способ фотоседиментационного анализа дисперсности порошковых материалов однородного вещественного состава

Классы МПК:G01N15/02 определение размеров частиц или распределения их по размерам
G01N15/04 исследование осаждения частиц в суспензиях 
Автор(ы):, ,
Патентообладатель(и):Астахов Александр Валентинович,
Акционерное общество "Агрохим-Бизнес"
Приоритеты:
подача заявки:
1992-08-05
публикация патента:

Сущность изобретения: способ фотоседиментационного анализа дисперсности порошковых материалов однородного вещественного состава заключается в том, что пропускают пучок лучей цилиндрической формы вначале через назагруженную кювету и измеряют начальное значение величины фототока, создаваемого нерассеянным лучом, прошедшим через незагруженную кювету. Задавая величину относительной методической погрешности способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757/способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 определяют величину H. Располагают пучок лучей так, чтобы его ось находилась на глубине A от поверхности суспензии. Загружают кювету суспензией и измеряют промежуток времени t в течение которого оптическая плотность суспензии диспергированных частиц порошка с момента начала седиментации остается постоянной и измеряют относительную оптическую плотность D(t) суспензии при t> способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 По формуле Стокса определяют радиус rm наиболее крупных частиц порошка. По скорости изменения относительной оптической плотности vД при t>способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 определяют плотность n(r) распределения частиц порошка как функции радиуса, плотность способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) распределения массы порошка, среднее значение радиуса <r>, среднее значение квадрата радиуса <r> и стандартное отклонение способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757. Для ускорения анализа осуществляют пошаговое сканирование пучка лучей. 2 з. п. ф, 1 ил.
Рисунок 1

Формула изобретения

1. СПОСОБ ФОТОСЕДИМЕНТАЦИОННОГО АНАЛИЗА ДИСПЕРСНОСТИ ПОРОШКОВЫХ МАТЕРИАЛОВ ОДНОРОДНОГО ВЕЩЕСТВЕННОГО СОСТАВА, включающий последовательное пропускание пучка параллельных лучей света перпендикулярно направлению седиментации, измерение фототока J0, прошедшего через жидкость без порошка, и зависимости изменения во времени величины фототока от нерассеянного света J(t), прошедшего через суспензию, определение радиусов r осаждающихся частиц по формуле

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

где H глубина просвечивания,

t текущее время,

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 коэффициент пропорциональности между скоростью стоксова осаждения частицы и квадратом ее радиуса,

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

где rm плотность массы вещества порошка;

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757g плотность жидкой фазы суспензии;

g ускорение свободного падения;

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 динамическая вязкость жидкой фазы при температуре измерений,

отличающийся тем, что используют пучок света цилиндрической формы с неизменным круговым поперечным сечением заданного радиуса R, задают относительную погрешность Dn/способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 определения плотности распределения частиц порошка по их радиусам n(r), а глубину H просвечивания между осью пучка и свободной поверхности суспензии выбирают из условия способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 при этом радиус наиболее крупных частиц порошка rm определяют за промежуток времени способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757, при котором фототок от нерассеянного излучения J(способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757) с момента начала стационарной седиментации остается неизменным, затем по текущим значения фототока и скорости его возрастания в моменты времени t > способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 находят нормированные плотность распределения частиц порошка по их радиусам

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

и плотность распределения массы порошка по радиусам его частиц

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что предварительно устанавливают глубину H просвечивания, обеспечивающую погрешность способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757/способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 меньше требуемой, в режиме сканирования поступательно перемещают пучок света вверх в направлении свободной поверхности суспензии с паузами вплоть до достижения глубины просвечивания, обеспечивающей требуемую погрешность, и находят плотность распределения частиц порошка по их радиусам n(r) и плотность распределения массы порошка по радиусам его частиц способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) для каждого дискретного значения глубины просвечивания.

