газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления электрической или электронной детали, способ получения тонкой фторуглеродной пленки и способ озоления

Классы МПК:H01L21/3065 плазменное травление; ионное травление
Автор(ы):, , ,
Патентообладатель(и):ЗЕОН КОРПОРЕЙШН (JP)
Приоритеты:
подача заявки:
2002-10-31
публикация патента:

Изобретение относится к газу для плазменной реакции, его получению и использованию. Сущность изобретения: газ для плазменной реакции содержит перфторалкин цепочечной структуры, имеющий 5 или 6 атомов углерода, предпочтительно перфтор-2-пентин. Этот газ для плазменной реакции является пригодным для сухого травления с целью формирования прецизионной структуры, для плазменного химического осаждения из паровой фазы, для формирования тонкой пленки и для плазменного химического озоления. Газ для плазменной реакции синтезируют путем приведения в контакт дигидрофторалканового соединения или моногидрофторалкенового соединения с основным соединением. Изобретение позволяет экономически выгодно в промышленных масштабах получить высокоселективный газ для плазменной реакции. 5 н. и 13 з.п. ф-лы.

Формула изобретения

1. Газ для плазменной реакции, содержащий соединение, представленное следующей формулой (1):

газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948

где R1 представляет собой фтор, перфторалкильную группу, имеющую 1-3 атома углерода или перфторалкенильную группу, имеющую 2-3 атома углерода, R 2 представляет собой перфторалкильную группу, имеющую 1-4 атома углерода, перфторалкенильную группу, имеющую 2-4 атома углерода, или перфторалкинильную группу, имеющую 2-4 атома углерода, при условии, что общее количество атомов углерода в сумме из R1 и R2 составляет 3 или 4, и R1 и R2 могут быть одинаковыми или различными.

2. Газ для плазменной реакции по п.1, где R1 и R 2 в формуле (1) являются независимо выбранными из перфторалкильной группы, имеющей 1-3 атома углерода.

3. Газ для плазменной реакции по п.1, где соединение, представленное формулой (1), представляет собой перфтор-2-пентин.

4. Газ для плазменной реакции по любому из пп.1-3, где содержание соединения, представленного формулой (1), составляет, по меньшей мере, 90 об.% относительно общего количества газа для плазменной реакции.

5. Газ для плазменной реакции по любому из пп.1-3, где содержание соединения, представленного формулой (1), составляет, по меньшей мере, 99,9 об.% относительно общего количества газа для плазменной реакции.

6. Газ для плазменной реакции по п.5, где общее содержание газообразного азота и газообразного кислорода, которые содержатся в качестве остальных микроингредиентов в газе для плазменной реакции, не превышает 200 млн.д. объемных относительно общего количества газа для плазменной реакции.

7. Газ для плазменной реакции по п.5, где содержание влаги, содержащейся в газе для плазменной реакции, не превышает 30 млн.д. массовых относительно общего количества газа для плазменной реакции.

8. Газ для плазменной реакции по любому из пп.1-3, который содержит, по меньшей мере, 70 мас.% соединения, представленного формулой (1), и не более чем 30 мас.%, по меньшей мере, одного вида соединения, выбранного из перфторолефинов, имеющих 2-6 атомов углерода, перфторалканов, имеющих 1-6 атомов углерода, и перфторциклоалканов, имеющих 3-6 атомов углерода.

9. Газ для плазменной реакции по любому из пп.1-3, который содержит соединение, представленное формулой (1), и не более 50 мол.% по отношению к соединению, представленному формулой (1), по меньшей мере, одного вида фторуглеводородов, имеющих 1-6 атомов углерода.

10. Способ получения газа для плазменной реакции, содержащего соединение, представленное следующей формулой (1):

газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948

где R1 представляет собой фтор, перфторалкильную группу, имеющую 1-3 атома углерода, или перфторалкенильную группу, имеющую 2-3 атома углерода, R 2 представляет собой перфторалкильную группу, имеющую 1-4 атома углерода, перфторалкенильную группу, имеющую 2-4 атома углерода, или перфторалкинильную группу, имеющую 2-4 атома углерода, при условии, что общее количество атомов углерода в сумме из R1 и R2 составляет 3 или 4, и R1 и R2 могут быть одинаковыми или различными, отличающийся тем, что, по меньшей мере, одно соединение, выбранное из соединений, представленных следующей далее формулой (2), и соединений, представленных следующей далее формулой (3):

газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948

газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948

где R1 и R 2 являются такими же, как определено в формуле (1), и один из Х и Y в формуле (3) представляет собой водород, а другой представляет собой фтор, взаимодействует с основанием.

