способ гомогенизации раствор-расплавов или расплавов при выращивании монокристаллов

Классы МПК:C30B15/14 нагревание расплава или кристаллизуемого материала
C30B15/20 управление или регулирование
C30B9/12 солевые растворители, например выращивание из флюсов
Автор(ы):, ,
Патентообладатель(и):Институт минералогии и петрографии СО РАН
Приоритеты:
подача заявки:
2000-01-26
публикация патента:

Изобретение относится к выращиванию монокристаллов, в частности к стадии предподготовки раствор-расплавов или расплавов, т.е. их гомогенизации, предшествующей росту кристалла. Для решения поставленной задачи осуществляют перемешивание раствор-расплавов или расплавов путем создания управляемого теплового поля в тигле, содержащем расплав или раствор-расплав. При этом используют нагревательную печь с вертикальным расположением нагревательных элементов, разделенных на секции, и осуществляют последовательное отключение нагрева секций печи с интервалом, обеспечивающим последовательное смещение центра схождения конвективных потоков, возникающих в расплаве или раствор-расплаве, от центра к стенкам тигля. 3 ил.
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3

Формула изобретения

Способ гомогенизации расплавов или раствор-расплавов при выращивании монокристаллов путем перемешивания расплавов или раствор-расплавов, отличающийся тем, что гомогенизацию проводят в нагревательной печи с вертикальным расположением нагревательных элементов, разделенных на секции, и осуществляют последовательное отключение нагрева секций печи с интервалом, обеспечивающим последовательное смещение центра схождения конвективных потоков расплава или раствор-расплава от центра к стенкам тигля.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к области выращивания монокристаллов из расплавов или раствор-расплавов, в частности к стадии их предподготовки, предшествующей росту кристалла, т.е. гомогенизации раствор-расплавов или расплавов.

Степень гомогенизации раствор-расплавов или расплавов, находящихся в тигле, на стадии, предшествующей выращиванию кристаллов, играет важную роль при получении многих кристаллов. При гомогенизации достигают полноты протекания синтеза, высвобождения из расплава или раствор-расплава газообразных продуктов реакции и высокой однородности по составу. Гомогенизацию проводят за счет повышения температуры, длительности изотермического процесса и механического перемешивания.

Как правило, перед началом роста осуществляют перегрев расплава при температуре несколько выше температуры плавления и выдерживают в течение определенного времени для достижения его гомогенного состояния [1,2]. Готовность плава для роста проверяют по температуре насыщения при повторных затравлениях.

Использование высоких температур для подготовки расплава имеет ряд недостатков. Подготовленные расплавы или раствор- расплавы участвуют в многократных ростовых процессах, и высокотемпературная гомогенизация может привести к неконтролируемому изменению состава и, в конечном итоге, повлиять на качество выращенных кристаллов. Кроме того, в том случае, когда в шихте применяются легколетучие соединения, например оксид молибдена, соединения цезия и другие, уменьшается ресурс работы нагревательных печей вследствие повышенной агрессивности летучих компонентов.

Более эффективным способом гомогенизации наплавленного в тигле расплава или раствор-расплава является способ механического перемешивания [3].

Однако по достижении гомогенного состояния для проведения процесса роста, как правило, необходимо переоснащение ростовой установки в разогретом состоянии, в частности замена мешалки на затравкодержатель. Это достаточно трудоемкая операция, зачастую небезопасная для здоровья обслуживающего персонала, поскольку большинство раствор-расплавов обладают токсическими свойствами. Кроме того, переоснастка при высоких температурах может явиться причиной загрязнения исходной шихты.

Для решения поставленной задачи для гомогенизации расплавов или раствор-расплава перемешивание осуществляют путем создания управляемого теплового поля в тигле, содержащем расплав или раствор-расплав. При этом используют нагревательную печь с вертикальным расположением нагревательных элементов, разделенных на секции, и осуществляют последовательное отключение нагрева секций печи с интервалом, обеспечивающим последовательное смещение центра схождения конвективных потоков, возникающих в расплаве или раствор-расплаве, от центра к стенкам тигля.

