коллимирующая оптическая система для полупроводникового лазера

Классы МПК:G02B27/30 коллиматоры 
Автор(ы):, , , ,
Патентообладатель(и):Конструкторское бюро приборостроения
Приоритеты:
подача заявки:
1995-01-12
публикация патента:

Использование: в оптическом приборостроении и относится к коллимирующим оптическим системам с преломляющимися элементами, может быть использовано в системах оптической локации, оптической связи, управления и наблюдательных приборах. Сущность изобретения заключается в том, что коллимирующая оптическая система для полупроводникового лазера 1 содержит последовательно расположенные по ходу лучей объектив 2, 3 и группу призм 4, 5. Ребра преломляющих двугранных углов призм 4, 5 ориентированы параллельно плоскости полупроводникового перехода. Преломляющие углы призм 4, 5 выбираются в пределах 25-40o. Угловое увеличение Г группы призм 4, 5 выбирается из следующего соотношения: коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743, где коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 - углы расходимости излучения полупроводникового лазера в плоскостях, параллельной и перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода соответственно. Передняя фокальная плоскость объектива смещена относительно предметной плоскости на расстояние коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 21017430, определяемое соотношением: коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743, где коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 и aколлимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 - размеры тела свечения полупроводникового лазера в плоскостях, параллельной и перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода соответственно. Продольная сферическая аберрация коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(u) объектива выбирается из следующего соотношения: коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(u) = -2/3коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 21017430коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(u/коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743)2, где U - апертурный угол объектива. 3 ил.
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3

Формула изобретения

Коллимирующая оптическая система для полупроводникового лазера, содержащая последовательно расположенные по ходу лучей объектив и группу призм, отличающаяся тем, что ребра преломляющих двугранных углов призм ориентированы параллельно плоскости полупроводникового перехода, преломляющие углы призм выбираются в пределах 25 40o, угловое увеличение Г группы призм выбирается из следующего соотношения:

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743

где коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 углы расходимости излучения полупроводникового лазера по уровню 0,5 в плоскостях, параллельной и перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода соответственно, передняя фокальная плоскость объектива смещена относительно предметной плокости на расстояние коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743o, определяемое соотношением

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743

где коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 размеры тела свечения полупроводникового лазера в плоскостях, параллельной и перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода соответственно, а продольная сферическая аберрация коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(u) объектива выбирается из следующего соотношения:

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(u) = -2/3Soколлимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(u/коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743)2,

где U апертурный угол объектива;

So> расстояние от передней фокальной плоскости объектива до предметной плоскости;

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 - угол расходимости излучения полупроводникового лазера по уровню 0,5 в плоскости, перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к оптическому приборостроению, точнее к коллимирующим оптическим системам с преломляющими элементами, и может быть использовано в системах оптической локации, оптической связи, управления и наблюдательных приборах.

Известна коллимирующая оптическая система для полупроводникового лазера, содержащая последовательно расположенные по ходу лучей положительный оптический компонент и цилиндрический оптический компонент, ось которого ориентирована параллельно плоскости полупроводникового перехода [1]

Недостатком указанной оптической системы является невозможность коррекции формы сечения и углового распределения интенсивности выходного пучка.

В дальней зоне, то есть на большом удалении от оптической системы, отсутствие осевой симметрии и неравномерность распределения интенсивности в сечении выходного пучка представляет серьезное неудобство при работе с коллимированным пучком. В ближней зоне, то есть вблизи оптической системы, отсутствие осевой симметрии в сечении выходного пучка приводит к неполному заполнению входного и выходного зрачков телескопической оптической системы, которая может устанавливаться после коллимирующей оптической системы и содержать штриховые метки, шкалы или сетки, проецируемые на бесконечность. Неполное заполнение зрачков приводит к ухудшению качества изображения.

Отсутствие осевой симметрии в сечении выходного пучка в ближней зоне связано с различной угловой расходимостью излучения полупроводникового лазера в двух взаимно перпендикулярных плоскостях параллельной и перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода. Отсутствие осевой симметрии в сечении выходного пучка в дальней зоне связана с тем, что тело свечения полупроводникового лазера имеет форму сильно вытянутого прямоугольника, большая сторона которого ориентирована параллельно плоскости полупроводникового перехода.