11. Способ по п.10, где, по меньшей мере, одно соединение, выбранное из соединений, представленных формулой (2), и соединений, представленных формулой (3), взаимодействует с основным соединением, и полученную таким образом реакционную жидкость подвергают разделению твердый продукт - жидкость, и исходный продукт для реакции, составляющий выделенную таким образом жидкость, дистиллируют с получением газа для плазменной реакции, содержащего соединение, представленное формулой (1), с чистотой, по меньшей мере, 98 об.%.

12. Способ по п.10 или 11, где в получаемом газе для плазменной реакции R 1 и R2 в формуле (1) независимо выбирают из перфторалкильных групп, имеющих 1-3 атома углерода.

13. Способ по п.11, где получают газ для плазменной реакции, содержащий перфтор-2-пентин цепочечной структуры, в виде соединения, представленного формулой (1), с чистотой, по меньшей мере, 98 об.%.

14. Способ по п.11, где исходный продукт для реакции, содержащий соединение, представленное формулой (1), подвергают фракционной дистилляции в атмосфере инертного газа группы 18 периодической таблицы с получением газа для плазменной реакции по любому из пп.5-7.

15. Способ по п.10, где, по меньшей мере, одно соединение, выбранное из соединений, представленных формулой (2), и соединений, представленных формулой (3), взаимодействует с основным соединением, полученную таким образом реакционную жидкость подвергают разделению твердый продукт - жидкость, и исходный продукт для реакции, составляющий выделенную таким образом жидкость, подвергают фракционной дистилляции с получением газа для плазменной реакции с чистотой, по меньшей мере, 99,9 об.%, и следовые количества оставшихся примесей удаляют из полученного таким образом газа с получением газа для плазменной реакции по любому из пп.5-7.

16. Способ изготовления электрической или электронной детали, отличающийся тем, что он включает в себя стадию воздействия на поверхность металлической детали сухого травления с использованием в качестве травильного газа газа для плазменной реакции по любому из пп.1-9.

17. Способ получения тонкой фторуглеродной пленки, отличающийся тем, что он включает в себя формирование тонкой фторуглеродной пленки путем химического осаждения из паровой фазы с использованием газа для плазменной реакции по любому из пп.1-9.

18. Способ озоления, отличающийся тем, что озоление осуществляют с использованием газообразной композиции, содержащей газ для плазменной реакции по любому из пп.1-9.

Приоритет по пунктам:

08.11.2001 по пп.10-13;

22.03.2002 по пп.1-9, 14-18.

Описание изобретения к патенту

Текст описания приведен в факсимильном виде. газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948 газ для плазменной реакции, способ его получения, способ изготовления   электрической или электронной детали, способ получения тонкой   фторуглеродной пленки и способ озоления, патент № 2310948

Класс H01L21/3065 плазменное травление; ионное травление

устройство для плазмохимического травления -  патент 2529633 (27.09.2014)
способ плазмохимического травления материалов микроэлектроники -  патент 2456702 (20.07.2012)
устройство для локального плазмохимического травления подложек -  патент 2451114 (20.05.2012)
состав газовой смеси для формирования нитрид танталового металлического затвора методом плазмохимического травления -  патент 2450385 (10.05.2012)
способ локальной плазмохимической обработки материала через маску -  патент 2439740 (10.01.2012)
способ локального плазмохимического травления материалов -  патент 2436185 (10.12.2011)
устройство для микроволновой вакуумно-плазменной обработки конденсированных сред на ленточных носителях -  патент 2419915 (27.05.2011)
реактор для плазменной обработки полупроводниковых структур -  патент 2408950 (10.01.2011)
способ удаления органических остатков с пьезоэлектрических подложек -  патент 2406785 (20.12.2010)
устройство для плазмохимической обработки материалов -  патент 2395134 (20.07.2010)
Наверх