отмывки кристаллов от остатков шихты и флюса, что необратимо ухудшает поверхность кристаллов.

Наиболее близким по технической сущности является способ получения монокристаллов, описанный в работе (3), в котором процесс выращивания кристаллов Bi2Sr2Ca2Cu3O10способ получения высокотемпературных сверхпроводниковых   соединений, патент № 2182194способ получения высокотемпературных сверхпроводниковых   соединений, патент № 2182194 (Bi-2223) сводится к тепловой обработке смеси КС1 (80 вес.%) и предварительно синтезированной шихты (20 вес.%) с катионным составом: Bi:Sr:Ca:Cu=2:2:2:4. Нагрев смеси осуществляли до Т=900oС, затем полученный раствор-расплав охлаждали со скоростью 3-10 град/ч. Этим способом удалось получить свободно выросшие в небольших (несколько мм3) кавернах (пустотах) внутри раствора-расплава почти квадратные пластины Bi-2223 с линейными размерами не более 100 мкм.

Таким образом, вышеперечисленные способы не дают возможности получить зеркально-гладкие монокристаллы с линейными размерами более 100 мкм, крайне необходимые для изучения анизотропии их физических свойств и продвижения ВТСП в производство электронных устройств.

Технической задачей является получение монокристаллов ВТСП с размерами не менее 1 мм, обладающих совершенной структурой, зеркальной поверхностью и сверхпроводниковыми свойствами непосредственно после выращивания. Для осуществления поставленной технической задачи необходимо приготовить смесь, состоящую из:

1) предварительно синтезированного сверхпроводникового материала заданного фазового состава,

2) газообразующей добавки для формирования ростовой парогазовой каверны в растворе-расплаве.

Синтез сверхпроводникового материала заданного фазового состава производят следующим образом. Шихту приготавливают путем измельчения исходных солей и/или окислов, отжигают в течение нескольких часов, охлаждают и повторно измельчают.

Для получения монокристаллов Bi-2223 и Bi-2212 используют специальные режимы приготовления сверхпроводниковой шихты заданного фазового состава, включающие выдержку в растворе флюса при 800-875oС.

Газообразующую добавку готовят следующим образом:

шихту, состоящую из исходных солей и/или окислов отжигают при 795-845oС в течение нескольких часов, охлаждают и измельчают.

Затем смесь шихты заданного фазового состава в количестве не менее 20 вес.%, газообразующей добавки в количестве не менее 20 вес.% и флюса, например КСl, загружают в ростовой корундовый тигель, нагревают до 840-875oС и выдерживают в течение нескольких часов при вертикальном градиенте в растворе-расплаве 1-3oС/см. Затем осуществляют выращивание монокристаллов при том же градиенте и температуре 795-860oС в каверне, после чего проводят охлаждение в два этапа: на первом этапе охлаждение осуществляют со скоростью 20oС/ч до 790-850oС, далее охлаждают со скоростью 0,1-0,3oС/ч до 780-830oС.

Сущность изобретения заключается в следующем.

При выдержке смеси сверхпроводниковой шихты в растворе-расплаве флюса, например КСl, при 840-875oС в течение нескольких часов образуется их насыщенный раствор. Одновременно в растворе-расплаве идет процесс химического разложения газообразующей добавки с выделением молекул и кластеров летучих компонентов, коагуляция которых в условиях вертикального градиента приводит к формированию ростовой парогазовой каверны объемом до нескольких кубических сантиметров. Специальным температурным режимом обеспечивают процесс зарождения на стенках каверны и дальнейшего роста с участием газовой фазы монокристаллов, фазовый состав которых задан составом сверхпроводниковой шихты. Большой объем каверны - несколько см3 - является необходимым условием свободного роста монокристаллических пластин с линейными размерами до 3-4 мм.

Заявляемое изобретение иллюстрируется следующими примерами.

Пример 1. Способ получения монокристаллов Bi-2223.

