многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа

Классы МПК:H01J23/00 Конструктивные элементы приборов с использованием времени пролета электронов, отнесенных к группе  25/00
Автор(ы):
Патентообладатель(и):Алямовский Илья Владимирович
Приоритеты:
подача заявки:
1988-02-03
публикация патента:

Использование: в электровакуумных приборах СВЧ О-типа. Сущность изобретения: в многолучевом приборе с электродинамической системой, в которой пролетные каналы расположены в несколько рядов на концентрических цилиндрических поверхностях, центр каждого пролетного канала в выходном сечении смещен в азимутальном направлении относительно его центра во входном сечении на расстояние, задаваемое определенным соотношением. 4 ил.
Рисунок 1, Рисунок 2, Рисунок 3, Рисунок 4

Формула изобретения

Многолучевой электровакуумный СВЧ-прибор О-типа, содержащий магнитную фокусирующую систему и электродинамическую систему с пролетными каналами, расположенными в несколько рядов на концентрических цилиндрических поверхностях, ось которых совпадает с направлением однородного фокусирующего магнитного поля, отличающийся тем, что, с целью повышения средней мощности и долговечности за счет улучшения токопрохождения, центр каждого пролетного канала в выходном сечении электродинамической системы смещен в азимутальном направлении относительно его центра во входном сечении на расстояние многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026i согласно соотношению

многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026

где Ki коэффициент для i-го ряда, принимающий значения от 0,8 до 2,3;

L длина пролетного канала, м;

Iо ток парциального луча, А;

Bz индукция однородного фокусирующего магнитного поля, Тл;

Ri радиус цилиндрической поверхности, на которой располагаются оси каналов i-го ряда, м;

Nj, Ni число электронных лучей в j-м и i-м рядах соответственно.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к электровакуумным приборам О-типа, в частности к многолучевым клистронам и лампам бегущей волны.

Целью изобретения является повышение средней выходной мощности и долговечности за счет улучшения токопрохождения.

Конструкция прибора приведена на фиг. 1 4.

На фиг. 1 представлена схема расположения пролетных каналов прибора, O1O2 ось прибора, 1 каналы некоторого i-го ряда, 2 оси этих каналов, многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026i угол между осью прибора и осью канала i-го ряда, 3 каналы внутренних рядов, 4 оси этих каналов, Ri радиус, на котором расположены центры каналов i-го ряда, многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 вектор индукции продольного внешнего фокусирующего поля, многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026i смещение в азимутальном направлении центра пролетного канала в выходном сечении относительно центра во входном сечении.

На фиг. 2 показана силовая линия магнитного поля, создаваемая линейным током.

На фиг. 3 представлена проекция Bмноголучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 20690262m на азимутальное направление магнитной индукции многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026, созданной током m-го канала, расположенного на расстоянии rm от q-го парциального потока. многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026m угол между радиусом Ri и прямой mq.

На фиг. 4 показан суммарный вектор магнитной индукции многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026, т. е. векторная сумма внешнего продольного фокусирующего поля многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 и азимутального поля многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026, созданного парциальными электронными потоками. Токи, протекающие по каналам, внешним по отношению к рассматриваемому i-му, не влияют на величину азимутальной компоненты поля на радиусе Ri.

Устройство работает следующим образом.

За счет векторного сложения внешнего фокусирующего магнитного поля многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 и собственного магнитного поля многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 силовые линии магнитного поля становятся винтовыми линиями с углом закручивания ai.. Электроны каждого парциального потока движутся в этом поле, в среднем следуя силовым линиям. В результате оси парциальных потоков также приобретают вид винтовых линий с тем же углом закручивания, так что центр каждого потока в выходном сечении смещается в азимутальном направлении на величину многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026i. Для снижения динамического токооседания оси парциальных каналов должны быть развернуты в пространстве на тот же угол многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026i, так что центр каждого парциального канала в выходном сечении смещен в азимутальном направлении на величину многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026i относительно его центра во входном сечении.

Величина угла закручивания и линейного смещения в азимутальном направлении вычисляется из следующих соображений. Согласно закону Био-Савара-Лапласа магнитная индукция линейного тока J направлена азимутально (фиг. 2) и на расстоянии r от него равна:

многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 (1)

Здесь сила тока J выражена в амперах, r в метрах, Bмноголучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 в тесла, магнитная проницаемость свободного пространства многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026o= 4многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 206902610-7 Гн/м.

