способ изготовления накопительных конденсаторов

Классы МПК:C30B11/02 без использования растворителей
C30B29/46 серо-, селен- или теллурсодержащие соединения
Автор(ы):, , , ,
Патентообладатель(и):Черновицкое отделение Института проблем материаловедения АН Украины (UA)
Приоритеты:
подача заявки:
1992-07-01
публикация патента:

Изобретение относится к конденсаторостроению и может быть использовано при разработке конденсаторов различных устройств радиоэлектроники, а также конденсаторов сглаживания пиковых перегрузок сетей электропитания. Цель изобретения - повышение удельной емкости, увеличение рабочего напряжения и возможности значительной миниатюризации. Предлагаемый способ заключается в приготовлении диэлектрического материала путем интеркаляции в расплаве нитрита калия и формировании токопроводящих обкладок. 1 табл.
Рисунок 1

Формула изобретения

СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ НАКОПИТЕЛЬНЫХ КОНДЕНСАТОРОВ, включающий создание слоистой структуры, отличающийся тем, что слоистую структуру получают путем выращивания слоистого монокристалла полупроводника селенида индия методом Бриджмена, затем отделяют скалыванием одну пластину и интеркалируют ее в расплаве нитрата калия при 380 410oС в течение 15 30 с.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к конденсаторостроению и может быть использовано при разработке конденсаторов как для различных устройств радиоэлектроники, так и для сглаживания пиковых перегрузок сетей электропитания.

В настоящее время известны способы изготовления накопительных конденсаторов, основанные на явлении поляризации объемного заряда двойного электрического слоя, возникающего на границах раздела раствора электролита с электродами, разнесенными на расстояния, соизмеримые с макроскопическими размерами конденсаторов.

Известен способ изготовления накопительного конденсатора, состоящий в том, что два электрода погружаются в раствор электролита (или разделяются сепаратором, содержащим электролит), после чего такую систему помещают в корпус с последующей герметизацией. Этот способ позволяет создавать конденсаторы, обладающие большой удельной емкостью.

Несмотря на то, что указанный способ является новым шагом в конденсаторостроении, следует обратить внимание на следующие его недостатки:

принцип создания таких конденсаторов по классической схеме два электрода, разделенных электролитом с необходимым корпусированием, естественно ограничивает возможности дальнейшей миниатюризации с одновременным повышением удельных характеристик,

явления, лежащие в основе работы таких конденсаторов, определяющие и способ их изготовления, приводят к ограничению значений их параметров, не превышающих: по удельной емкости 10-15 Ф/см3; по рабочему напряжению 1-2,5 В.

Цель изобретения устранение указанных недостатков посредством принципиально нового подхода к созданию накопительных конденсаторов.

Цель достигается тем, что в известных способах изготовления накопительных конденсаторов, заключающихся в возникновении, благодаря явлению поляризации, объемнозарядного двойного электрического слоя на границах раздела раствора электролита с электродами, используется классическая схема конструкции таких конденсаторов, т.е. два электрода с соответствующими электрическими выводами, разделенные электролитом, помещаются в герметичный корпус, причем увеличение удельной емкости и рабочего напряжения для этих конденсаторов ограничивается используемыми классом электродов и рабочим электролитом, соответственно.

Сопоставительный анализ предлагаемого способа с прототипом показывает, что предлагаемый отличается от известного тем, что с целью увеличения удельной емкости, повышения рабочего напряжения с обеспечением одновременной возможности значительной микроминиатюризации посредством нового подхода состоит в изготовлении накопительного конденсатора в виде одного образца слоистого монокристаллического полупроводника InSe, который интеркалируют нитритом калия при 380-410оС в течение 15-30 с. Таким образом, предлагаемый способ соответствует критерию изобретения "новизна".