При использовании для выращивания кристаллов прецизионных нагревательных печей с вертикальным расположением нагревательных элементов, описанных в работе [4], на поверхности расплава или раствор-расплава создается осесимметричное тепловое поле, в котором конвективные потоки сходятся в центре расплава. В соответствии с изобретением в результате последовательного отключения подачи мощности на одну из секций печи в расплаве или раствор-расплаве устанавливается неосесимметричное тепловое поле, в котором схождение конвективных потоков сдвигается от центра тигля в сторону отключенной секции нагревательных элементов.

На фиг. 1 представлена схема терморегулирования и коммутации нагревательных элементов в трехсекционной нагревательной прецизионной печи для создания теплового поля с неосесимметричным тепловым полем. На фиг. 2 показано изменение температуры в центре расплава или раствор-расплава в зависимости от времени в режиме переключений секций (Tпериода=30 мин). На фиг. 3 представлены картины конвективных потоков на поверхности расплава или раствор- расплава: а) осесимметричное тепловое поле, б) неосесимметричное тепловое поле при отключении первой секции нагревательных элементов.

Пример. В платиновый тигель объемом 400 см3 (диаметром 80 мм) загружают шихту для выращивания кристалла двойного бората цезия-лития CsLiB6O10 (CLBO) состава: Cs2CO3 (осч) - 240,9 г; Li2CO3 (осч) - 54,65 г; B2O3 (осч) - 212,75 г; MoO3 (чда) - 56,8 г. Шихту предварительно перемешивают механически. Тигель помещают в нагревательную прецизионную печь при t = 850oC для получения расплава. Вокруг муфеля печи расположены 15 нагревательных элементов (НЭ), разделенных на 3 секции по 5 в каждой (фиг. 1). Температуру в печи поддерживают при помощи терморегулятора типа РИФ-101, состоящего из термостата холодных спаев термопары (T), задатчика температуры (ЗТ), пропорционально-интегрально-дифференциального регулятора (ПИД) и силового блока (БС). На выходе БС установлен коммутатор (K), позволяющий коммутировать подачу мощности (U) на каждую из секций НЭ с заданной частотой. Для обеспечения устойчивости процесса терморегулирования при отключении секций НЭ сигналом отрицательной обратной связи является ЭДС от трех последовательно соединенных термопар, установленных в каждой из секций НЭ. Отключение секций НЭ производилось через каждые 30 мин. Запись показаний температуры от времени получена при помощи Pt- Pt/10%Rh термопары, помещенной в центре ростового тигля на 5 мм ниже поверхности раствор-расплава (фиг.2). Экспериментально установлен оптимальный режим переключения нагревательных секций печи, равный 30 мин, что обеспечивает неосесимметричное тепловое поле с колебанием температуры в центральной точке расплава порядка 5 градусов. После 16 часов такого режима гомогенизации - перемешивания раствор-расплава - печь переключают в ростовой режим с равномерным подводом мощности ко всем НЭ. Затем, через 2 часа, необходимых для выравнивания температуры во всем объеме раствор-расплава, в печь опускают на платиновом стержне затравку из монокристалла CLBO, ориентированную в направлении [011] и определяют температуру насыщения по скорости оплавления затравки при касании раствор-расплава. После затравления проводят рост при снижении температуры со скоростью 1-2 град/сутки. В случае неготовности расплава при недостаточной гомогенизации температура насыщения была выше обычной на 10-20 град по той причине, что плотность кристалла CLBO меньше плотности раствор-расплава. Неоднородность расплава по составу приводит к обогащению поверхностного слоя основным веществом и изменению реальной температуры начала роста.

Таким образом, в результате последовательного отключения нагрева секций печи с интервалом, обеспечивающим последовательное смещение центра схождения конвективных потоков расплава или раствор-расплава от центра к стенкам тигля, в тигле устанавливается режим нерегулярной конвекции, способствующий эффективной гомогенизации находящегося в тигле раствор-расплава. В осесимметричном тепловом поле на поверхности раствор-расплава наблюдается конвективная картина потоков в виде сходящихся в центре лучей (фиг. 3а), а при включении режима гомогенизации в соответствии с предложенным способом картина потоков теряет осевую симметрию, и центр схождения конвективных потоков смещается в сторону отключенной секции НЭ (фиг. 3б).