3. Способ по пп. 1 и 2, отличающийся тем, что определяют интегральные средние значения < r > радиуса частиц, квадрата радиуса < r2 > и стандартное отклонение способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 распределения значений радиусов по следующим зависимостям:

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 = (<r> - <r>2)1/2/<r>.

Описание изобретения к патенту

Изобретение относится к оптическим методам анализа, а более точно к фотоэлектрическому способу седиментационного анализа дисперсности порошковых материалов однородного вещественного состава. Этот способ может быть использован для измерения гранулометрического состава порошков в физической химии, в измерительной технике, фармакологии, в пищевой промышленности при производстве крахмала, муки, сухого молока, шоколада, кофе, какао, при производстве минеральных удобрений и средств защиты растений, синтетических материалов, металлических порошков, цемента, керамики, кварца, глины и т.д.

Известен способ измерения распределения порошка по гранулометрическому составу частиц путем фотоэлектирического сканирования и устройство для его осуществления, в котором непосредственно получают распределение частиц в анализируемой пробе порошка по размерам в режиме сканирования, при котором узкий пучок света перемещают в направлении действия силы гравитации. В однородной суспензии частиц кривая их распределения по размерам может быть получена путем измерения зависимости концентрации частиц от глубины. При этом предполагается, что поперечная толщина светового пучка пренебрежимо мала, а осаждение частиц суспензии происходит в стационарном стоксовом режиме. В пределах этих допущений в способе обоснован алгоритм расчета.

В указанном способе использован узкий пучок света, однако отсутствует точная оценка погрешности измерений, обусловленная существованием у реальных пучков света конечного поперечного сечения.

В режиме непрерывного сканирования неизбежна потеря информации о количестве частиц достаточно малых размеров, поскольку при осаждении они отстают от сканирующего пучка света.

Известен также фотоэлектрический способ сендиментационного анализа диспеpсных систем однородного вещественного состава, заключающийся в том, что пропускают пучок лучей через незагруженную кювету и измеряют начальное значение величины фототока, создаваемого нерассеянным пучком лучей. Затем загружают кювету суспензией равномерно диспергированных частиц порошка. В процессе седиментации измеряют значения величин фототока, создаваемого прошедшей через кювету нерассеянной частью пучка лучей. Измеряют относительную оптическую плотность D(t) суспензии диспеpгированных частиц порошка по формуле

D(t) lnI0/It, где I0 сила фототока, создаваемая пучком лучей, прошедших через незагруженную кювету; It сила фототока в текущий момент времени t, и по формуле Стокса v способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757r2 определяют величины радиусов r частиц, осаждающихся в суспензии, v скорость осаждения частиц (см. например. П.А.Коузов "Основы дисперсного анализа промышленных пылей и измельченных материалов", Ленинград, Химия. 1971, с. 169-180).

При этом относительная оптическая плотность суспензии пропорциональна суммарной поверхности S0r частиц дисперсной фазы, радиус которых находится в промежутке от нуля до r

S0r КlnI0/It, где К константа, характеризующая оптические свойства измерительной системы, независящие от процесса седиментации и свойств системы регистрации фототока, через S0r определяется поверхность Sr"r всех частиц, радиусы которых находятся в промежутке от r" до r. Затем по формуле

Qrr= способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757rmKSrrспособ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757= способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757rmKln Irспособ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757/Ir определяют массу фракций, радиусы которых находятся в интервале от r" до r. При этом Ir" и Ir зарегистрированные значения фототока в те моменты времени, которые связаны с радиусами r" и r законом оседания Стокса, способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 плотность материала частиц, rm среднее арифметическое значение радиусов r" и r, коэффициент К установлен экспериментально.

Кроме того, указанный способ предусматривает, что на измерительную кювету перпендикулярно ее боковым стенкам направляется пучок параллельных световых лучей, сформированных с помощью специальной корректировочной системы "конденсор диафрагма". Свет, рассеянный суспензией, проходит через вторую диафрагму и посредством второго конденсора фокусируется на фотоэлементе, преобразуется в электрической ток, который регистрируется на приборе, причем глубина прохождения пучка света относительно поверхности суспензии не изменяется во времени.

