способ получения лазерного излучения на связанно-свободных электронных переходах молекул

Классы МПК:H01S3/22 газовые 
Автор(ы):, , , ,
Патентообладатель(и):Герасимов Геннадий Николаевич,
Кириллова Нина Николаевна,
Крылов Борис Евгеньевич,
Логинов Андрей Васильевич,
Щукин Сергей Анатольевич
Приоритеты:
подача заявки:
1994-03-01
публикация патента:

Использование: изобретение относится к источникам лазерного излучения на молекулярных переходах, прежде всего к эксимерным лазерам, работающим преимущественно в ультрафиолетовой и вакуумной ультрафиолетовой областях спектра. Сущность: газообразную активную среду, создаваемую известным способом, просвечивают в продольном направлении атомарным излучением, попадающим по длине волны в полосу спонтанного излучения с лазерных уровней, и при этом создают такую спектральную плотность просвечивающего излучения, при которой вероятность вынужденных переходов с лазерных уровней больше вероятности спонтанных переходов с этих уровней. В результате за счет сужения полосы усиления и увеличения в пределах этой полосы плотности излучения снижаются пороговые значения заселенности лазерных уровней. 1 ил.
Рисунок 1

Формула изобретения

Способ получения лазерного излучения на связанно-свободных электронных переходах молекул, основанный на создании активной среды путем возбуждения газа или газовых смесей, включающий воздействие на температуру активной среды извне, отличающийся тем, что активную среду просвечивают в продольном направлении атомарным излучением, попадающим по длине волны в полосу спонтанного излучения с лазерных уровней, и при этом создают такую спектральную плотность просвечивающего излучения, при которой вероятность вынужденных переходов с лазерных уровней больше вероятности спонтанных переходов с этих уровней, при этом возбуждение газа осуществляют при давлениях больше 0,01 атм.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к источникам лазерного излучения на молекулярных переходах, прежде всего к эксимерным лазерам, работающим преимущественно в ультрафиолетовой и вакуумной ультрафиолетовой областях спектра.

Известен способ получения лазерного излучения на связанно-свободных переходах молекул инертного газа и молекул галогенидов инертных газов, осуществляемый в эксимерных лазерах, который основан на возбуждении инертного газа или смесей инертного газа с галогеносодержащими молекулами электрическим разрядом или пучками электронов (см. например, Сборник "Газовые лазеры" (перевод. с англ. ). Под ред. И.Мак-Даниеля и У.Нигена. М. Мир, 1986. Монография А. В. Елецкого и Б.М. Смирнова "Физические процессы в газовых лазерах". М. Энергоатомиздат, 1985).

Недостатком указанного способа является то, что при его реализации требуются чрезмерно высокие заселенности лазерных уровней, с чем связана техническая сложность реализации способа.

Дело в том, что при связанно-свободных переходах полосы спонтанного излучения имеют большую (порядка 10 нм) спектральную ширину. По этой причине при реализации данного способа стараются получить высокие концентрации возбужденных молекул (способ получения лазерного излучения на связанно-свободных   электронных переходах молекул, патент № 20939391016 см-3) в соответствии с известным выражением для пороговых условий генерации (см. предыдущие ссылки).

способ получения лазерного излучения на связанно-свободных   электронных переходах молекул, патент № 2093939

где K коэффициент усиления среды, Nв заселенность верхнего уровня, способ получения лазерного излучения на связанно-свободных   электронных переходах молекул, патент № 2093939способ получения лазерного излучения на связанно-свободных   электронных переходах молекул, патент № 2093939 - спектральная ширина полосы усиления, А21 вероятность спонтанного перехода, способ получения лазерного излучения на связанно-свободных   электронных переходах молекул, патент № 2093939 - длина волны, с скорость света.

Столь высокие концентрации возбужденных молекул достигаются лишь при высоких (1 20 атм) давлениях газа и при использовании мощного импульсного разряда с предыонизацией или плотных импульсных пучков высокоэнергетичных электронов. Поэтому источники излучения превращаются в технически сложные устройства.

Недостатком способа является и то, что не может быть получен непрерывный режим излучения.

Еще один недостаток способа значительные потери заселенности лазерных уровней на спонтанное излучение в связи с медленным развитием процесса вынужденного излучения при широкой полосе усиления. Это имеет место даже в лазерах на фторидах инертных газов, где получены КПД выше 1%

Наиболее близким к заявляемому (прототипом) является способ, в котором при возбуждении газа осуществляют внешнее воздействие на температуру активной среды, охлаждая или нагревая газовую смесь (Сборник "Газовые лазеры" (перевод. с англ.). Под ред. И. Мак-Даниеля и У. Нигена. М. Мир, 1986. Монография А. В. Елецкого и Б.М. Смирнова. "Физические процессы в газовых лазерах". М. Энергоатомиздат, 1958). Таким образом повышают заселенность лазерных уровней и, следовательно, улучшают параметры источников.

Однако недостатки, указанные выше, сохраняются и в прототипе.

Целью настоящего изобретения является снижение технической сложности устройств для получения лазерного излучения на связанно-свободных переходах, повышение КПД, достижение непрерывного во времени режима излучения.

Поставленная цель достигается тем, что приготовляемую известным способом инверсную среду просвечивают в продольном направлении атомарным излучением, попадающим по длине волны в полосу спонтанного излучения с лазерных уровней, и при этом создают такую спектральную плотность просвечивающего излучения, при которой вероятность вынужденных переходов с лазерных уровней больше вероятности спонтанных переходов с этих уровней.