Источники информации

1. A.Jiang et all. Flux growth of large single crystals of low temperature phase barium metaborate.-J.of Crystal Growth, 1989, v.79, p. 352-366.

2. Безматерных Л.Н., Темеров В.Л., Васильева Е.П., Жгун В.И. Способ выращивания монокристаллов гематита. - Авторское свидетельство N 1740505, Бюллетень N 22, 15.06.92.

3. Р. Н. Андреев, В.Н.Войцеховский, А.Г.Калинцев и др. Опыт выращивания монокристаллов титанилфосфата калия (КТР) и изготовления из них нелинейных элементов. - Оптический журнал, 1995, N 11, с.75-79.

4. Кох А. Е. , Кох В.Е., Гец B.A., Кононова Н.Г. Прецизионная нагревательная печь для выращивания кристаллов. - Приборы и техника эксперимента, 1998, N 4, с 153-158.

Класс C30B15/14 нагревание расплава или кристаллизуемого материала

способ выращивания кристаллов парателлурита гранной формы и устройство для его осуществления -  патент 2507319 (20.02.2014)
получение кристаллов -  патент 2456386 (20.07.2012)
сапфир с r-плоскостью, способ и устройство для его получения -  патент 2448204 (20.04.2012)
способ и установка для выращивания монокристалла сапфира с ориентацией в с-плоскости -  патент 2436875 (20.12.2011)
устройство для выращивания монокристаллов сапфира -  патент 2419689 (27.05.2011)
устройство для выращивания монокристаллов кремния методом чохральского -  патент 2382121 (20.02.2010)
устройство для выращивания объемных прямоугольных монокристаллов сапфира -  патент 2368710 (27.09.2009)
устройство для выращивания тугоплавких монокристаллов -  патент 2361020 (10.07.2009)
устройство для выращивания монокристаллов кремния методом чохральского -  патент 2355834 (20.05.2009)
способ получения монокристаллов linbo3 и устройство для его осуществления -  патент 2330903 (10.08.2008)

Класс C30B15/20 управление или регулирование

сапфир с r-плоскостью, способ и устройство для его получения -  патент 2448204 (20.04.2012)
способ выращивания монокристалла сапфира на затравочном кристалле, остающемся в расплаве, в автоматическом режиме -  патент 2423559 (10.07.2011)
способ выращивания монокристалла сапфира на затравочном кристалле, остающемся в расплаве в процессе выращивания -  патент 2417277 (27.04.2011)
способ выращивания монокристаллов с заданным распределением примесей по его длине -  патент 2402646 (27.10.2010)
способ выращивания монокристаллов сапфира -  патент 2355830 (20.05.2009)
способ выращивания монокристаллов парателлурита из расплава по чохральскому -  патент 2338816 (20.11.2008)
способ выращивания оптически прозрачных монокристаллов тербий-галлиевого граната -  патент 2328560 (10.07.2008)
способ получения монокристаллов -  патент 2293146 (10.02.2007)
способ получения монокристаллического кремния (варианты) -  патент 2278912 (27.06.2006)
способ выращивания монокристаллов из расплава методом амосова -  патент 2261297 (27.09.2005)

Класс C30B9/12 солевые растворители, например выращивание из флюсов

способ выращивания монокристаллов литий-висмутового молибдата -  патент 2519428 (10.06.2014)
способ выращивания кристалла методом киропулоса -  патент 2494176 (27.09.2013)
способ выращивания монокристаллов литий-магниевого молибдата -  патент 2487968 (20.07.2013)
способ выращивания монокристаллов нитрида галлия -  патент 2477766 (20.03.2013)
способ выращивания объемных монокристаллов александрита -  патент 2471896 (10.01.2013)
способ получения монокристаллов высокотемпературных сверхпроводящих соединений типа "123" -  патент 2434081 (20.11.2011)
способ выращивания объемных монокристаллов хризоберилла и его разновидностей -  патент 2315134 (20.01.2008)
устройство для выращивания монокристаллов сложных окислов -  патент 2245945 (10.02.2005)
способ приготовления раствор-расплава для выращивания монокристаллов -bab2o4 -  патент 2195520 (27.12.2002)
способ получения высокотемпературных сверхпроводниковых соединений -  патент 2182194 (10.05.2002)
Наверх