Полупроводниковые лазеры, излучающие большую мощность в непрерывном режиме при комнатной температуре, относятся к лазерам на двойной гетероструктуре с полосковой геометрией. Для таких лазеров характерны значения угловой расходимости излучения по уровню коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 (в плоскостях, параллельной и перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода). Характерные размеры тела свечения коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 50 500 мкм (в зависимости от выходной мощности излучения P 0,5-5 Вт) и aколлимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 1 мкм (в плоскостях, параллельной и перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода) [3, 4, 5]

В указанной оптической системе ([1] фиг.7) форма сечения выходного пучка в дальней зоне может быть скорректирована действием цилиндрического компонента. Форма сечения выходного пучка в ближней зоне может быть скорректирована путем размещения цилиндрического компонента на таком расстоянии от положительного компонента, при котором размеры падающего на цилиндрический компонент светового пучка становятся одинаковыми в двух взаимно перпендикулярных плоскостях параллельной и перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода. Однако вследствие малой угловой расходимости светового пучка на выходе положительного компонента такой путь приводит к чрезмерному увеличению продольного габарита указанной оптической системы.

Другим недостатком указанной оптической системы является использование цилиндрических линз, технологически сложных в изготовлении.

Наиболее близким по технической сущности к заявляемой является коллимирующая оптическая система, содержащая последовательно расположенные по ходу лучей первый отрицательный оптический компонент, первую группу призм, положительный оптический компонент, вторую группу призм и второй отрицательный оптический компонент, в которой апертурный угол оптических компонентов выбирается в пределах 20o-40o, преломляющий угол призм выбирается в пределах 10o-40o, а угол коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 ориентации призм по отношению к оптической оси связан с преломляющим углом a соотношением b = (2-3)коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 [2]

Как следует из описания, наиболее эффективным является применение указанной оптической системы для коллимирования излучения полупроводниковых лазеров. При этом отпадает необходимость в первом отрицательном оптическом компоненте.

Недостатком указанной оптической системы в случае ее применения для полупроводниковых лазеров является невозможность коррекции формы сечения и углового распределения интенсивности выходного пучка, что связано с неудобством работы с коллимированным световым пучком и ухудшением качества изображения штриховых меток, шкал или сеток, проецируемых на бесконечность.

В указанной оптической системе форма сечения выходного пучка в ближней зоне может быть скорректирована действием первой группы призм. Однако в дальней зоне форма сечения выходного пучка не может быть скорректирована действием второй группы призм, так как для этого во второй группе призм необходимо обеспечить угловое увеличение коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743, а типичное угловое увеличение одной призмы в указанной оптической системе составляет 0,5-1,5 ([2] фиг.6). Увеличение количества призм в одной группе более 5 является практически неприемлемым.

Кроме того, так как в указанной оптической системе проходящие через призмы световые пучки имеют большую апертуру, в выходной пучок вносятся большие аберрационные искажения, которые сами по себе приводят к нарушению осевой симметрии выходного пучка.

Технической задачей изобретения является обеспечение коррекции формы сечения выходного пучка одновременно в ближней и дальней зоне, то есть вблизи оптической системы и на большом расстоянии от нее, а также обеспечение коррекции распределения интенсивности в сечении выходного пучка в дальней зоне.

Технический результат достигается тем, что в коллимирующей оптической системе для полупроводникового лазера, содержащей последовательно расположенные по ходу лучей объектив и группу призм, ребра преломляющих двугранных углов призм ориентированы параллельно плоскости полупроводникового перехода, преломляющие углы призм выбираются в пределах 25-40o, угловое увеличение Г группы призм выбирается из следующего соотношения:

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743

где коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 углы расходимости излучения полупроводникового лазера по уровню 0,5 в плоскостях, параллельной и перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода соответственно, передняя фокальная плоскость объектива смещена относительно предметной плоскости на расстояние коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 21017430, определяемое соотношением:

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743

где коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 размеры тела свечения полупроводникового лазера в плоскостях, параллельной и перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода соответственно, а продольная сферическая аберрация коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(u) объектива выбирается из следующего соотношения:

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(u) = -2/3коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743oколлимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(u/коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743)2,

где U апертурный угол объектива,

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 расстояние от передней фокальной плоскости объектива до предметной плоскости,

qколлимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 угол расходимости излучения полупроводникового лазера по уровню 0,5 в плоскости, перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода.

Коррекция формы сечения выходного пучка в ближней и дальней зоне обеспечивается соответственно действием группы призм и небольшой дефокусировкой объектива, а коррекция распределения интенсивности в сечении выходного пучка в дальней зоне обеспечивается действием сферической аберрации объектива.

На фиг. 1 показана коллимирующая оптическая система для полупроводникового лазера, поперечный разрез в плоскости, перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода, на фиг.2,а и 2,б ход осевого и крайних лучей светового пучка в двух сечениях параллельном и перпендикулярном плоскости полупроводникового перехода, на фиг.3 вариант коллимирующей оптической системы для нескольких полупроводниковых лазеров, поперечный разрез в плоскости, перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода.