Для приготовления сверхпроводниковой шихты весом 120 г, состоящей из Вi2О3, SrСО3, СаСО3 и СuО, взятых в соотношении катионов 1:1:1:2, измельчают, перемешивают и отжигают в течение 4 ч при 800oС, охлаждают, добавляют КСl концентрацией 60 вес. % и снова отжигают в течение 100 ч при 870oС. Анализ показал наличие высокотемпературной фазы Bi-222 с температурой перехода в сверхпроводящее состояние Тc>100 К в количестве более 20%. Отдельным этапом синтезируют газообразующую добавку того же исходного состава в количестве 25 вес. % путем отжига при 815oС в течение 24 ч. Анализ показал наряду с содержанием основной фазы Bi-2212 наличие соединений на основе катионов Са и Сu, введенных в избытке по отношению к номинальной формуле 2212, а также Sr, например SrCuO2, CuO, SiСО3.

К смеси вышеописанных шихты и добавки, взятых в количестве 36 г и 37 г соответственно, прибавляют 107 г КСl, перемешивают, полученную общую навеску общим весом 180 г помещают в корундовый тигель и осуществляют рост кристаллов по специально разработанному режиму, который включает выдержку при 853oС в течение 24 ч и собственно рост кристаллов в парогазовой каверне в следующих режимах: интервал температур в каверне 834-846oС, медленное охлаждение со скоростью 0,1-0,3oС/ч, вертикальный градиент в зоне роста 1-2oС/см.

В результате этого процесса были получены чистые специально нелегированные посторонними примесями однофазные пластинчатые зеркально-гладкие монокристаллы Bi-2223 с линейными размерами до 1,8способ получения высокотемпературных сверхпроводниковых   соединений, патент № 21821941,5 мм2 с Тc=(109способ получения высокотемпературных сверхпроводниковых   соединений, патент № 21821941)oК.

Пример 2. Способ получения монокристаллов Bi-2212.

Для приготовления сверхпроводниковой шихты весом 100 г, состоящей из Вi2О3, SrСО3, СаСО3 и СuО, взятых в соотношении катионов 1:1:1:2, измельчают, перемешивают и отжигают в течение 28 ч при 795oС; после добавления КСl концентрацией 50 вес.% отжигают полученную смесь в течение 14 ч при 840oС. Анализ показал наличие основной фазы Bi-2212 в количестве не менее 90-95%. Этап приготовления газообразующей добавки проводят по режиму, описанному в примере 1: отжиг того же исходного состава проводят при 820oС. Этап выращивания кристаллов Bi-2212 проводят по схеме, описанной в примере 1, со следующими параметрами режима выращивания:

температура выдержки раствора-расплава для образования насыщенного раствора 860oС в течение 22 ч;

интервал температур роста в каверне 838-850oС;

время медленного охлаждения со скоростью 0,1-0,3oС/ч - 55 ч;

вертикальный градиент температуры в зоне роста 2-3oС/см.

В результате были получены чистые нелегированные однофазные зеркально-гладкие монокристаллы Bi-2212 в виде удлиненных прямоугольных пластин длиной до 4-5 мм.

Аналогичным способом могут быть получены сверхпроводящие монокристаллы Bi-2201, а именно: температура выдержки раствора-расплава - 865oС, интервал температур роста в каверне - 850-860oС, концентрация газообразующей добавки в растворе-расплаве - не менее 30 вес.%.

Решение поставленной задачи - увеличение линейных размеров до требуемых величин позволило получить новые результаты: впервые проведены комплексные систематические рентгеноструктурные, транспортные и туннельные исследования на индивидуальных монокристаллах Bi-2223 (4).

Таким образом, кристаллы, полученные согласно заявляемому способу, могут быть широко использованы при производстве устройств сверхпроводниковой электроники.

Литература

1. Z. Xu, P.D. Han, L. Chang, et al. / Electron microscopy studies of high Tc phase development in melt - quenched Bi-Ca-Sr-Cu oxides J. Mater. Res. Vol., 5, 1990, p. 39-45.

2. L. F. Schneemeyer, R.B. Van Dover, S.H. Glarum et al. Growth of superconducting single crystals in the Bi-Sr-Ca-Cu-O system from alkali chloride fluxes. / Nature, vol. 332, 1988, p. 422-424.