Накопительный конденсатор изготавливается в виде одного образца монокристалла слоистого полупроводника InSe, который интеркалируется из расплава нитрита калия (KNO2). Полупроводниковые монокристаллы InSe обладают структурой, состоящей из стопы отдельных слоев. Атомы в слое соединены сильными (преимущественно ковалентными) связями, а между слоями действуют слабые силы Ван-дер-Ваальса. Наличие "гостевой" степени свободы в таких кристаллах позволяет вводить чужеродные молекулы "гости" в области Ван-дер-Ваальсовой связи, т.е. проводить интеркаляцию. Экспериментально нами было установлено, что в InSe легко внедряется нитрит калия из его расплава. Получаемый интеркалированный материал представляет собой накопительный конденсатор. При этом в отличие от прототипа:

возможна значительная миниатюризация накопительных конденсаторов, так как толщину пластин интеркалата InSe<KNO<SUB>2
принцип работы таких накопителей по предлагаемому способу, основанный на не вполне понятых в настоящее время эффектах межслойного накопления заряда в полученных интеркалатах, позволяет увеличить удельную емкость почти в 20 раз, а рабочее напряжение повысить до 10 В.

П р и м е р. Монокристаллы InSe выращивались по методу Бриджмена из стехиометрического состава компонент. Из слитков полученных монокристаллов механическим скалыванием вдоль слоев отделялись пластинки размерами 2,5 х 2,5 х 0,5 мм. С двух сторон на противоположных гранях, совпадающих с кристаллографическими плоскостями скола, наносились контакты токопроводящим клеем марки ВК-20Т и токоотводы в виде медной проволоки. Полученный образец помещают в фарфоровую ячейку с расплавом соли при 390оС. Продолжительность экспонирования составляла 25 с (см. таблицу). В завершение приготовленные образцы герметизировали со всех сторон компаундом марки Ф-47.

Изготовленные предлагаемым способом конденсаторы обладают удельной емкостью Суд 30-300 Ф/см3 и рабочим напряжением 2-10 В.

Таким образом, использование предлагаемого способа изготовления накопительного конденсатора позволяет значительно повысить удельную емкость всех известных в настоящее время конденсаторов, увеличить рабочее напряжение накопителей с одновременным обеспечением возможности значительной миниатюризации.

Класс C30B11/02 без использования растворителей

способ получения кристаллов галогенидов таллия -  патент 2522621 (20.07.2014)
способ и устройство для выращивания монокристаллов сапфира -  патент 2520472 (27.06.2014)
способ выращивания кристаллов галогенидов серебра и таллия -  патент 2487202 (10.07.2013)
способ получения кристаллических заготовок твердых растворов галогенидов серебра для оптических элементов -  патент 2486297 (27.06.2013)
способ изготовления монокристаллов фторидов кальция и бария -  патент 2400573 (27.09.2010)
способ получения полупроводниковых кристаллов типа aiibvi -  патент 2380461 (27.01.2010)
лазерное вещество -  патент 2369670 (10.10.2009)
способ получения оптического материала для квантовой электроники на основе кристаллов двойных фторидов -  патент 2367731 (20.09.2009)
лазерное вещество -  патент 2362844 (27.07.2009)
инфракрасная лазерная матрица на основе кристаллов калия и рубидия пентобромплюмбита -  патент 2354762 (10.05.2009)

Класс C30B29/46 серо-, селен- или теллурсодержащие соединения

способ эксфолиации слоистых кристаллических материалов -  патент 2519094 (10.06.2014)
способ выращивания кристаллов сульфидных соединений на основе полуторных сульфидов редкоземельных элементов -  патент 2495968 (20.10.2013)
способ получения монокристаллов теллурида галлия (ii) -  патент 2485217 (20.06.2013)
способ изменения обыкновенного показателя преломления нелинейного кристалла gase -  патент 2472876 (20.01.2013)
дисульфид хрома-меди-железа с анизотропией магнитосопротивления -  патент 2466093 (10.11.2012)
способ получения ag-au халькогенида -  патент 2458190 (10.08.2012)
способ получения монокристаллов и устройство для его осуществления -  патент 2456385 (20.07.2012)
монокристаллический железомарганцевый сульфид с колоссальной магнитострикцией -  патент 2435734 (10.12.2011)
легированные теллуриды свинца для термоэлектрического применения -  патент 2413042 (27.02.2011)
способ синтеза полупроводниковых квантовых точек -  патент 2381304 (10.02.2010)
Наверх