Коллимирующая оптическая система для полупроводникового лазера (фиг.1) содержит последовательно расположенные объектив, установленный напротив полупроводникового лазера 1 и состоящий из линз 2 и 3, и призмы 4 и 5. Ребра двугранных углов, образованных преломляющими гранями призм 4 и 5, расположены перпендикулярно плоскости полупроводникового перехода. Углы между преломляющими гранями выполнены одинаковыми по величине в пределах 25-40o. Входные грани призм установлены перпендикулярно падающему на них пучку, при этом угол отклонения лучей в призме 5 равен по величине и противоположен по знаку углу отклонения лучей в призме 4.

Коллимирующая оптическая система работает следующим образом. Сильно расходящийся световой пучок полупроводникового лазера преобразуется объективом в слабо расходящийся световой пучок, в ближней зоне, то есть в непосредственной близости от объектива, размеры пучка пропорциональны угловой расходимости излучения лазера. В дальней зоне, то есть на большом расстоянии от объектива, размеры пучка связаны с размером тела свечения полупроводникового лазера и расстоянием от тела свечения до передней фокальной плоскости объектива.

Полупроводниковые лазеры, излучающие большую мощность в непрерывном режиме при комнатной температуре, относятся к лазерам на двойной гетероструктуре с полосковой геометрией. Для таких лазеров характерны значения угловой расходимости излучения по уровню коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 (в плоскостях, параллельной и перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода). Характерные размеры тела свечения коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 50-500 мкм (в зависимости от выходной мощности излучения P 0,5-5 Вт) и aколлимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 1 мкм (в плоскостях, параллельной и перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода [3, 4, 5]

В соответствии с этим в ближней зоне вышедший из объектива световой пучок имеет большой размер в плоскости, перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода. В дальней зоне, наоборот, световой пучок имеет больший размер в плоскости, параллельной полупроводниковому переходу.

Призмы 4 и 5 представляют собой телескопическую анаморфотную систему [6] В плоскости, параллельной плоскости полупроводникового перехода, призмы не изменяют размеры светового пучка ни в ближней, ни в дальней зоне. В плоскости, перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода, призмы трансформируют проходящий световой пучок таким образом, что его размер уменьшается в ближней зоне и увеличивается в дальней зоне. В результате на выходе призм формируется практически осесимметричный световой пучок.

В плоскости, параллельной плоскости полупроводникового перехода, из-за большой ширины активного слоя лазер генерирует излучение на нескольких поперечных модах резонатора, в связи с этим угловое распределение интенсивности излучения лазера в этой плоскости приблизительно постоянно в пределах угла расходимости коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743. В плоскости, перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода, волноводный слой способен удерживать только одну низшую поперечную моду, и угловое распределение интенсивности излучения лазера в этой плоскости описывается гауссовой кривой с шириной коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 по уровню 0,5 [3, 4, 5]

При отсутствии аберраций объектива распределение интенсивности в сечении выходного пучка в дальней зоне пропорционально распределению освещенности в передней фокальной плоскости объектива. В соответствии с вышеизложенным в плоскости, параллельной плоскости полупроводникового перехода, это распределение будет постоянным в пределах угла расходимости выходного пучка. В плоскости, перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода, это распределение будет описываться гауссовой кривой.

Сферическая аберрация объектива действует таким образом, что лучи от периферийных участков выходного зрачка объектива в дальней зоне испытывают смещение в сторону оптической оси.

В плоскости, параллельной плоскости полупроводникового перехода, апертура падающего на объектив пучка мала, поэтому сферическая аберрация незначительна и практически не искажает распределение интенсивности в сечении выходного пучка, которое остается постоянным в пределах угла расходимости. В плоскости, перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода, положительная сферическая аберрация приводит к перераспределению интенсивности в сечении выходного пучка от периферийных участков сечения в центральную его часть. В результате в центральной части сечения выходного пучка в дальней зоне формируется практически постоянное распределение интенсивности.

На фиг. 2,а и 2,б показаны: H и H"- передняя и задняя главные плоскости объектива; G и G"- плоскости входного и выходного зрачков призменной системы (предполагается, что выходной зрачок расположен на выходной грани последней призмы); F передний фокус объектива; E центр тела свечения; A, B, C, D - крайние точки тела свечения; EE1E2E3, EE4E5E6 нулевой и осевой лучи; AA1A2A3, BB1B2B3, CC1C2C3, DD1D2D3 лучи, определяющие границы светового пучка в дальней зоне.

Введем обозначения:

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743

Г угловое увеличение группы призм,

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(u) продольная сферическая аберрация объектива,

I(u), J(v) угловое распределение интенсивности лазерного пучка и выходного пучка в плоскости, перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода.