Азимутальная компонента поля Bмноголучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 в точке q (фиг. 3) на радиусе Ri складывается из поля Bмноголучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 20690261, созданного суммарным током пучков, размещенных внутри окружности радиуса Ri, и поля Bмноголучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 206902621, созданного током пучков, размещенных на радиусе Ri. При равенстве парциальных токов Jo и равномерном их распределении по окружностям каждого ряда с номером j<i с учетом (1) имеем:

многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 (2)

где Nj число пучков в j-м ряде.

Индукция Bмноголучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 20690262 вычисляется суммированием азимутальных составляющих магнитных полей, создаваемых в точке q остальными парциальными токами i-го ряда каналов (фиг. 3):

многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 (3)

(2) и (3) получаем суммарную азимутальную компоненту поля в точке:

многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 (4)

Из отношения Bмноголучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 и Вz вычисляется угол закручивания

многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 (5)

и линейное смещение многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026i центра потока в азимутальном направлении на длине канала L:

многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 (6)

Величины L и Ri должны быть выражены в одинаковых единицах, смещение многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026i в метрах, Bz в тесла.

В формулу (6) введен поправочный коэффициент ki 0,8 -2,3.

Нижняя его граница меньше 1, потому что соотношение (1), а следовательно, (5) и (6) справедливы для линейного тока бесконечной длины, для конечной длины тока Bмноголучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026 меньше на небольшую величину (менее 10%). Кроме того, угол закручивания должен выбираться с учетом дестабилизирующих факторов. Верхняя граница коэффициента ki определяется из конструктивных соображений. В устройствах со многими рядами каналов углы поворота ai в каждом ряду разные. Выполнение расстояния смещения многолучевой электровакуумный свч-прибор о-типа, патент № 2069026i для каждого из рядов точно в соответствии с формулой (6) без поправочного коэффициента ki к несимметричному взаимному размещению каналов разных рядов в выходном сечении электродинамической системы по сравнению с его входным сечением.

Желательно, в ряде случаев, сохранить симметричное расположение выходных сечений, сделав его таким же, как входные. Определяющим здесь будет угол закрутки внешнего ряда каналов, поскольку он несет наибольший ток. Этим и объясняется выбор верхней границы для поправочного коэффициента ki, проведенный на основании анализа ряда реальных систем.

В случае применения реверсной фокусирующей системы, содержащей участки однонаправленного поля и короткие зоны равенства (изменения знака поля), расчет угла наклонов оси канала разводится по приведенной формуле в пределах каждого участка однородного поля с учетом его знака.

Техническая реализация предложенного решения для приборов, пролетные каналы которых содержат внутри электродинамической системы зазоры взаимодействия, как в клистронах или лампах бегущей волны на цепочке связанных резонаторов, может быть осуществлена, например, смещением прямолинейных каналов отдельных труб дрейфа относительно соседних согласно соотношению (6) (ступенчатая аппроксимация винтовой линии). 1

Класс H01J23/00 Конструктивные элементы приборов с использованием времени пролета электронов, отнесенных к группе  25/00

электронная пушка магнетронного типа для формирования винтовых электронных пучков с ловушкой отраженных электронов -  патент 2523447 (20.07.2014)
коллектор электровакуумного прибора свч о-типа -  патент 2518165 (10.06.2014)
охлаждающая установка для осветительного устройства -  патент 2513026 (20.04.2014)
индуктивно-емкостный генератор (lc-генератор) -  патент 2499320 (20.11.2013)
ускоряющая структура с параллельной связью -  патент 2472244 (10.01.2013)
способ производства литой мишени для магнетронного распыления из сплава на основе молибдена -  патент 2454484 (27.06.2012)
способ производства литой мишени из сплава на основе тантала для магнетронного распыления -  патент 2454483 (27.06.2012)
способ получения составной мишени для распыления из сплава вольфрам-титан-рений -  патент 2454482 (27.06.2012)
способ получения составной мишени для распыления из сплава вольфрам-титан-кремний -  патент 2454481 (27.06.2012)
замедляющая система -  патент 2453945 (20.06.2012)
Наверх