магнетрон цилиндрического типа для напыления внутренней поверхности тел
| Классы МПК: | C23C14/35 с использованием магнитного поля, например распыление магнетроном |
| Автор(ы): | Балалыкин Н.И. |
| Патентообладатель(и): | Объединенный институт ядерных исследований |
| Приоритеты: |
подача заявки:
1994-10-20 публикация патента:
27.02.1997 |
Магнетрон цилиндрического типа для напыления внутренней поверхности тела, состоящий из вакуумной камеры, проходного высоковольтного изолятора, катода-мишени, элементов магнитной системы и источников питания, отличающийся тем, что каждый элемент магнитной системы выполнен из набора кольцевых постоянных магнитов со встречными полюсами с соотношением толщины магнитов 1:4: 1, состыкованных через шайбы-концентраторы магнитного поля, выполненные из ферромагнитного материала и толщиной, определяемой из соотношения
6 < h1/h0 < 7,
где h0 - толщина шайбы-концентратора магнитного поля;
h1 - толщина единичного кольцевого магнита,
а на концах каждого элемента магнитной системы установлены шайбы-полюсные наконечники толщиной h1 из ферромагнитного материала.
6 < h1/h0 < 7,
где h0 - толщина шайбы-концентратора магнитного поля;
h1 - толщина единичного кольцевого магнита,
а на концах каждого элемента магнитной системы установлены шайбы-полюсные наконечники толщиной h1 из ферромагнитного материала.
Описание изобретения к патенту
Класс C23C14/35 с использованием магнитного поля, например распыление магнетроном