Для осевого пучка имеем следующие соотношения:

I(u)коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743d(u)=J(v)коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743dv (1)

u-uколлимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(f-коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 21017430)/(f+коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(u)) v/Г (2)

Гауссова функция I(u) аппроксимируется квадратичной зависимостью:

I(u) = Ioколлимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(1-2(u)/коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743)2) (3)

При -1,2коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 < u < 1,2коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 точность такой аппроксимации коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 21017435% что достаточно для большинства практических применений.

Условие постоянства углового распределения интенсивности выходного пучка J(v) J0 const. При этом условии из (1)-(3) с учетом того, что коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 21017430, коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(u) коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 f получаем соотношение:

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743

Для крайних лучей пучка имеем следующие соотношения:

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743-(коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(f-коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743o)-aколлимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743)/(f+коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743/2)) = Wколлимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743/Г, (8)

Условие осевой симметрии выходного пучка в ближней и дальней зоне коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743. При этом условии из (4)-(8) с учетом того, что a, a << f и коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743, получаем соотношения:

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743

Для указанных выше характеристик значений O, O, d, d, а соответствующие значения Г 2,5-5, коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 21017430 0,015-0,5 мм, коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743(коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743/2) = -(0,003-0,1)мм.

Угловое увеличение Г группы призм связано с преломляющим углом коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 призм и показателем преломления n стекла призмы следующим соотношением (6):

Г = (1-(sinколлимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743)2)/(1-(nsinколлимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743)2), (11)

Для указанных значений Г и типичных значений n 1,5-1,7 соответствующие значения коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 лежат в пределах 25-40o.

Коллимирующая оптическая система может быть использована для получения осесимметричного светового пучка от нескольких полупроводниковых лазеров. Вариант такой системы для двух лазеров содержит объективы, состоящие из линз 2, 3 и 5, 6, расположенные напротив полупроводниковых лазеров 1 и 4, и призмы 7, 8 (фиг. 3). Оптические оси объективов параллельны друг другу и лежат в одной плоскости, перпендикулярной преломляющим граням призмы 7, 8. В остальном оптическая система для двух лазеров аналогична такой системе для одного лазера. Отличие состоит только в том, что в плоскости, перпендикулярной плоскости полупроводникового перехода, размер входящего в группу призм светового пучка увеличивается в два раза, так как объединяются два световых пучка от лазеров 1 и 4.

В коллимирующей оптической системе для нескольких полупроводниковых лазеров соотношения (4) (6) остаются справедливыми, если только левую часть соотношения (6) умножить на N количество полупроводниковых лазеров. Из условия симметричности выходного пучка в ближней зоне получаем соотношение:

коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743

Для указанных выше характерных значений коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 и N 2 соответствующие значения Г 5 10, коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743 0,006 0,25 мм, d(коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743коллимирующая оптическая система для полупроводникового   лазера, патент № 2101743/2) = -(0,001-0,005)мм.

Таким образом, предлагаемая коллимирующая оптическая система позволяет получить практически осесимметричный световой пучок с постоянным угловым распределением интенсивности в расходимости как от одного, так и от нескольких полупроводниковых лазеров.

Источники информации

1. Патент ЕР N 0100242, кл. 6 G O1 B 13/00, H OI S 3/00, 1983.

2. Авторское свидетельство СССР N 1624392, кл. 6 G O2 B 27/30, 1991.

3. Справочник по лазерной технике./Под ред. проф. А.П.Напартовича. М. Энергоиздат, 1991, с. 139.

4. Э. В. Аржанов, А. П.Богатов, В.П.Коняев, О.М.Никитина, В.И.Швейкин. Волноводные свойства гетеролизеров. "Квантовая электроника", 1994, т. 21(7), с. 633.

5. Laser diode product catalog. Spektra Diode Labs, 1993.

6. Вычислительная оптика. Справочник./Под общ. ред. проф. М.М.Русинова.

Л. Машиностроение, 1984, с. 217.

Класс G02B27/30 коллиматоры 

объектив коллиматора -  патент 2517760 (27.05.2014)
автоколлимационное теневое устройство -  патент 2497165 (27.10.2013)
автоколлимационное углоизмерительное устройство -  патент 2491586 (27.08.2013)
коллиматор -  патент 2489744 (10.08.2013)
коллимирующая оптическая система для полупроводникового лазера -  патент 2481605 (10.05.2013)
инфракрасный коллиматор -  патент 2470335 (20.12.2012)
видеоавтоколлиматор -  патент 2455668 (10.07.2012)
коллиматор для настройки многоканальной телевизионной системы -  патент 2413267 (27.02.2011)
оптическая система для полупроводниковых лазеров -  патент 2390811 (27.05.2010)
автоколлиматор для измерения угла скручивания -  патент 2384812 (20.03.2010)
Наверх