В указанном способе непосредственно определяются только интегральные характеристики дисперсности. Нельзя без дальнейшей обработки получить информацию дифференциального характера. Обе эти процедуры требуют длительного времени.

Используются системы формирования коллимированных пучков параллельных световых лучей, осложняющих техническую реализацию способа. Стремление к созданию очень узких пучков одновременно повышает влияние на результаты измерений флюктуаций в суспензии, искажающих стоксову картину гравитационного осаждения.

В основу настоящего изобретения поставлена задача создания фотоэлектрического способа седиментационного анализа дисперсных систем однородного вещественного состава, который позволил бы, учитывая геометрические параметры пучка излучений, определять количество частиц каждой фракции дисперсной системы при сокращенном времени анализа, при этом повысить метрологическую точность измерения.

Поставленная задача решается тем, что в фотоэлектрическом способе седиментационного анализа дисперсных систем однородного вещественного состава, согласно изобретению, используют пучок света цилиндрической формы с неизменным круговым поперечным сечением заданного радиуса R, задают относительную погрешность способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 / способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 определения плотности распределения частиц порошка по их радиусам способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r), а глубину просвечивания Н между осью пучка и свободной поверхностью суспензии выбирают из условия Hспособ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 0,7R/способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 при этом радиус наиболее крупных частиц порошка rm определяют за промежуток времени способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757, при котором фототок от нерассеянного излучения I(способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757) с момента начала стационарной седиментации остается неизменным, затем по текущим значениям фототока и скорости его возрастания в моменты времени t > способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 находят нормированные плотности распределения частиц порошка по их радиусам

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

и плотность распределения массы порошка по радиусам его частиц

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

Целесообразно, чтобы предварительно устанавливали глубину просвечивания Н, обеспечивающую погрешность способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 / способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 меньше требуемой, в режиме сканирования поступательно перемещали пучок света вверх в направлении свободной поверхности суспензии с паузами вплоть до достижения глубины просвечивания, обеспечивающей требуемую погрешность и находили плотность распределения частиц порошка по их радиусам способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (r) и плотность распределения массы порошка по радиусам его частиц способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) для каждого дискретного значения глубины просвечивания.

При пошаговом сканировании учитывают уменьшение глубины просвечивания, определяемое числом шагов, производя усреднение измеряемой оптической плотности между двумя последовательными паузами.

Полезно, чтобы определяли интегральные средние значения <r> радиуса частиц, квадрата радиуса <r> и стандартное отклонение способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 распределения значений радиусов

<r> rmспособ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

<r> способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757= (<r> <r>2)способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757<r>.

Достоинством предлагаемого способа является непосредственное определение дифференциальных распределений частиц в анализируемой пробе порошка и ее массы по размерам частиц, исключая традиционные промежуточные две стадии: непосредственное определение интегральных характеристик и последующий дифференциальный анализ. Время проведения измерений минимально, оно в 2-50 раз меньше относительно известных способов.

В предлагаемом способе не предъявляется строгое требование к размерам поперечного сечения пучка света. Это позволяет уже в одном цикле измерений существенно снизить влияние различных флуктуаций в суспензии на точность измерения и расширить диапазон исследуемых частиц за счет пространственного усреднения эффектов рассеяния, поскольку засвечивается достаточно большой объем суспензии. Для реализации способа можно использовать простое устройство, поскольку отпадает необходимость в коллимированных пучках света пренебрежимо малых размеров в поперечном сечении.

На чертеже показано схематично устройство для реализации фотоэлектрического способа седиментационного анализа дисперсных систем однородного вещественного состава.

Для реализации заявленного способа седиментационного анализа дисперсных систем однородного вещественного состава используют устройство, содержащее кювету 1, внутри которой размещается анализируемая суспензия 2.

С одной стороны кюветы 1 размещен источник 3 излучения, от которого пучок 4 лучей цилиндрической формы радиуса сечения R направлен на кювету 1.