3. Александров О. В. и др. Монокристаллы высокотемпературной фазы Bi2Sr2Ca2Cu3O10способ получения высокотемпературных сверхпроводниковых   соединений, патент № 2182194способ получения высокотемпературных сверхпроводниковых   соединений, патент № 2182194 . Сверхпроводимость: физика, химия, техника, т. 5, 12, 1992, с. 2333-2337.

4. G.Y. Gorina, G.A. Kalyuzhnaia, V.P. Martovitsky, V.Y. Rodin, N.N. Sentyuruna, V.A. Stepanov / Growth and structural and superconducting properties of Bi2Sr2Ca2Cu3O10 Bi-2223 crystals grown in cavities formed in solution melt KCl.

Класс C30B9/12 солевые растворители, например выращивание из флюсов

способ выращивания монокристаллов литий-висмутового молибдата -  патент 2519428 (10.06.2014)
способ выращивания кристалла методом киропулоса -  патент 2494176 (27.09.2013)
способ выращивания монокристаллов литий-магниевого молибдата -  патент 2487968 (20.07.2013)
способ выращивания монокристаллов нитрида галлия -  патент 2477766 (20.03.2013)
способ выращивания объемных монокристаллов александрита -  патент 2471896 (10.01.2013)
способ получения монокристаллов высокотемпературных сверхпроводящих соединений типа "123" -  патент 2434081 (20.11.2011)
способ выращивания объемных монокристаллов хризоберилла и его разновидностей -  патент 2315134 (20.01.2008)
устройство для выращивания монокристаллов сложных окислов -  патент 2245945 (10.02.2005)
способ приготовления раствор-расплава для выращивания монокристаллов -bab2o4 -  патент 2195520 (27.12.2002)
способ гомогенизации раствор-расплавов или расплавов при выращивании монокристаллов -  патент 2164561 (27.03.2001)

Класс C30B29/22 сложные оксиды

способ соединения деталей из тугоплавких оксидов -  патент 2477342 (10.03.2013)
способ выращивания объемных монокристаллов александрита -  патент 2471896 (10.01.2013)
способ получения сложного оксида со структурой силленита -  патент 2463394 (10.10.2012)
способ получения монокристаллов высокотемпературных сверхпроводящих соединений типа "123" -  патент 2434081 (20.11.2011)
pr-содержащий сцинтилляционный монокристалл, способ его получения, детектор излучения и устройство обследования -  патент 2389835 (20.05.2010)
способ получения совершенных кристаллов трибората цезия из многокомпонентных растворов-расплавов -  патент 2367729 (20.09.2009)
способ получения кристаллов иодата лития для широкополосных преобразователей ультразвука -  патент 2347859 (27.02.2009)
способ получения кристалла на основе бората и генератор лазерного излучения -  патент 2338817 (20.11.2008)
способ выращивания профилированных монокристаллов иодата лития гексагональной модификации на затравку, размещаемую в формообразователе -  патент 2332529 (27.08.2008)
полупроводниковый антиферромагнитный материал -  патент 2318262 (27.02.2008)

Класс H01L39/24 способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки предусмотренных в  39/00 приборов или их частей

способ электроискрового формирования тонкопленочной втсп схемы -  патент 2508576 (27.02.2014)
металлическая сборка, заготовка для сверхпроводника, сверхпроводник и способ, пригодный для получения сверхпроводника -  патент 2507636 (20.02.2014)
устройство и способ для нанесения сверхпроводящих слоев -  патент 2503096 (27.12.2013)
способ осуществления гиперпроводимости и сверхтеплопроводности -  патент 2497236 (27.10.2013)
способ изготовления подложки для высокотемпературных тонкопленочных сверхпроводников и подложка -  патент 2481674 (10.05.2013)
способ изготовления тонкопленочного высокотемпературного сверхпроводящего материала -  патент 2481673 (10.05.2013)
способ обработки высокотемпературного сверхпроводника -  патент 2477900 (20.03.2013)
способ изготовления сверхпроводниковых однофотонных детекторов -  патент 2476373 (27.02.2013)
способ формирования гладких ультратонких ybco пленок повышенной проводимости -  патент 2450389 (10.05.2012)
устройство для высокотемпературного осаждения сверхпроводящих слоев -  патент 2443038 (20.02.2012)
Наверх