способ очистки фторида водорода
Классы МПК: | C01B7/19 фтор; фтористый водолрод |
Автор(ы): | Белов А.Ф., Громов О.Б., Леднев Е.Ф., Стерхов М.И. |
Патентообладатель(и): | Всероссийский научно-исследовательский институт химической технологии |
Приоритеты: |
подача заявки:
1993-03-11 публикация патента:
10.05.1995 |
Изобретение относится к неорганической химии. Сущность способа очистки фторида водорода от примесей SiF4 и PF5 заключается в том, что газовую смесь пропускают через фторид натрия при 225 - 275°С и давлением 50 - 150 мм рт. ст. Степень очистки HF от SF4 составляет 100%, а от PF5 - 99,3%.
Формула изобретения
СПОСОБ ОЧИСТКИ ФТОРИДА ВОДОРОДА от тетрафторида кремния путем пропускания через фторид натрия при 225 275oС, отличающийся тем, что, с целью обеспечения возможности одновременной очистки от пентафторида фосфора, процесс осуществляют при давлении 50 150 мм рт. ст.Описание изобретения к патенту
Изобретение относится к неорганической химии, в частности к технологии получения и очистки безводного фторида водорода. Наиболее близким по технической сущности к изобретению является способ, принятый за прототип, согласно которому НF и SiF4 улавливают совместно на фториде натрия, а затем проводят раздельную десорбцию НF при 350оС, а SiF4 при 550оС. Недостатками прототипа являются двухстадийность процесса, сравнительно высокие энергозатраты, меньшая емкость сорбента для SiF4 вследствие совместной с НF сорбции, невозможность очистки НF от присутствующего в качестве примеси РF5 как на стадии сорбции, так и на стадии десорбции. Целью изобретения является обеспечение возможности одновременной очистки НF от присутствующего в газе РF5. Поставленная цель достигается тем, что очистку безводного фторида водорода от фторида кремния и фторида фосфора производят пропусканием газовой смеси через фторид натрия при 225-275оС и давлении 50-150 мм рт.ст. П р и м е р 1. Газовую смесь массой 1,5 кг, состоящую из 86 мас. НF, 10 мас. SiF4 и 4 мас. РF5, пропускают через 12 кг гранулированного NaF при температуре 260+ +10оС и давлении 145 + 5 мм рт.ст. Пропущенный через сорбент НF конденсировали в емкости при температуре жидкого азота. По окончании процесса в емкости оказалось 1,27 кг НF. Анализ продукта показал присутствие в нем следов SiF4 и около 0,03 мас. РF5. Степень очистки НF от SiF4 практически нацело, а от РF5 99,3%П р и м е р 2. Смесь газов, в которой содержатся те же, что и в примере 1, компоненты, пропускали через слой гранулированного NaF при 230+ 5оС и давлении 50+ 60 мм рт. ст. Расход исходной газовой смеси составлял 0,017 дм3/см3 мин. Прошедшие через сорбент газы содержали до данным ИКС-анализа не более 0,02 мас. SiF4 и около 0,03 мас. РF5. Степень очистки НF от указанных соединений составила более 99%
Преимуществами предлагаемого способа очистки безводного НF от примесей SiF4 и РF5 по сравнению с известными техническими решениями являются: проведение очистки в одну стадию; возможность улавливания РF5; снижение потерь НF; снижение энергозатрат; упрощение процесса очистки НF. Внедрение предлагаемого способа в производство позволит сократить длительность процесса переработки газовых смесей, содержащих НF, SiF4 и РF5, и уменьшить трудо- и энергозатраты.
Класс C01B7/19 фтор; фтористый водолрод