С другой стороны кюветы 1 размещен фоточувствительный элемент 5, который предназначен для улавливания прошедших через кювету 1 лучей.

Фотоэлектрический способ седиментационного анализа дисперсных систем однородного вещественного состава осуществляется следующим образом.

Из пробы порошка однородного вещественного состава, дисперсность которого требуется установить, и дисперсионной среды, в качестве которой выбирается прозрачная жидкость, изготавливается суспензия. Суспензия загружается в измерительную кювету 1 (фиг. 1) с прозрачными стенками. Предполагается, что в начальном состоянии частицы диспергированы равномерно по всему объему суспензии. В этом состоянии концентрация суспензии постоянна. Принимают, что частицы осаждаются со стоксовой скоростью. Для частиц радиуса эта скорость определяется уравнением

v способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757r2, (1) где способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (2) способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757m плотность материала частиц порошка; способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757g плотность дисперсионной жидкости; g ускорение свободного падения; способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757- вязкость жидкости при температуре измерений.

Осаждающаяся суспензия используется в качестве рассеивателя пучка лучей, падающих на одну из стенок кюветы. Предварительно фотоэлектрическим способом измеряют интенсивность излучения, прошедшего через незагруженную кювету 1 (фиг. 1). Далее тем же способом определяют после начала осаждения зависимость от времени интенсивности излучения нерассеянного суспензией пучка лучей. По этим данным определяют зависимость от времени оптической плотности осаждающейся суспензии, находящейся в падающем пучке лучей.

Оптической плотностью в момент времени t является величина

D(t) lnI0/It, где I0 измеренная сила фототока от излучения, прошедшего через незагруженную кювету, I(t) сила фототока от нерассеянного суспензией излучения в любой момент времени t > 0 после начала осаждения. Оптическая плотность изменяется во времени только с момента времени t способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757. За это время самые крупные частицы, первоначально находившиеся на поверхности суспензии, войдут в кювете в область, просвечиваемую пучком излучения. Задача состоит в определении по перечисленным данным всех характеристик дисперсности, обусловленной геометрическими условиями взаимодействия излучения с суспензией.

Этими характеристиками являются следующие величины. Во-первых, это плотность распределения частиц способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) в пробе порошка по значениям их стоксова радиуса. Произведение способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)dr равно доле тех частиц, размеры которых попадают в бесконечно малый промежуток от r до r + dr. Поэтому

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)dr 1 (3)

В выражении (3) rmax обозначает радиус самых крупных частиц порошка.

Во-вторых, дисперсность характеризуется плотностью распределения массы порошка способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) по значениям радиусов его частиц. Она также позволяет определить долю массы, приходящейся на любой бесконечно малый промежуток значений радиусов. Величина способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (r) связана с плотностью способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) соотношением

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (4) и удовлетворяет условию, аналогичному (3):

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)dr 1 (5)

Плотности распределений способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) и способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (r) дают максимально подробную и исчерпывающую характеристику дисперсности. Через эти величины можно найти долю частиц или массы порошка, приходящихся на любой конечный интервал радиусов (r1; r2) от 0 до rmax. Эти доли определяются интегралами

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)dr и способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)dr Если известна масса М отобранной пробы порошка, то величины

Mспособ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)dr и M способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)dr равны массам, которые приходятся соответственно на бесконечно малый интервал (r; r + dr) и любой конечный интервал (r1; r2) значений радиусов частиц.

Кроме упомянутых интегральных распределений через плотность для полноты анализа необходимы такие интегральные характеристики как средний радиус частиц <r>

<r> способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757rспособ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)dr (6) среднее значение квадрата радиуса <r>:

<r> способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757r2способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)dr (7) и среднее стандартное отклонение:

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757= (<r> <r>2)1/2/<r> (8)

Исходной закономерностью ослабления света суспензией является следующая:

D ln Io/I(t) способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757nL способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 dr r2способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)p(r,t) В ней L толщина кюветы в направлении распространения падающего луча, n количество любых центров рассеяния в единице объема суспензии в момент времени t 0 (начало осаждения); I0 фототок от света, прошедшего через кювету с одной только жидкостью, (используемой для изготовления суспензии); I(t) фототок от света, прошедшего через суспензию в момент времени t > 0; P(r,t) часть площади S способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757R2 пятна засвечивания, находящаяся в момент времени t ниже пересечения с ним верхней границы пространственного распределения в суспензии частиц радиуса r.