Просвечивание активной среды атомарным излучением дает следующие результаты. Вынужденное излучение начинает концентрироваться в пределах спектральной ширины атомной линии (примерно в 103 раз меньшей, чем ширина полосы спонтанного излучения с лазерных уровней). Следовательно (см. приведенную выше формулу для порогового коэффициента усиления), снижается пороговая заселенность лазерных уровней. Кроме того, снижаются потери на спонтанное излучение с лазерных уровней.

Эффективность воздействия атомарного излучения начинает резко нарастать в том случае, когда спектральная плотность атомарного излучения в активной среде достигает такой величины, при которой вероятность вынужденных переходов с лазерных уровней под действием атомарного излучения становится больше вероятности спонтанных переходов с лазерных уровней. В этом случае на порядки могут быть снижены пороговые заселенности лазерных уровней, следовательно, могут быть снижены давления возбуждаемого газа, использованы более простые способы возбуждения и более простые в техническом плане устройства для получения лазерного облучения.

Экспериментальное подтверждение заявляемого способа выполнено следующим образом. Активная среда создавалась в разрядной трубке, заполненной криптоном до давления 100 Торр. Возбуждение газа осуществлялось разрядом постоянного тока, использовался стандартный блок питания. Ток разряда поддерживался на одном уровне в пределах 10 100 мА. Внутренний диаметр разрядного капилляра 3 мм, длина 235 мм. Помещенная в термостат разрядная трубка охлаждалась до криогенных температур. При этом интенсивность полосы спонтанного излучения с лазерных уровней молекул криптона (максимум интенсивности полосы вблизи 146 нм) достигала максимального значения. Просвечивание активной среды осуществлялось ксеноновой резонансной лампой, излучающей на длине волны 146,96 нм в непрерывном режиме резонансную линию ксенона шириной 0,01 нм. Это позволяло создавать спектральные плотности излучения, при которых вероятность вынужденных переходов с лазерных уровней становится выше вероятности спонтанных переходов. Окно лампы располагалось вплотную с окном разрядной трубки (окна из фтористого магния). Противоположное окно разрядной трубки располагалось перед входной щелью вакуумного спектрометра с фотоэлектрической регистрацией спектра.

Результаты эксперимента представлены на фиг.1. На фрагменте 1 показана атомная резонансная линия ксенона, зарегистрированная спектрометром при выключенной разрядной трубке. Ширина атомной линии определяется в данном случае аппаратной функцией спектрального прибора и составляет 0,5 нм (то есть реальная интенсивность линии в максимуме занижена при регистрации данным спектрометром примерно в 50 раз). Фрагмент 2 показывает полосу излучения криптона, регистрируемую при включенной разрядной трубке, но выключенной резонансной лампе. Коэффициент усиления активной среды в центре полосы составляет при этом по нашим измерениям 10-3 10-4 см-1. И, наконец, фрагмент 3 показывает результат, полученный при работающей разрядной трубке после включения резонансной лампы. Коэффициент усиления активной среды на длине волны атомной линии превышает 0,1 см-1.

Столь высокий коэффициент усиления получен при заселенности лазерных уровней (по нашим оценкам) 1012 см-3 в непрерывном режиме излучения при возбуждении газа простым в техническом отношении разрядом.

Принципиально возможно выполнение подобных экспериментов в широком диапазоне длин волн, прежде всего в ультрафиолетовой и вакуумной ультрафиолетовой областях спектра, путем подбора молекулярной активной среды и соответствующего источника атомарного излучения.

Использование предлагаемого способа получения лазерного излучения на связанно-свободных переходах молекул обеспечивает по сравнению с существующими способами следующие преимущества:

снижение пороговых значений заселенности лазерных уровней, что может быть эффективно использовано при разработке действующих устройств;

эффективное использование заселенности лазерных уровней (значительное снижение потерь на спонтанное излучение) и, следовательно, повышение КПД источника;

возбуждение газа сравнительно простым в техническом отношении способом и возможность относительно просто наращивать длину активной среды;

осуществление непрерывного режима излучения.

Класс H01S3/22 газовые 

электроразрядный многоканальный лазер с диффузионным охлаждением газовой смеси -  патент 2410810 (27.01.2011)
химический кислородно-йодный лазер с буферным газом -  патент 2390892 (27.05.2010)
эксимерный лазер -  патент 2357339 (27.05.2009)
активная среда для электроразрядного со-лазера или усилителя и способ ее накачки -  патент 2354019 (27.04.2009)
способ и устройство квазинепрерывного фотоионизационного возбуждения плотных лазерных сред -  патент 2349999 (20.03.2009)
эксимерный лазер с субпикосекундным импульсом излучения -  патент 2349998 (20.03.2009)
газовый лазер -  патент 2330364 (27.07.2008)
устройство возбуждения плазмы газового разряда -  патент 2330363 (27.07.2008)
способ поддержания и регулирования концентрации галогеноводорода в газоразрядной трубке лазера и газоразрядная трубка лазера на парах галогенидов металлов -  патент 2295811 (20.03.2007)
импульсно-периодический газовый лазер и лазерная хирургическая установка -  патент 2286628 (27.10.2006)
Наверх