Введенная выше величина Р(r,t) имеет следующие свойства: P(r,t) 1, если упомянутая граница в момент t находится на глубине h < H R; P (r,t) изменяется от 1 до 0, когда граница проходит через область засвечивания; P(r,t) 0 при всех последующих t. Точный вид функции P(r,t) таков:

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 tспособ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757+ способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757t способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 tспособ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 20457571 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 arccos способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757+

Здесь величина способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 разрывная функция, имеющая значения

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(x)= способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757,x>0x<0 чья производная

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757= способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(x) является способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 функцией Дирака.

Главное свойство последней состоит в том, что

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(x-a)f(x)dx f(a) если область интегрирования G содержит точку х а и в ней функция f(x) не имеет особенностей. Величина в квадратных скобках в выражении для Р(r,t) является законом убывания этой величины от 1 до 0 при (Н R)/способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757r2< t< (H + R)/ r2. При этих t величина способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (t) H способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757r2t определяет положение верхней границы пространственного распределения частиц радиуса в пятне засвечивания.

Дифференцирование Р(r,t) по времени дает:

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757t способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 tспособ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 Эта производная отлична от нуля только при t способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (H R)/способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757rm2. Соответственно, при этих t

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 2способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757nLспособ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757r r4способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

Путем тождественных преобразований полученная величина приводится к виду

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757dx(1+способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757x)способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r(1+способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757x)1/2),

в котором способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757= R/H. Если способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757<< 1, то правомерно разложение в ряд по степеням малого параметра способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757. Удерживая в разложении только три первых члена, получим

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)(1+0,09способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 20457572)+0,18 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 20457572 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 r + 0,03 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 20457572 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757r2

где r способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757. Если, например, способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757= 0,1, то с рассчитанной методической погрешностью не более 0,15%

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 = H/способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757r2 причем, t способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757= H/способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757rm2. Следовательно, при малых способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 функция распределения способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) может быть установлена по скорости изменения величины способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(t) lnI(t)/I0. При этом формой и размером поперечного сечения пучка света определяется методическая погрешность результата: от формы и размеров сечения зависят численные коэффициенты приведенного выше разложения в ряд по степеням способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757.

После определения n из условия нормировки функции способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) окончательно получается следующее выражение для способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r):

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (9)

и затем также нормированное на единицу выражение для функции распределения способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(t):

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (10)

По функциям способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) и способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) определяются моменты распределений, т.е. величины <r>, где n 1, 2, а <r> символ усреднения по тому или другому распределению (способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (r) или способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)). По распределению способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r):

<r> = способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

<r> способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

Совершая в числителях правых частей обоих этих равенств замену переменной интегрирования r на t H/способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757r2, учитывая, что способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757=Н/способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757rm2, и, производя в промежуточных преобразованиях интегрирование по частям, окончательно находим

<r> rm способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (11)

<r> способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (12)

Полученные результаты позволяют определить характеризующее дисперсность стандаpтное отклонение способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 по формуле

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 (<r> <r>2)/<r> (13)

П р и м е р 1. Ниже приведен пример осуществления предлагаемого способа анализа дисперсности кварцевого песка "Centriforce abrasive".

В микропроцессор вводятся:

величина плотности способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757m 2,65 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 10-3 кг/м;

методическая погрешность анализа, например, не более 0,15% во всем диапазоне размеров частиц;

температура Т изменений 20оС;

используют пучок лучей цилиндрической формы от источника гелий-неонового лазера с величиной R 6,5 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 10-4 м, ось которого перпендикулярна направлению седиментации, при этом глубина, на которой расположена ось пучка относительно поверхности суспензии, устанавливается Н 1,22 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 10-2 м; значения Н и R вводятся в компьютер;

в качестве дисперсионной жидкости используют дистиллированную воду, что определяет значение коэффициента Стокса способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757, например, способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757= 35 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 105 м-1 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 с-1.

Пропускают пучок лучей через незагруженную кювету и определяют начальное значений фототока I0, например, I0 207 мА. Просвечивание суспензии в описываемом примере осуществляют без сканирования на неизменной глубине Н.

В измерительную кювету с помощью дозатора, например, шприца, вводят необходимый объем суспензии, приготовленной путем перемешивания кварцевого песка с водой. После чего микропроцессор включает датчик текущего времени и программу вычислений. Измеряют промежуток времени способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757, в течение которого оптическая плотность суспензии с момента начала седиментации остается постоянной. В описываемом примере способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757= 3 с. По формуле Стокса с учетом этого промежутка времени определяют радиус наиболее крупных частиц порошка rm= способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 например, при способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757= 3 с rm 34 мкм.

В процессе седиментации через определенные промежутки времени, например 0,1; 1; 10; 30 с измеряют:

значения величины фототока I(t), создаваемого прошедшей через кювету нерассеянной частью пучка (см. таблицу ниже),

значения радиусов частиц, осаждающихся в суспензии r(t) способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

Определяют соответствующие значения относительной оптической плотности D lnI0/I(t) и скорости ее изменения vD(t) способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 при t > способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757.

По установленным значениям этих величин определяют плотность способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) распределения частиц порошка и плотность способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) распределения массы порошка по значениям радиусов по формулам 9. 10. Кроме того, без непосредственного определения этих функций распределения находят соответствующие им интегральные характеристики дисперсности частиц порошка:

среднее значение радиуса <r> диспергированных частиц, среднее значение квадрата радиуса <r> и стандартное отклонение способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 по формулам 11, 12, 13.

В данном примере значения t, I, r выборочно представлены в таблице, после которой приведены рассчитанные значения <r>, <r>, способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757, способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

Время измерения, включая и время анализа в стационарном режиме с заданной величиной относительной методической погрешности для данного порошка, составило способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 204575720 мин.

П р и м е р 2. При проведении измерений с использованием дискретного сканирования располагают пучок лучей так, чтобы середина отрезка находилась на глубине (H + +способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757H) < Hmax от поверхности суспензии.

После загрузки кюветы суспензией равномерно диспергированных в жидкости частиц порошка осуществляют пошаговое перемещение пучка лучей в направлении, противоположном направлению седиментации с шагом, равным R в течение времени (t1 + t2), где t1 время, требуемое для перемещения пучка лучей на шаг, и t2 время, требуемое для измерения. При этом луч перемещают со скоростью, например, 10 мм/с, 5 мм/с, 2 мм/с, 1 мм/с, 0,5 мм/с, 0,2 мм/с. Время t2 рассчитано таким образом, что в течение этого времени получают достоверную информацию о координатах пучка лучей относительно кюветы, а также оптической плотности суспензии. Например, частота преобразования аналоговых сигналов фотодатчика, в зависимости от требуемой достоверности, осуществляется с дискретностью 7 измерений за 0,1 с, за 1 с, за 10 с и за 1 мин.

Затем измеряют промежуток времени способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757, в течение которого оптическая плотность суспензии с момента начала седиментации остается постоянной. При этом, например, перемещение луча осуществляют со скоростью 10 мм/с, а частоту преобразования значений величины фототока I(t) осуществляют с дискретностью не менее 7 измерений на 0,1 с. Достоверность измерений равна 0,9999.

По формуле Стокса с учетом промежутка времени способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 определяют радиус rm наиболее крупных частиц порошка

rm= способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 где n(способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757) количество шагов, проделанных к моменту времени способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757,

при каждой остановке пучка лучей определяют изменения оптической плотности D(t) в течение времени измерений t2 при t > способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757,

определяют плотность распределения частиц порошка по их радиусам

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r)=)- способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

определяют плотность распределения массы порошка по радиусам частиц способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r):

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757(r) способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757

определяют интегральные характеристики дисперсионности частиц порошка: среднее значение радиуса <r>:

<r> rm способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 среднее значение квадрата радиуса <r> частиц порошка:

<r> способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757 и стандартное отклонение способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757:

способ фотоседиментационного анализа дисперсности   порошковых материалов однородного вещественного состава, патент № 2045757= (<r> <r>2)/<r>.

В перечисленных формулах D"(t) оптическая плотность, измеренная за время t2, и экстраполированная в промежутках между соседними паузами.

Прекращают сканирование при достижении пучком глубины Н.

Заявленный фотоэлектрический способ седиментационного анализа дисперсных систем однородного вещественного состава практически может быть использован: в фармакологии, в пищевой промышленности при производстве крахмала, муки, сухого молока, шоколада, кофе и т.д. при производстве минеральных удобрений и средств защиты растений, синтетических материалов, металлических порошков, в порошковой металлургии, при производстве строительных материалов, например, цемента, керамики, кварца, стекла, глины и т.д. в лакокрасочной промышленности.

Указанный способ значительно сокращает время анализа дисперсности порошков, используемых в технологических процессах, что позволяет повысить качество выпускаемой продукции и снизить энергозатраты.

Класс G01N15/02 определение размеров частиц или распределения их по размерам

способ автоматического контроля крупности дробленой руды в потоке -  патент 2529636 (27.09.2014)
способ и устройство для оптического измерения распределения размеров и концентраций дисперсных частиц в жидкостях и газах с использованием одноэлементных и матричных фотоприемников лазерного излучения -  патент 2525605 (20.08.2014)
способ замеров параметров выхлопных газов двс -  патент 2525051 (10.08.2014)
устройство для определения размерно-количественных характеристик взвешенных в воде частиц -  патент 2524560 (27.07.2014)
способ определения дисперсности водогазовой смеси -  патент 2522486 (20.07.2014)
способ определения максимального размера и концентрации субмикронных аэрозольных частиц -  патент 2521112 (27.06.2014)
способ автоматического контроля крупности частиц в потоке пульпы -  патент 2517826 (27.05.2014)
способ оценки параметров факела распыла дисперсионноспособной технологической жидкости и установка для его осуществления -  патент 2516581 (20.05.2014)
устройство анализа загрязненности моторного масла двигателя внутреннего сгорания дисперсными частицами -  патент 2516200 (20.05.2014)
оптический способ регистрации кинетики агрегации частиц в мутных суспензиях -  патент 2516193 (20.05.2014)

Класс G01N15/04 исследование осаждения частиц в суспензиях 

способ измерения размеров частиц суспензий и лазерное устройство четырехволнового смешения для его реализации -  патент 2422806 (27.06.2011)
устройство для анализа воды -  патент 2415399 (27.03.2011)
устройство для седиментационного исследования продуктов мокрого измельчения и суспензий -  патент 2386118 (10.04.2010)
способ седиментационного исследования продуктов мокрого измельчения и суспензий -  патент 2381486 (10.02.2010)
ультразвуковой преобразователь для исследования седиментационных процессов -  патент 2351913 (10.04.2009)
способ определения размера частиц методом седиментации -  патент 2216008 (10.11.2003)
седиментационный гранулометр -  патент 2196974 (20.01.2003)
способ и устройство для измерения размера частиц в суспензиях -  патент 2192631 (10.11.2002)
устройство для анализа воды -  патент 2132049 (20.06.1999)
способ определения природных разновидностей асбеста -  патент 2102725 (20.01.1998)
Наверх